(1000180-0073-0001) 金刚石薄膜的涂膜法及包覆金刚石的硬质合金部件
(技术说明) 本发明提供一种金刚石薄膜的涂膜法，其不必形成中间层便能形成金刚石薄膜。由于硬质合金的结合相中所含有的钴具有形成石墨的催化剂作用，该金刚石薄膜在以往是难以形成的。本发明的金刚石薄膜的涂膜法是，将由碳化物(2)的硬质相和含有钴的结合相(1)构成的硬质合金表面上存在的结合相(11)的钴硅化而成为硅化物(3)，然后形成上述金刚石薄膜。
(1000180-0068-0002) 间歇式循环工艺生长金刚石薄膜的方法
(技术说明) 本发明涉及一种在硅基片上通过间歇式循环工艺生长金刚石薄膜的方法，属无机非金属材料化学气相沉积工艺技术领域。本发明利用传统的、现有的热丝化学气相沉积装置，采用间歇压循环工艺生长金刚石薄膜的方法，即间歇性地通入氢气对金刚石薄膜进行刻蚀，以减少薄膜中石墨的含量；本发明方法可制得具有优良电学性能的、适合于制作探测器的金刚石薄膜材料。
(1000180-0018-0003) 一种低温镀复金刚石薄膜的方法及设备
(技术说明) 一种镀复金刚石薄膜的方法和设备，它是应用高频等离子体化学汽相沉积法以一氧化碳和氮气为气源，在衬底表面镀覆金刚石薄膜。用本发明的方法可以在室温至５００℃温度下镀覆金刚石薄膜，因而在塑料、钢、铁等衬底表面都能镀覆金刚石薄膜。本发明的镀覆设备价廉易行，可适用于不同大小和形状的工件。
(1000180-0023-0004) 以金属钛为界面层的非晶金刚石薄膜多层材料、制备方法及其用途
(技术说明) 本发明涉及一种以金属钛为界面层的非晶金刚石薄膜材料，是指在基体材料与非晶金刚石薄膜之间沉积一层金属钛而制备的多层材料。该材料或经热处理后，能使金属钛与非晶金刚石薄膜之间形成一层碳化钛过渡层，造成金属钛与非晶金刚石薄膜之间良好的接触，并降低了界面的势垒高度，同时使结合力得到增强，增加非晶金刚石薄膜的使用寿命，该多层材料可广泛地用作微电子及其平板显示器等新型功能器件的部件。
(1000180-0013-0005) 双阴极辉光放电合成金刚石薄膜
(技术说明) 双阴极辉光放电合成金刚石薄膜的方法属于等离子表面强化的范畴。$本发明的技术特征是在直流辉光放电的装置中把被处理的试样作为阳极，在试样的上方设置双阴极，其中与工件相对的阴极为格栅状，在阳极(试样)和两阴极间分别加入直流高压，利用两阴极间和格栅状阴极内产生的空心阴极效应，使通入的碳氢反应气和H2
(1000180-0017-0006) 用巴基管作基底涂层的金刚石薄膜制造方法
(技术说明) 一种金刚石薄膜的制造方法，属非金属元素的制备领域。本方法是在基底上涂刷混合于苯、酚、醇等有机溶剂中的巴基管溶液干燥后将基底放入真空室内，充入碳氢化合物气体(CH4
(1000180-0071-0007) 掺磷非晶金刚石薄膜电极及其制备方法
(技术说明) 掺磷非晶金刚石薄膜电极及其制备方法，它涉及一种非晶金刚石薄膜电极及其制备方法。它为了解决非晶金刚石薄膜导电性能差，内应力大，与基底粘结力差的问题。通过以下步骤实现：(一)基底清洗；(二)离子刻蚀；(三)通掺杂气体；(四)利用过滤阴极真空电弧沉积系统进行薄膜沉积；(五)导线连接；(六)电化学处理，得到掺磷非晶金刚石薄膜电极。掺磷非晶金刚石薄膜电极与MEMS体系相容，适于制成大面积电极用于污水处理，也适于制成微电极用于体内在线检测，并且具有经济、适用、易于产业化的特点。
(1000180-0025-0008) 制备类金刚石薄膜的电化学沉积方法及其装置
(技术说明) 一种类金刚石薄膜的新制备方法，采用电化学沉积技术，以高频脉冲调制直流高压电源提供能量，选择甲醇作为电沉积溶液，在液相中制备出了类金刚石薄膜。这种薄膜是不含氢的具有非晶结构的类金刚石碳膜，具有一定的耐化学腐蚀能力，其电阻率在１０７
(1000180-0042-0009) 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法
(技术说明) 一种镀覆技术领域的制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法，在热丝CVD沉积金刚石薄膜的基础上，增加一种辅助栅极，辅助栅极在热丝沉积初期，先行沉积一层金刚石薄膜，然后在栅极和热丝之间加上直流偏压，栅极为负，栅极表面的金刚石薄膜即发射电子而形成直流放电，其中正离子将轰击栅极，被轰击下来的金刚石原子和原子集团将溅落到衬底上，成为金刚石形核和生长驱动点，溅射对衬底上金刚石的高密度形核和二次形核起了关键作用，衬底表面沉积得到纳米金刚石薄膜。本发明能达到极高的形核密度，同时在生长过程中有很高的二次形核速率，能生长得到纳米级的金刚石薄膜，沉积后薄膜无须研磨抛光就能达到较高的光洁度，满足使用要求。
(1000180-0074-0010) 在石英圆管内或外壁镀(类)金刚石薄膜的方法及装置
(技术说明) 本发明提供了在石英圆管内外壁镀金刚石或类金刚石薄膜的方法及装置。本方法是先利用微波激励工作气体放电在两个同轴放置的石英圆管之间产生圆筒状的等离子体，再利用等离子体化学气相沉积技术在内石英管的外壁或外石英管的内壁镀金刚石或类金刚石薄膜，所镀的保护膜致密、均匀，附着强度好。本装置包括微波源(1)、微波匹配(2)、波导耦合等离子体反应器(3)和真空系统，所述波导耦合等离子体反应器的结构是：其两端各有法兰和进气、抽气通道；其中部设有金属水冷套(7)和内外石英管，内石英管(11)中间设有铜管(15)；两根石英管之间的空腔为真空室(12)。本装置可以在不同尺寸规格的石英管壁上镀膜。
(1000180-0055-0011) 薄膜声表面波器件的非晶金刚石增频衬底及其制备方法
(1000180-0043-0012) 含纳米金颗粒的类金刚石碳薄膜的制备方法
(1000180-0007-0013) 弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法
(1000180-0027-0014) 金刚石薄膜冷阴极结构及其制备方法
(1000180-0077-0015) 不锈钢金属表面镀制类金刚石薄膜的方法
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(1000180-0039-0017) 纳米微晶金刚石薄膜及其制备方法
(1000180-0041-0018) 新型类金刚石薄膜沉积工艺
(1000180-0002-0019) 紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
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制作方法 金刚石薄膜生产加工工艺制备技术 制作工艺金刚石薄膜生产加工工艺制备技术
配方比例， 金刚石薄膜生产加工工艺制备技术 技术研究应用参考金刚石薄膜生产加工工艺制备技术
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