抛光、抛光方法、抛光液、抛光膜及生产工艺技术
0017-0001、 弹性体发泡磨石材料及其制造方法
摘要、 本发明提供一种弹性体泡沫磨石材料及其制造方法该材料把磨石粒料牢固固定，硬而韧性并有适度的橡胶弹性，并且具有耐磨耗性和耐热性，具有优异的精密研磨性及抛光效果。上述磨石材料是由以聚异氰酸酯构成的主剂成分和芳香族二胺类、发泡剂、整泡剂及固化催化剂所构成的组合物在磨石粒料存在下，使其发泡固化，制成研磨用及/或抛光用聚脲类弹性体泡沫磨石材料，上述芳香族二胺类是单独的芳香族二胺低聚物或和芳香族二胺化合物的混合物。
0075-0002、 一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法
摘要、 本发明涉及一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法属微电子封装技术领域。该方法以铝板为基板首先对其进行碱洗之后，对铝板进行电解抛光，再用阳极氧化工艺在铝板表面制备绝缘层，对已具有绝缘层的铝板在烘箱中进行烘干，利用磁控溅射、蒸发、化学镀等工艺在绝缘铝基板表面沉积金属铜层，然后进行电镀，使铜层厚度增厚到10～35μm。本发明的方法使绝缘层具有优良的抗热冲击性能，阳极氧化绝缘层在热冲击实验中不会开裂。绝缘层的绝缘性能也满足封装要求，其中绝缘电阻率大于10，13，Ω·cm，击穿电压大于1000V，介电常数约为7。
0118-0003、 亚微米高纯透明氧化铝陶瓷材料的制备方法
亚微米高纯透明氧化铝陶瓷材料的制备方法属于透明氧化铝陶瓷材料制备技术领域。其特征在于它依次含有如下的步骤：用干压加冷等静压的成型工艺把α－Al2O3粉末成型；然后对这些坯体使用无压预烧结：无压预烧结的温度为(1200～1350)℃，时间为(30～480)分钟；把预烧结后的坯体置入热等静压炉中进行后处理，处理温度为(1150～1350)℃，压力为(140～190)MPa，保温保压的时间为(30～60)分钟，用Ar气作保护气，得到的陶瓷体相对密度大于99.9％；最后对烧结出的陶瓷体进行平面磨制和抛光。它不用加任何添加剂，工艺简单；采用低温烧结，能耗低；尤其是晶粒尺寸小于1μm，故称为亚微米氧化铝陶瓷。因而具有较高的透光度和机械性能，适合于制造高压钠灯管、高温炉观察窗以及用作装饰材料等。
0124-0004、 能高精度地控制抛光时间的抛光方法和抛光装置
摘要、 本发明提供一种对在绝缘膜(1)上形成铝布线(2)、氧化硅膜(3)的试作晶片进行化学机械抛光的抛光方法和抛光装置。当氧化硅膜(3)的凹凸消失时，中止抛光。根据其结果，由下式(I)确定抛光时间：T＝(D1-D2)/v+t1 (I)，其中D1是中止抛光时的膜厚，D2是目标膜厚，t1是从初始膜厚到膜厚D1所需的时间，v是在平整的基底上成膜的氧化硅膜(3)的构成材料的抛光速度。
0160-0005、 烫画烫字工艺竹制品的加工方法
摘要、 一种烫画烫字工艺竹制品的加工方法该方法包括以下工艺步骤：备料—将竹子按待加工的某种竹制品之规格要求先加工成竹板、竹棍、竹块或竹条等竹料—规整处理—在竹料表面钩勒画出待烫烧字画图案线条轮廓—用高温喷火枪(焊枪)顺着字画图案线条烧灼烫炙进行烫字烫画处理—将半成品竹料按常规方法编制成所需的竹制品—上色—抛光或磨光处理—上漆晾干得成品。本发明的方法可以广泛地运用到生产生活中：如在竹制生活用品上(各种竹制蓝子、竹箱子、竹制乐器、竹制玩具等)烫画烫字。在竹制家俱(竹床、竹茶几、竹屏风等)、各种竹制装修装璜饰品(竹材料制成的匾框条子等)也能用得上。本发明工艺简单、成本低廉，对环境无污染，与现有技术比较，整体外观清新古朴、永不褪色、令人耳目一新有利提高产品档次。
0049-0006、 氧化铝陶瓷制品的制造方法
摘要、 一种氧化铝陶瓷制品的制造方法。它以α－氧化铝(α－Al2O3)为基料，以氧化镁、氧化钴、三氧化二铬等为辅料，经原料处理、压实成型、烧结、抛光工序，其特征在于抛光工序中包含有高温化学抛光着色工艺，该工艺包含两个步骤：a.在氧化气氛和高温下，往已烧结好的氧化铝陶瓷上滴加三氯化铁与铬酸混合物的水溶液，b.在氧化气氛和高温下，往经前述步骤处理的氧化铝陶瓷上滴加硼砂的水溶液。与现有技术相比，该工艺过程简单，产品外表美观光滑、色泽均匀光亮各项化学、物理性能优良，质量稳定，成品合格率高。适合用于渔具行业导线环及纺织行业导丝器的生产。
0029-0007、 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
摘要、 本发明提供一种对化学机械抛光后的半导体晶片表面污染物进行清洗的组合物及方法。此清洗组合物包括羧酸、含胺化合物、膦酸及水。此清洗组合物有用于去除研磨剂残留及在化学机械抛光后半导体晶片表面的金属污染物。
0145-0008、 用质子交换制造铌酸锂光波导的方法及其装置
摘要、 用质子交换制造铌酸锂光波导的方法及其装置主要包括清洗衬底片、在衬底片上制备掩膜、光刻出波导图形、质子交换、退火、端面抛光、波导调整与检查步骤。本发明由于将质子交换的质子源采用用苯甲酸锂稀释的苯甲酸混合溶液，根据质子交换的化学反应原理，在苯甲酸中掺入苯甲酸锂增加了溶液中锂离子浓度，改变了反应中H+到Li+的平衡，使H+浓度降低，由此降低了反应速度和锂离子交换量，使波导与衬底的折射率差减小。结合退火得到更适于与光纤耦合的折射率分布，同时使苯甲酸的腐蚀作用降低，减少了波导缺陷，降低了波导自身的损耗。
0152-0009、 一种制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列的方法
摘要、 一种制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列的方法。采用“填充—掏空”技术制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列，避免了国外制备铁电陶瓷薄片混合式红外探测器焦平面阵列需将陶瓷切片、减薄、抛光、网格化及微组装等复杂工序。与常规薄膜型红外探测器焦平面阵列相比较优势又体现在不需为降低衬底的热容量防止热扩散和提高敏感元的探测灵敏度而制备微桥阵列，其设计思想突破了传统的思维方式。
0038-0010、 用于湿法纺丝的钽喷丝头的表面处理方法
摘要、 一种用于湿法纺丝的钽喷丝头的表面处理方法包括以下的步骤：(a)将金属钽板加工制造成钽喷丝头；(b)对钽喷丝头进行渗氮处理，使用离子氮化炉，使钽喷丝头表面形成渗氮层；(c)将经渗氮处理过的钽喷丝头，采用熔盐电化学方法进行镀膜处理，使其生成一层含有钽酸锂的膜层；(d)将钽喷丝头的出丝面进行抛光处理，磨去出丝面表面绝缘的含有钽酸锂的膜层，留下钽的过渡层。本发明可以显著增加钽喷丝头的硬度，从而增强抗划伤、抗磨损的能力，提高钽喷丝头的使用寿命，同时，又可使镀膜钽喷丝头的可纺性有进一步提高，而能完全取代贵金属喷丝头，从而大大降低生产成本和提高化纤质量。
0063-0011、 一种实体人造石及卫生洁具
0137-0012、 深亚微米底层无机抗反射层SiON的集成方法
0170-0013、 石油原料的脱硫方法
0127-0014、 一种链条的制造方法
0048-0015、 制备纳米碳纤维的方法
0030-0016、 一种抛光膜及其制备方法
0032-0017、 制造复合式无源元件的方法
0024-0018、 无凹陷铜镶嵌结构的制造工艺
0047-0019、 一种聚酰亚胺基板的铜金属化方法
0190-0020、 多模光纤排和棱镜耦合双包层光纤器件及其耦合方法
0012-0021、 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
0058-0022、 墙面抛光打磨机
0119-0023、 平整表面的组合物及方法
0020-0024、 使用化学机械抛光精加工用于接合的晶片的装置和方法
0016-0025、 高图纹浮雕大金币及其模具的制作工艺
0085-0026、 用单个掩模的浅沟道隔离方法
0044-0027、 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
0057-0028、 无套固定义齿的制作及镶复方法
0019-0029、 一种不锈钢化学抛光方法
0120-0030、 抛光设备
0028-0031、 改进的狭缝挤出模头
0151-0032、 利用不饱和聚酯树脂生产卫浴产品及工艺方法和生产设备
0142-0033、 机械手高速高级擦鞋机
0074-0034、 滑动件及其制造法
0025-0035、 冷拔拉延不锈钢复合管的制造工艺
0107-0036、 光固化和热固化树脂组合物及制造印刷线路板的方法
0073-0037、 镜面抛光加工用超级抛光轮
0035-0038、 镁合金表面处理方法
0092-0039、 镁合金固态冲压成型工艺方法
0131-0040、 精密二维光纤阵列
0065-0041、 陶瓷球加工工艺及其设备
0064-0042、 精密叶片热锻模具PCVD等离子体渗镀复合强化方法
0005-0043、 牦牛角手镯的制备方法
0006-0044、 抛光谷物加工机器
0121-0045、 石材表面处理方法
0113-0046、 抛光方法和设备
0165-0047、 弧形再造石板材的制造方法
0076-0048、 铜化学机械研磨中减少碟陷的方法
0149-0049、 对滚动接触元件表面进行精加工的方法
0069-0050、 物理化学的电子束抛光方法
0162-0051、 旋转机构平面轴承与轴心的最适化硬度搭配结构
0022-0052、 采用超声振动的微抛光装置
0080-0053、 抛光组合物及使用它的抛光方法
0026-0054、 制造晶片用的碳化硅舟的切割制造方法
0010-0055、 板状光学元件的制造方法
0193-0056、 用普通车床实现高速钢轧辊抛光的装置及方法
0070-0057、 基于布儒斯特角棱镜反射器回路衰减空腔光谱仪匹配模式
0056-0058、 材料的低温连接
0146-0059、 半导体器件
0087-0060、 光导纤维端面抛光机
0125-0061、 半导体集成电路器件及其制作方法
0148-0062、 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
0132-0063、 墙面抛光打磨机
0176-0064、 采用上游和下游流体分配装置的化学机械抛光方法和设备
0039-0065、 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
0043-0066、 超硬纳米复合薄膜及其制作工艺
0129-0067、 一种植物秸秆铅笔的制作方法
0135-0068、 光导管
0172-0069、 兽角用于制做餐具的应用
0060-0070、 云影石抛光砖及其制作方法
0195-0071、 选择外延法制造源漏在绝缘体上的场效应晶体管
0109-0072、 抛光或平滑化基体的方法
0174-0073、 人造玛瑙、玉石楼梯柱与扶手及制作方法
0098-0074、 用于形成装饰层压纸的耐磨纸及生产该纸的处理方法
0117-0075、 一种人造卵石的制造方法
0191-0076、 化学机械抛光用的多层扣环
0015-0077、 含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
0184-0078、 从玻璃表面溶解镧系氧化物的方法
0104-0079、 化学-机械抛光方法
0091-0080、 半导体激光器列阵的组装设备
0093-0081、 立体装饰材料UP工艺及其产品
0086-0082、 密集阵列和电荷存储器件及其制造方法
0103-0083、 消除机加工应变的设备
0042-0084、 一种抛光砖废泥陶粒及其制备方法
0008-0085、 绿色环保装饰材料
0050-0086、 装配光学器件期间表面间空隙的极限测量系统和方法
0167-0087、 一种压缩机滑片的制造方法
0071-0088、 用于抛光衬垫的调节器和制造该调节器的方法
0001-0089、 一种工艺木质足球的制造方法
0079-0090、 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
0095-0091、 氧化锆增韧氧化铝陶瓷纺织瓷件的制造方法
0102-0092、 抛光组合物
0067-0093、 半导体器件的生产方法及其使用的浆体
0168-0094、 硅半导体晶片及制造多个半导体晶片的方法
0081-0095、 平整表面的组合物及方法
0159-0096、 用于优先除去氧化硅的系统
0100-0097、 多工位的细微孔加工方法及装置
0083-0098、 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
0031-0099、 一种生物降解型抛光膜及其制造方法
0122-0100、 高浓高氮复合肥的粘结造粒工艺
0082-0101、 仿高级装饰材料的外墙涂料及施工方法
0036-0102、 静电键合密封电容腔体的压力传感器及制作工艺
0105-0103、 一种电子级水的集成膜过程生产工艺与过程
0143-0104、 全自动磨钻机
0066-0105、 能实现准球形水果自动成单列输送并均匀翻转的装置
0062-0106、 阴极射线管
0004-0107、 一种微晶玻璃板材的生产方法
0173-0108、 高精度光纤透镜加工方法
0077-0109、 有机半导体器件及其制造工艺
0163-0110、 用于多种处理的立式配置腔室
0199-0111、 具有负温度漂移系数的薄膜滤波器及其制作方法
0054-0112、 含有机添加剂的钽障壁浆液
0187-0113、 人像摄影用玉石影印人像版
0052-0114、 无色透明玻璃内部多色立体图案的形成方法
0197-0115、 来自苛性生物质灰分溶液的有或没有沉积碳的沉淀二氧化硅和硅胶以及制法
0007-0116、 仿真立体凝膜塑像的制配方法
0128-0117、 一种链条的制造方法
0078-0118、 热固性树脂组合物
0059-0119、 磁头及其制造方法、磁头万向架组件和硬盘装置
0033-0120、 金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺
0136-0121、 深亚微米集成电路Cu阻挡层的制备工艺
0123-0122、 铝电解抛光的方法和其应用
0192-0123、 一种断裂青铜器文物的修复方法
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0179-0125、 蛙皮制革加工方法
0194-0126、 一种汽车盘式制动衬片及其制备方法
0181-0127、 辊子生产方法
0014-0128、 化学机械抛光系统及其使用方法
0037-0129、 集成电路硅衬底抛光片表面吸附粒子吸附状态的控制方法
0110-0130、 椭圆茄克型预制棒和保偏光纤的结构和制造方法
0180-0131、 半导体制造装置及半导体元件制造方法
0183-0132、 用于湿法纺丝的钽喷丝头的表面处理方法
0011-0133、 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
0061-0134、 雪花白抛光砖及其制作方法
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0156-0136、 非机动车泥除及其生产方法
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0101-0138、 用于压制工件的方法和设备
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0034-0140、 磁记录介质用玻璃基体的制造方法
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0177-0142、 制造高DOI/高光泽多功能热塑性薄膜的方法
0114-0143、 电解抛光方法
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0053-0148、 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
0018-0149、 牙刷
0068-0150、 石材抛光磨具
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摘要、 本发明提供一种弹性体泡沫磨石材料及其制造方法该材料把磨石粒料牢固固定，硬而韧性并有适度的橡胶弹性，并且具有耐磨耗性和耐热性，具有优异的精密研磨性及抛光效果。上述磨石材料是由以聚异氰酸酯构成的主剂成分和芳香族二胺类、发泡剂、整泡剂及固化催化剂所构成的组合物在磨石粒料存在下，使其发泡固化，制成研磨用及/或抛光用聚脲类弹性体泡沫磨石材料，上述芳香族二胺类是单独的芳香族二胺低聚物或和芳香族二胺化合物的混合物。
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摘要、 本发明涉及一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法属微电子封装技术领域。该方法以铝板为基板首先对其进行碱洗之后，对铝板进行电解抛光，再用阳极氧化工艺在铝板表面制备绝缘层，对已具有绝缘层的铝板在烘箱中进行烘干，利用磁控溅射、蒸发、化学镀等工艺在绝缘铝基板表面沉积金属铜层，然后进行电镀，使铜层厚度增厚到10～35μm。本发明的方法使绝缘层具有优良的抗热冲击性能，阳极氧化绝缘层在热冲击实验中不会开裂。绝缘层的绝缘性能也满足封装要求，其中绝缘电阻率大于10，13，Ω·cm，击穿电压大于1000V，介电常数约为7。
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摘要、 本发明提供一种对在绝缘膜(1)上形成铝布线(2)、氧化硅膜(3)的试作晶片进行化学机械抛光的抛光方法和抛光装置。当氧化硅膜(3)的凹凸消失时，中止抛光。根据其结果，由下式(I)确定抛光时间：T＝(D1-D2)/v+t1 (I)，其中D1是中止抛光时的膜厚，D2是目标膜厚，t1是从初始膜厚到膜厚D1所需的时间，v是在平整的基底上成膜的氧化硅膜(3)的构成材料的抛光速度。
0160-0005、 烫画烫字工艺竹制品的加工方法
摘要、 一种烫画烫字工艺竹制品的加工方法该方法包括以下工艺步骤：备料—将竹子按待加工的某种竹制品之规格要求先加工成竹板、竹棍、竹块或竹条等竹料—规整处理—在竹料表面钩勒画出待烫烧字画图案线条轮廓—用高温喷火枪(焊枪)顺着字画图案线条烧灼烫炙进行烫字烫画处理—将半成品竹料按常规方法编制成所需的竹制品—上色—抛光或磨光处理—上漆晾干得成品。本发明的方法可以广泛地运用到生产生活中：如在竹制生活用品上(各种竹制蓝子、竹箱子、竹制乐器、竹制玩具等)烫画烫字。在竹制家俱(竹床、竹茶几、竹屏风等)、各种竹制装修装璜饰品(竹材料制成的匾框条子等)也能用得上。本发明工艺简单、成本低廉，对环境无污染，与现有技术比较，整体外观清新古朴、永不褪色、令人耳目一新有利提高产品档次。
0049-0006、 氧化铝陶瓷制品的制造方法
摘要、 一种氧化铝陶瓷制品的制造方法。它以α－氧化铝(α－Al2O3)为基料，以氧化镁、氧化钴、三氧化二铬等为辅料，经原料处理、压实成型、烧结、抛光工序，其特征在于抛光工序中包含有高温化学抛光着色工艺，该工艺包含两个步骤：a.在氧化气氛和高温下，往已烧结好的氧化铝陶瓷上滴加三氯化铁与铬酸混合物的水溶液，b.在氧化气氛和高温下，往经前述步骤处理的氧化铝陶瓷上滴加硼砂的水溶液。与现有技术相比，该工艺过程简单，产品外表美观光滑、色泽均匀光亮各项化学、物理性能优良，质量稳定，成品合格率高。适合用于渔具行业导线环及纺织行业导丝器的生产。
0029-0007、 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
摘要、 本发明提供一种对化学机械抛光后的半导体晶片表面污染物进行清洗的组合物及方法。此清洗组合物包括羧酸、含胺化合物、膦酸及水。此清洗组合物有用于去除研磨剂残留及在化学机械抛光后半导体晶片表面的金属污染物。
0145-0008、 用质子交换制造铌酸锂光波导的方法及其装置
摘要、 用质子交换制造铌酸锂光波导的方法及其装置主要包括清洗衬底片、在衬底片上制备掩膜、光刻出波导图形、质子交换、退火、端面抛光、波导调整与检查步骤。本发明由于将质子交换的质子源采用用苯甲酸锂稀释的苯甲酸混合溶液，根据质子交换的化学反应原理，在苯甲酸中掺入苯甲酸锂增加了溶液中锂离子浓度，改变了反应中H+到Li+的平衡，使H+浓度降低，由此降低了反应速度和锂离子交换量，使波导与衬底的折射率差减小。结合退火得到更适于与光纤耦合的折射率分布，同时使苯甲酸的腐蚀作用降低，减少了波导缺陷，降低了波导自身的损耗。
0152-0009、 一种制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列的方法
摘要、 一种制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列的方法。采用“填充—掏空”技术制备Si基铁电薄/厚膜型微绝热结构阵列，避免了国外制备铁电陶瓷薄片混合式红外探测器焦平面阵列需将陶瓷切片、减薄、抛光、网格化及微组装等复杂工序。与常规薄膜型红外探测器焦平面阵列相比较优势又体现在不需为降低衬底的热容量防止热扩散和提高敏感元的探测灵敏度而制备微桥阵列，其设计思想突破了传统的思维方式。
0038-0010、 用于湿法纺丝的钽喷丝头的表面处理方法
摘要、 一种用于湿法纺丝的钽喷丝头的表面处理方法包括以下的步骤：(a)将金属钽板加工制造成钽喷丝头；(b)对钽喷丝头进行渗氮处理，使用离子氮化炉，使钽喷丝头表面形成渗氮层；(c)将经渗氮处理过的钽喷丝头，采用熔盐电化学方法进行镀膜处理，使其生成一层含有钽酸锂的膜层；(d)将钽喷丝头的出丝面进行抛光处理，磨去出丝面表面绝缘的含有钽酸锂的膜层，留下钽的过渡层。本发明可以显著增加钽喷丝头的硬度，从而增强抗划伤、抗磨损的能力，提高钽喷丝头的使用寿命，同时，又可使镀膜钽喷丝头的可纺性有进一步提高，而能完全取代贵金属喷丝头，从而大大降低生产成本和提高化纤质量。
0063-0011、 一种实体人造石及卫生洁具
0137-0012、 深亚微米底层无机抗反射层SiON的集成方法
0170-0013、 石油原料的脱硫方法
0127-0014、 一种链条的制造方法
0048-0015、 制备纳米碳纤维的方法
0030-0016、 一种抛光膜及其制备方法
0032-0017、 制造复合式无源元件的方法
0024-0018、 无凹陷铜镶嵌结构的制造工艺
0047-0019、 一种聚酰亚胺基板的铜金属化方法
0190-0020、 多模光纤排和棱镜耦合双包层光纤器件及其耦合方法
0012-0021、 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
0058-0022、 墙面抛光打磨机
0119-0023、 平整表面的组合物及方法
0020-0024、 使用化学机械抛光精加工用于接合的晶片的装置和方法
0016-0025、 高图纹浮雕大金币及其模具的制作工艺
0085-0026、 用单个掩模的浅沟道隔离方法
0044-0027、 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
0057-0028、 无套固定义齿的制作及镶复方法
0019-0029、 一种不锈钢化学抛光方法
0120-0030、 抛光设备
0028-0031、 改进的狭缝挤出模头
0151-0032、 利用不饱和聚酯树脂生产卫浴产品及工艺方法和生产设备
0142-0033、 机械手高速高级擦鞋机
0074-0034、 滑动件及其制造法
0025-0035、 冷拔拉延不锈钢复合管的制造工艺
0107-0036、 光固化和热固化树脂组合物及制造印刷线路板的方法
0073-0037、 镜面抛光加工用超级抛光轮
0035-0038、 镁合金表面处理方法
0092-0039、 镁合金固态冲压成型工艺方法
0131-0040、 精密二维光纤阵列
0065-0041、 陶瓷球加工工艺及其设备
0064-0042、 精密叶片热锻模具PCVD等离子体渗镀复合强化方法
0005-0043、 牦牛角手镯的制备方法
0006-0044、 抛光谷物加工机器
0121-0045、 石材表面处理方法
0113-0046、 抛光方法和设备
0165-0047、 弧形再造石板材的制造方法
0076-0048、 铜化学机械研磨中减少碟陷的方法
0149-0049、 对滚动接触元件表面进行精加工的方法
0069-0050、 物理化学的电子束抛光方法
0162-0051、 旋转机构平面轴承与轴心的最适化硬度搭配结构
0022-0052、 采用超声振动的微抛光装置
0080-0053、 抛光组合物及使用它的抛光方法
0026-0054、 制造晶片用的碳化硅舟的切割制造方法
0010-0055、 板状光学元件的制造方法
0193-0056、 用普通车床实现高速钢轧辊抛光的装置及方法
0070-0057、 基于布儒斯特角棱镜反射器回路衰减空腔光谱仪匹配模式
0056-0058、 材料的低温连接
0146-0059、 半导体器件
0087-0060、 光导纤维端面抛光机
0125-0061、 半导体集成电路器件及其制作方法
0148-0062、 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
0132-0063、 墙面抛光打磨机
0176-0064、 采用上游和下游流体分配装置的化学机械抛光方法和设备
0039-0065、 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
0043-0066、 超硬纳米复合薄膜及其制作工艺
0129-0067、 一种植物秸秆铅笔的制作方法
0135-0068、 光导管
0172-0069、 兽角用于制做餐具的应用
0060-0070、 云影石抛光砖及其制作方法
0195-0071、 选择外延法制造源漏在绝缘体上的场效应晶体管
0109-0072、 抛光或平滑化基体的方法
0174-0073、 人造玛瑙、玉石楼梯柱与扶手及制作方法
0098-0074、 用于形成装饰层压纸的耐磨纸及生产该纸的处理方法
0117-0075、 一种人造卵石的制造方法
0191-0076、 化学机械抛光用的多层扣环
0015-0077、 含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
0184-0078、 从玻璃表面溶解镧系氧化物的方法
0104-0079、 化学-机械抛光方法
0091-0080、 半导体激光器列阵的组装设备
0093-0081、 立体装饰材料UP工艺及其产品
0086-0082、 密集阵列和电荷存储器件及其制造方法
0103-0083、 消除机加工应变的设备
0042-0084、 一种抛光砖废泥陶粒及其制备方法
0008-0085、 绿色环保装饰材料
0050-0086、 装配光学器件期间表面间空隙的极限测量系统和方法
0167-0087、 一种压缩机滑片的制造方法
0071-0088、 用于抛光衬垫的调节器和制造该调节器的方法
0001-0089、 一种工艺木质足球的制造方法
0079-0090、 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
0095-0091、 氧化锆增韧氧化铝陶瓷纺织瓷件的制造方法
0102-0092、 抛光组合物
0067-0093、 半导体器件的生产方法及其使用的浆体
0168-0094、 硅半导体晶片及制造多个半导体晶片的方法
0081-0095、 平整表面的组合物及方法
0159-0096、 用于优先除去氧化硅的系统
0100-0097、 多工位的细微孔加工方法及装置
0083-0098、 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
0031-0099、 一种生物降解型抛光膜及其制造方法
0122-0100、 高浓高氮复合肥的粘结造粒工艺
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0105-0103、 一种电子级水的集成膜过程生产工艺与过程
0143-0104、 全自动磨钻机
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0004-0107、 一种微晶玻璃板材的生产方法
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