镀膜,镀膜机,镀膜用,镀膜室类技术资料
SY5755-0090-0001、 在用塑料制成的玻璃板上形成涂层的方法
摘要、 本发明涉及在至少一部分用塑料制成的基材上形成涂层的方法其特征在于在至少比涂布基材最高使用温度低20℃的温度下实施。这个方法特别地在至少等于120℃的温度下应用于聚碳酸酯基材，涉及一系列操作循环的循环(温度的稳定作用、涂层、冷却、。本发明还涉及如此得到的产品，其涂层最小平均厚度是2μm，以及这种产品作为车身元件、运输车辆的玻璃板、建筑物或城市不动产以及安全或耐热玻璃板的应用。
SY5755-0179-0002、 多源型平面磁控溅射源
摘要、 一种多源型平面磁控溅射源，包含一个或多个可作旋转运动的内磁组件（６），由若干个可拆换的异质扇形小靶拼成的阴极靶（８）。用于共溅沉积合金膜、多层膜或单质薄膜，靶材利用率达７５％以上，膜层成份配比精度高，厚度均匀性好。
SY5755-0185-0003、 一种新型磁控溅射镀膜机
本实用新型为一种磁控溅射镀膜机，它采用了与蚀刻区形状相一致的靶面及用压条镶嵌的靶面安装形式，使镀膜机的靶材得到充分的利用，同时杜绝了脆性材质的靶面由于装卡形式的不合理而造成靶面碎裂的现象。本实用新型还采用了磁系统内屏蔽的结构，使靶体的制造节省了大量的不锈钢材料，因而镀膜机的成本大大降低。本实用新型的镀膜机可以用于镀制各种薄膜，尤其适合于镀制各种贵重稀有材料及脆性材质的薄膜。
SY5755-0021-0004、 含铪膜形成材料、以及该形成材料和含铪薄膜的制造方法
摘要、 本发明提供一种气化稳定性优良、具有较高成膜速度的含铪膜形成材料以及该形成材料的制造方法。还提供一种具有良好的段差覆盖性的含铪薄膜的制造方法。本发明是一种含有有机铪化合物的含铪膜形成材料的改良，其中该有机铪化合物含有由铪原子与氮原子形成的键，或由铪原子与氧原子形成的键，具有其特征的构成在于形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。
SY5755-0120-0005、 溅射靶及光记录介质
摘要、 一种以硫化锌为主成分、且含有氮化物的膜折射率调整在2.0～2.7的范围的溅射靶以及使用该溅射靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质。依据本发明，可得到一种以溅射形成薄膜之际，可减少溅射时所产生的粒子或结球，使得品质的变动少、批量生产率得以提升，且晶粒微细，体电阻值为5×10-2Ωcm以下、并具备85％以上的高密度的以硫化锌为主成分的溅射靶以及使用该溅射靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质。
SY5755-0041-0006、 改善焊接结构疲劳性能的等离子喷涂法
摘要、 本发明公开了一种本发明的改善焊接结构疲劳性能的等离子喷涂法采用等离子喷涂工艺在焊缝表面喷涂涂层，该喷涂涂层包括以下步骤：a.将试样焊缝处进行吹砂处理；b.在焊缝表面等离子喷涂粘结底层，所述底层材料选自Ni，AL、Ni，Cr或McrALY，M为过渡金属Fe、Ni、Co或NiCo，底层厚度为0.03～0.07mm；c.将粉未等离子喷涂在焊缝表面形成表面涂层，涂层厚度为0.8～1.2mm。本发明通过在接头焊趾处等离子喷涂低弹性模量涂层的方法改善焊接结构的疲劳性能，接头焊趾处等离子喷涂层可改善截面形状变化，降低该处的应力集中，提高焊接结构的疲劳强度；(二、与焊态试件相比，本发明的等离子喷涂试件的疲劳强度提高25.9％，火焰喷涂试件仅提高9.7％。
SY5755-0163-0007、 真空氮化热处理炉
摘要、 本实用新型是真空氮化热处理设备。主要是在外热式卧式真空热处理炉上增加气体分配管，合理布置加热元件和采取有效的保温结构，具有温度、压力、流量、时间、报警自动控制装置。适用于真空氮化、真空回火以及６５０℃以下其它化学热处理和常规热处理。
SY5755-0012-0008、 旋转型的批量生产用CVD成膜装置和在塑料容器的内表面形成CVD膜的成膜方...
摘要、 本发明的目的是提供一种旋转型的批量生产用CVD成膜装置其中高频电源和匹配箱的数量比成膜室的数量少。该装置设有多个柱状体形状的成膜室，该成膜室的每一个中均收容着1个塑料容器；将该成膜室以圆周状、按均等的间隔配置在旋转支承体上；设有通过兼作内部电极的原料气体供给管对收容于各成膜室中的容器的内部导入等离子体的原料气体的原料气体导入装置；设有对兼作各成膜室的一部分的外部电极供给高频能量的高频能量供给装置。
SY5755-0147-0009、 制备纳米硅基发光复合薄膜的方法
摘要、 本发明公开了一种制备纳米硅基发光复合薄膜的方法使用电容耦合等离子体增强化学气相沉积系统电 容板下极板采用双层筛状进气结构，选用高纯硅烷、氢气和氮气作为前驱物，薄膜经过多次循环生长制得。多次循环生长能够抑制硅颗粒的熟化，控制表面形貌以保证薄膜整体的透明度，形成多层结构，薄膜中存在高密度的硅单质颗粒，颗粒尺寸为几个纳米，颗粒数密度为2.0×1013，cm2，颗粒与基底之间的边界很明锐，极大地减少了界面上非辐射复合发生的几率；薄膜具有较大的斯托克斯位移及较低的光吸收，使得薄膜具有很高的发光效率，可用于制备从红光到紫光范围可调的高效发光复合薄膜；薄膜在低温条件下即可生长，并且无需退火等后续处理。
SY5755-0174-0010、 一种气体渗碳炉渗剂滴注系统
摘要、 气体渗碳炉渗剂滴注系统是化学热处理设备的辅助装置。它克服了目前正在应用的滴注设备存在的控制滴量不稳定的缺点，解决了渗剂在滴注过程中碰在炉壁上造成结焦堵塞的问题。本滴注系统特征是由流量计防结焦滴注装置和炉内压力负反馈管路组成，其中防结焦滴注装置的导向细管与冷却套直接接触。应用该渗剂滴注系统，工艺参数稳定，能保证加工件的质量，减轻劳动强度。该系统造价低廉，易于推广。
SY5755-0213-0011、 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
SY5755-0031-0012、 溅射装置
SY5755-0203-0013、 多室连续处理设备的空间气体隔离装置
SY5755-0117-0014、 一种电解用涂层阳极的制造方法
SY5755-0097-0015、 蒸镀工序用喷嘴蒸发源
SY5755-0100-0016、 单MEVVA离子源渗注镀复合处理工艺
SY5755-0092-0017、 金属化
SY5755-0114-0018、 镍钛合金复合化学镀载药镍钴钨薄膜的镀液和工艺方法
SY5755-0052-0019、 单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法
SY5755-0024-0020、 在连续的熔化浸渍精炼中的隔离气体的使用
SY5755-0055-0021、 三氧化二铁包覆碳纳米管磁性复合材料的制备方法
SY5755-0180-0022、 电阻探头
SY5755-0074-0023、 硬质保护膜及其形成方法、以及硬质保护膜包覆工具
SY5755-0014-0024、 用于阴极射线管的内部磁屏蔽材料及其制造方法
SY5755-0081-0025、 等离子体球化处理的陶瓷粉末
SY5755-0098-0026、 溅射靶材料及其生产方法
SY5755-0110-0027、 脉冲偏压电弧离子镀钛，氮化钛纳米多层超硬薄膜的方法
SY5755-0072-0028、 钢件快速热渗铝工艺
SY5755-0177-0029、 聚乙烯薄膜真空镀铝设备
SY5755-0082-0030、 电动剃刀的耐磨不锈切削元件、电动剃刀和制造这种切削元件的方法
SY5755-0210-0031、 一种热镀锌装置
SY5755-0144-0032、 具有高介电常数的氧化材料薄膜
SY5755-0128-0033、 用于锌和锌合金的非*铜电镀方法
SY5755-0076-0034、 适应热膨胀的喷头装备
SY5755-0164-0035、 离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
SY5755-0125-0036、 电镀聚酯树脂成型制品及其制造方法
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SY5755-0143-0038、 无电解镀方法
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SY5755-0115-0040、 多方式、快速室温锌系或锌钙系或铁系清洁型磷化液
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SY5755-0056-0042、 超声快速沉积法制备纳米氧化物透明导电膜的设备及方法
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SY5755-0217-0217、 冷阴极弧光离子镀台阶型靶
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摘要、 本发明涉及在至少一部分用塑料制成的基材上形成涂层的方法其特征在于在至少比涂布基材最高使用温度低20℃的温度下实施。这个方法特别地在至少等于120℃的温度下应用于聚碳酸酯基材，涉及一系列操作循环的循环(温度的稳定作用、涂层、冷却、。本发明还涉及如此得到的产品，其涂层最小平均厚度是2μm，以及这种产品作为车身元件、运输车辆的玻璃板、建筑物或城市不动产以及安全或耐热玻璃板的应用。
SY5755-0179-0002、 多源型平面磁控溅射源
摘要、 一种多源型平面磁控溅射源，包含一个或多个可作旋转运动的内磁组件（６），由若干个可拆换的异质扇形小靶拼成的阴极靶（８）。用于共溅沉积合金膜、多层膜或单质薄膜，靶材利用率达７５％以上，膜层成份配比精度高，厚度均匀性好。
SY5755-0185-0003、 一种新型磁控溅射镀膜机
本实用新型为一种磁控溅射镀膜机，它采用了与蚀刻区形状相一致的靶面及用压条镶嵌的靶面安装形式，使镀膜机的靶材得到充分的利用，同时杜绝了脆性材质的靶面由于装卡形式的不合理而造成靶面碎裂的现象。本实用新型还采用了磁系统内屏蔽的结构，使靶体的制造节省了大量的不锈钢材料，因而镀膜机的成本大大降低。本实用新型的镀膜机可以用于镀制各种薄膜，尤其适合于镀制各种贵重稀有材料及脆性材质的薄膜。
SY5755-0021-0004、 含铪膜形成材料、以及该形成材料和含铪薄膜的制造方法
摘要、 本发明提供一种气化稳定性优良、具有较高成膜速度的含铪膜形成材料以及该形成材料的制造方法。还提供一种具有良好的段差覆盖性的含铪薄膜的制造方法。本发明是一种含有有机铪化合物的含铪膜形成材料的改良，其中该有机铪化合物含有由铪原子与氮原子形成的键，或由铪原子与氧原子形成的键，具有其特征的构成在于形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。
SY5755-0120-0005、 溅射靶及光记录介质
摘要、 一种以硫化锌为主成分、且含有氮化物的膜折射率调整在2.0～2.7的范围的溅射靶以及使用该溅射靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质。依据本发明，可得到一种以溅射形成薄膜之际，可减少溅射时所产生的粒子或结球，使得品质的变动少、批量生产率得以提升，且晶粒微细，体电阻值为5×10-2Ωcm以下、并具备85％以上的高密度的以硫化锌为主成分的溅射靶以及使用该溅射靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质。
SY5755-0041-0006、 改善焊接结构疲劳性能的等离子喷涂法
摘要、 本发明公开了一种本发明的改善焊接结构疲劳性能的等离子喷涂法采用等离子喷涂工艺在焊缝表面喷涂涂层，该喷涂涂层包括以下步骤：a.将试样焊缝处进行吹砂处理；b.在焊缝表面等离子喷涂粘结底层，所述底层材料选自Ni，AL、Ni，Cr或McrALY，M为过渡金属Fe、Ni、Co或NiCo，底层厚度为0.03～0.07mm；c.将粉未等离子喷涂在焊缝表面形成表面涂层，涂层厚度为0.8～1.2mm。本发明通过在接头焊趾处等离子喷涂低弹性模量涂层的方法改善焊接结构的疲劳性能，接头焊趾处等离子喷涂层可改善截面形状变化，降低该处的应力集中，提高焊接结构的疲劳强度；(二、与焊态试件相比，本发明的等离子喷涂试件的疲劳强度提高25.9％，火焰喷涂试件仅提高9.7％。
SY5755-0163-0007、 真空氮化热处理炉
摘要、 本实用新型是真空氮化热处理设备。主要是在外热式卧式真空热处理炉上增加气体分配管，合理布置加热元件和采取有效的保温结构，具有温度、压力、流量、时间、报警自动控制装置。适用于真空氮化、真空回火以及６５０℃以下其它化学热处理和常规热处理。
SY5755-0012-0008、 旋转型的批量生产用CVD成膜装置和在塑料容器的内表面形成CVD膜的成膜方...
摘要、 本发明的目的是提供一种旋转型的批量生产用CVD成膜装置其中高频电源和匹配箱的数量比成膜室的数量少。该装置设有多个柱状体形状的成膜室，该成膜室的每一个中均收容着1个塑料容器；将该成膜室以圆周状、按均等的间隔配置在旋转支承体上；设有通过兼作内部电极的原料气体供给管对收容于各成膜室中的容器的内部导入等离子体的原料气体的原料气体导入装置；设有对兼作各成膜室的一部分的外部电极供给高频能量的高频能量供给装置。
SY5755-0147-0009、 制备纳米硅基发光复合薄膜的方法
摘要、 本发明公开了一种制备纳米硅基发光复合薄膜的方法使用电容耦合等离子体增强化学气相沉积系统电 容板下极板采用双层筛状进气结构，选用高纯硅烷、氢气和氮气作为前驱物，薄膜经过多次循环生长制得。多次循环生长能够抑制硅颗粒的熟化，控制表面形貌以保证薄膜整体的透明度，形成多层结构，薄膜中存在高密度的硅单质颗粒，颗粒尺寸为几个纳米，颗粒数密度为2.0×1013，cm2，颗粒与基底之间的边界很明锐，极大地减少了界面上非辐射复合发生的几率；薄膜具有较大的斯托克斯位移及较低的光吸收，使得薄膜具有很高的发光效率，可用于制备从红光到紫光范围可调的高效发光复合薄膜；薄膜在低温条件下即可生长，并且无需退火等后续处理。
SY5755-0174-0010、 一种气体渗碳炉渗剂滴注系统
摘要、 气体渗碳炉渗剂滴注系统是化学热处理设备的辅助装置。它克服了目前正在应用的滴注设备存在的控制滴量不稳定的缺点，解决了渗剂在滴注过程中碰在炉壁上造成结焦堵塞的问题。本滴注系统特征是由流量计防结焦滴注装置和炉内压力负反馈管路组成，其中防结焦滴注装置的导向细管与冷却套直接接触。应用该渗剂滴注系统，工艺参数稳定，能保证加工件的质量，减轻劳动强度。该系统造价低廉，易于推广。
SY5755-0213-0011、 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
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