镀膜,喷镀膜,镀膜采用,镀膜装置类技术资料
SY5762-0028-0001、 最优扩散条件动态可控渗氮技术
摘要、 最优扩散条件动态可控渗氮技术.本发明属黑色金属材料表面化学热处理可控渗氮新方法.解决可控渗氮所存在的渗氮速度慢和重现性差两个问题.本发明主要技术特征是在渗氮过程中使氮势跟踪最优扩散条件动态控制曲线由高而低地逐渐变化，既能控制渗氮层组织、降低渗氮层脆性，又能保持高的渗氮速度，重现性良好.本发明兼有普通渗氮和已有的可控渗氮的优点而克服了两者各自的缺点.用于38CrMoAl、3Cr2W8、Cr2、25Cr2MoV等钢种的渗氮处理.
SY5762-0159-0002、 阴极电弧源离子渗金属技术及设备
摘要、 本发明是一种利用低气压弧光等离子体对金属工件渗入特定元素，以优化工件表面性能的技术和设备。它采用阴极电弧蒸发器作为离子渗金属时的蒸发源、离化源和加热源，产生高密度的金属离子流，同时对工件施加高负偏压，以吸引金属离子流加速到达工件，将工件加热至高温，离子渗入其表面。如可获得钨、钼、镍、铬、钛、铝、锆、钽、铌等金属渗层以及它们与碳、氮、氧的合化物渗镀层，提高渗金属效率和质量。
SY5762-0043-0003、 金属表面处理方法
按照本发明的铬酸盐处理方法，让已浸在铬酸盐处理溶液中的金属材料在实质上无任何铬酸盐处理溶液中的组分的气氛中停留至少30秒钟，然后在干燥之前，用一种卤化碳或一种卤化碳和一种醇的混合物洗涤.按本发明程序，铬被均匀地附着在金属材料表面，其量可以由在所述气氛中停留的条件来控制.
SY5762-0117-0004、 化学镀铜及其镀浴
摘要、 一种化学镀铜镀浴，包括一种可溶性铜盐、*四乙酸、*甲硼烷、亚硫基二乙酸和*与炔属*的表面活性剂反应产物.
SY5762-0127-0005、 铝及铝合金渗氮法
摘要、 本工艺采用两种方法：一是气体渗氮时添加洁净剂*和活化剂稀土，使铝及铝合金渗氮；另一是离子渗氮时采用交流辉光放电使渗氮气氛电离，用直流电场使离子定向运动，解决了铅及铝合金的渗氮问题。$采用本工艺可在铝及铝合金上获得０．１到几毫米的渗氮层，渗氮层硬度纯铝ＨＶ６４，铝合金ＨＶ１７０，可提高铝制品的强度和耐磨性，扩大铝及铝合金的用途。
SY5762-0077-0006、 强光离子渗金属装制及其方法
摘要、 本发明公开了一种利用二次着火现象所设计的强光离子渗金属装置及其方法.渗层深度明显加深，渗钼层达285微米，渗入金属种类不受限制，阴极座上有一个用渗入金属做成的桶形靶，内放工件，工件周围放置渗入金属碎片.在适当条件下，桶形靶内电离产生“雪崩”，形成高能量强光离子区，完成强光离子渗金属过程，该区温度可达1700℃，也可以作为科学研究用新颖的高温能源.
SY5762-0067-0007、 钢的耐候性防锈膜快速形成法
摘要、 钢的耐候性防锈膜快速形成法，是在耐候钢、特殊钢或普通碳素钢的表面上快速形成耐候性防锈膜的方法.由于采用栲胶减少甚至取代现有技术中的工业丹宁酸，并用金属盐做促进?使本发明不仅象现有技术一样能使钢的表面形成一种结晶细化、致密、并有少量微孔的耐侯性防锈膜，使钢材在腐蚀性气氛具有较好的抗腐蚀性，同时，还扩大了原料资源，比现有技术降低成本40-50%，并且显著提高防锈膜对氯离子的抗腐蚀能力.
SY5762-0041-0008、 增压吸附式低温渗硼法
摘要、 本发明是属于一种化学热处理工艺方法.它是在已有渗硼技术基础上，实现了对精密零件在Ａ1点以下，特别是在560～620℃范围的低温渗硼.本发明的特点在于:用增加压力的方法延缓活化剂的较快分解.加入活性吸附剂，吸附储存活化剂所分解的催渗气体.然后通过逐步减压，促进尚末分解的活化剂进行持续分解，使被吸附的催渗气体进行逐渐脱析.保证了渗硼罐中始终存有不断流动的催渗气体，提高渗硼速度.
SY5762-0119-0009、 表面处理法及其处理材料
摘要、 一种通过将被处理制品浸入熔盐浴中， 而在其表面形成碳化物层或护散层的方法及其熔浴剂。所说（熔）盐浴包括硼砂，至少一种表面层形成元素的氧化物和铝，其中所说表面层的成元素的氧化剂选自由周期表第Ｖ族主族元素的氧化物和铬的氧化物所组成的这一组中的组分，其含量为９．５～２１．５％，而铝含量为４～７．５％（均以熔体总量为基准的重量百分数）。本发明的处理方法具有熔浴使用寿命长，附在被处理制品上的熔浴剂易于洗脱等优点。
SY5762-0106-0010、 气体渗碳渗液的控制方法和液体滴注器
摘要、 一种用于化学热处理中气体渗碳渗液的控制方法和液体滴注器，采用了一种专门设计的用于计算机或PID调节器，实现滴注式气体渗碳炉液体滴入量自动控制的滴注器.可根据渗碳炉内碳势大小的需要，调节步进式电机改变柱塞泵行程，实现精确控制液体注入量的目的.代替了传统的滴注式气体渗碳炉内控制碳势大小的方法，缩短了渗碳工艺时间，达到了炉内碳势控制精度高的效果，还提高了产品质量.
SY5762-0200-0011、 表面处理的方法和装置
SY5762-0134-0012、 化学汽相淀积装置
SY5762-0178-0013、 钢铁表面涂漆前处理液—一步磷化液
SY5762-0202-0014、 热镀锌助镀剂
SY5762-0185-0015、 双层辉光离子渗金属炉
SY5762-0016-0016、 高速钢表面硫氧碳氮硼共渗工艺
SY5762-0087-0017、 形成沉积膜的方法
SY5762-0092-0018、 在金属制件上制备硅扩散涂层的方法
SY5762-0181-0019、 无电镀银的改良还原剂及方法
SY5762-0188-0020、 低温电解渗硫盐浴不老化的方法
SY5762-0009-0021、 高温合金盐浴渗硼剂及其制备方法
SY5762-0108-0022、 钼或钼合金抗氧化涂层的渗制方法及其产品
SY5762-0030-0023、 铝锡合金电镀耐磨、减摩合金的预浸合金工艺
SY5762-0152-0024、 不烘烤防爆热镀锌
SY5762-0001-0025、 真空镀膜采用致冷器的冷却方法
SY5762-0138-0026、 活塞环表面强化等离子喷涂层材料
SY5762-0163-0027、 液体硼铝共渗法
SY5762-0026-0028、 固态气相渗硼
SY5762-0060-0029、 饮水防腐
SY5762-0017-0030、 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
SY5762-0148-0031、 一种直生式可控气氛渗碳工艺
SY5762-0129-0032、 一种在含有钒的钛合金制成的叶片上涂覆钴-铬-钨防护涂层的方法和一种有涂层...
SY5762-0131-0033、 溅射源用的充气器
SY5762-0123-0034、 表面处理的方法及其设备
SY5762-0160-0035、 微氮中温气体渗碳工艺
SY5762-0094-0036、 热镀锌碳化硅槽及附属设备
SY5762-0065-0037、 溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
SY5762-0096-0038、 热镀锌中间合金复合添加剂
SY5762-0006-0039、 绝缘瓷套低温自催化镀镍镀铜工艺
SY5762-0116-0040、 在钢铁产品表面形成保护性覆层的工艺方法
SY5762-0056-0041、 粒子尺寸减小之催化性金属
SY5762-0125-0042、 多室淀积系统
SY5762-0143-0043、 渗硼用胶膜
SY5762-0155-0044、 高温过程的低辐射薄膜
SY5762-0114-0045、 铜和铜合金表面钝化处理方法
SY5762-0004-0046、 一种除锈磷化液
SY5762-0126-0047、 熔盐电解渗稀土及稀士-硼共渗技术
SY5762-0037-0048、 向制品上镀敷金属的方法及设备
SY5762-0191-0049、 基片涂层设备
SY5762-0172-0050、 流延聚丙烯真空镀铝簿膜的方法
SY5762-0120-0051、 耐火材料模具表面喷焊耐磨涂层的工艺
SY5762-0208-0052、 石英玻璃管喷涂复合涂料的方法
SY5762-0169-0053、 机械零件中温锰基磷化
SY5762-0128-0054、 蜡的化学粗化处理溶液
SY5762-0189-0055、 长形金属浸锌工艺
SY5762-0013-0056、 金属喷涂层的普通加热炉重熔工艺
SY5762-0158-0057、 钢件活化催渗气体快速渗碳法
SY5762-0156-0058、 钢制品镀膜前净洗工艺
SY5762-0097-0059、 金属零件表面形成硫化物层的方法及设备
SY5762-0046-0060、 制备透明的无光雾的氧化锡涂层的方法
SY5762-0164-0061、 淀积碳的微波增强化学汽相淀积（ＣＶＤ）方法
SY5762-0035-0062、 高能级磁控溅射离子镀技术
SY5762-0083-0063、 无电浸镀金溶液
SY5762-0147-0064、 一种改善表面润湿性的工艺方法
SY5762-0068-0065、 真空化学反应设备
SY5762-0144-0066、 化合物薄膜形成装置
SY5762-0079-0067、 铁基材料的防腐蚀处理工艺
SY5762-0098-0068、 机械零件
SY5762-0211-0069、 锯切工具离子渗金属技术
SY5762-0165-0070、 汽相淀积金刚石的方法及装置
SY5762-0149-0071、 耐高温冲击磨损等离子喷焊镍基合金加碳化物复合粉末涂层材料
SY5762-0115-0072、 用于气相淀积的方法和装置
SY5762-0203-0073、 软磁合金薄带绝缘涂层的形成方法
SY5762-0192-0074、 多功能除锈防锈剂
SY5762-0059-0075、 高速钢材料表面化学热处理工艺方法
SY5762-0157-0076、 蒸镀用的氧化钇组成物及反射防止膜的制造方法
SY5762-0040-0077、 金属合金氧化物的溅射薄膜
SY5762-0062-0078、 铝稀土合金热浸镀层
SY5762-0048-0079、 非晶形的多金属合金涂料的制造方法
SY5762-0091-0080、 制备沉积膜的方法
SY5762-0105-0081、 材料的沉积
SY5762-0179-0082、 大分子物质为单体源的等离子体聚合
SY5762-0044-0083、 多层包涂硬质合金
SY5762-0051-0084、 具有与细长纤维状部件接触的抗磨表面的机器部件
SY5762-0085-0085、 低碳钢剪刀及其热处理工艺
SY5762-0135-0086、 金属平面高频加热膏剂渗硼法及装置
SY5762-0104-0087、 非铁金属机械零件
SY5762-0018-0088、 锡的蒸法镀敷
SY5762-0076-0089、 用于离子镀膜的冷U阴极装置
SY5762-0170-0090、 铋／锡氧化物喷镀膜
SY5762-0025-0091、 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
SY5762-0103-0092、 敷镀金属工艺
SY5762-0080-0093、 形成沉积薄膜的方法
SY5762-0036-0094、 一种钢的扩散渗铝工艺
SY5762-0182-0095、 用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法
SY5762-0213-0096、 一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
SY5762-0214-0097、 铝合金表面离子沉积(Ti， Al、N硬质膜的方法
SY5762-0206-0098、 聚氯乙烯塑料硬片镀铝方法
SY5762-0010-0099、 在工件上形成金属表面层的方法
SY5762-0168-0100、 用碳膜涂复塑料制品的微波增强CVD法及其产品
SY5762-0133-0101、 等离子体沉积保护膜的方法和装置
SY5762-0171-0102、 制造具有限定粗糙度的喷涂表面的一种方法及其应用
SY5762-0070-0103、 磷酸盐处理溶液和工艺
SY5762-0122-0104、 薄膜形成装置
SY5762-0118-0105、 镀金属的聚合物
SY5762-0196-0106、 含卤素的碳材料及其淀积方法
SY5762-0209-0107、 一种金属喷涂表面预处理方法
SY5762-0003-0108、 超塑性锌-铝合金工件化学镀镍工艺
SY5762-0186-0109、 低反射率赤褐色涂层
SY5762-0064-0110、 热压成型钢模具表面的离子束处理方法
SY5762-0136-0111、 用于锌或镉表面的含酸性铬的涂复液
SY5762-0093-0112、 利用磁场的微波增强型化学气相淀积系统和方法
SY5762-0033-0113、 复合硬质涂层材料
SY5762-0183-0114、 等离子体薄膜淀积过程的控制
SY5762-0194-0115、 钢制品的低温渗氮方法
SY5762-0053-0116、 一种含结晶水硼砂固体渗硼方法
SY5762-0176-0117、 金属零件的室温式低温硫化
SY5762-0198-0118、 具有保护料浆涂敷和中频感应加热的渗铝方法和设备
SY5762-0031-0119、 多束金属和气体粒子束发生装置
SY5762-0072-0120、 电弧点火装置
SY5762-0166-0121、 锗基片单层硫化锌高强度增透膜
SY5762-0008-0122、 锌钙系磷化液
SY5762-0167-0123、 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法
SY5762-0101-0124、 铁基粉末冶金制品烧结-渗硼一体化工艺
SY5762-0012-0125、 电介质，合金电 介质型透明导电膜
SY5762-0057-0126、 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
SY5762-0052-0127、 电子元器件引线热涂易焊合金
SY5762-0175-0128、 氮氧钛喷镀膜
SY5762-0088-0129、 金属料表面形成合金层的方法及设备
SY5762-0173-0130、 一种稀土、碳、氮共渗化学热处理渗剂
SY5762-0102-0131、 无外加热源真空离子渗碳
SY5762-0121-0132、 一种实现滴状冷凝的方法
SY5762-0020-0133、 生产掺氟氧化锡涂层的改进的化学蒸气沉积法
SY5762-0124-0134、 一种粉末法钢件表面硬化处理工艺
SY5762-0180-0135、 带金属涂层的木制品及其制造工艺
SY5762-0145-0136、 高硅铝合金无氢氟酸前处理的化学氧化法
SY5762-0011-0137、 制造择优，111，取向钨的方法
SY5762-0216-0138、 锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜
SY5762-0081-0139、 铝膜玻璃保温瓶瓶胆及其铝膜的制备
SY5762-0190-0140、 除油除锈磷化液
SY5762-0061-0141、 铝的锡焊表面处理方法
SY5762-0032-0142、 冷硬铸铁轧辊铸渗工艺
SY5762-0022-0143、 新型太阳能反光材料及制备技术
SY5762-0066-0144、 氮化处理的后处理方法
SY5762-0139-0145、 在不导电材料上刷镀金属的方法
SY5762-0205-0146、 多孔非金属材料表面真空镀膜的方法
SY5762-0071-0147、 端型多层干涉滤光器及其制作方法
SY5762-0023-0148、 稀土，碳，氮三元共渗，稀土，碳二元共渗化学渗剂及配方
SY5762-0055-0149、 冀形管热镀锌工艺和装置
SY5762-0153-0150、 多源型平面磁控溅射源
SY5762-0137-0151、 提高带涂层铜线钎焊性能的热涂法
SY5762-0042-0152、 化学蒸汽淀积
SY5762-0049-0153、 给核燃料芯块涂可燃吸收剂用的设备
SY5762-0195-0154、 金属钢管束内外壁防腐技术
SY5762-0054-0155、 超硬型高速钢刀具低温气体多元共渗
SY5762-0078-0156、 铝合金拉锁着色工艺
SY5762-0109-0157、 金属表面镀覆的工艺方法及所有的组合物
SY5762-0069-0158、 光学塑料镜片镀硬质膜工艺及用途
SY5762-0204-0159、 金属件煮黑防锈剂及其使用
SY5762-0019-0160、 自动沉积浴后清洗工艺
SY5762-0024-0161、 带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法
SY5762-0015-0162、 微薄层涂镀
SY5762-0039-0163、 处理导电型材的方法、实施该方法的设备及所得的处理过的型材
SY5762-0140-0164、 徽波增强式化学汽相淀积法及设备
SY5762-0161-0165、 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
SY5762-0199-0166、 一种用压力容器对渗后工件的清洗方法
SY5762-0099-0167、 沉积膜形成方法
SY5762-0151-0168、 普通玻璃真空镀铜合金制茶镜工艺
SY5762-0146-0169、 膏剂渗硼剂及其保护涂料
SY5762-0002-0170、 金刚石表面金属化的技术
SY5762-0027-0171、 长管内壁离子渗氮装置
SY5762-0038-0172、 在无机非导体表面产生金属结构物的方法
SY5762-0215-0173、 光磁记录介质、溅射用靶及溅射用靶的制造方法
SY5762-0095-0174、 一种用于快速化学热处理的自动通用设备
SY5762-0162-0175、 铝的粉末法可控渗镀
SY5762-0130-0176、 热轧簿钢板磷化除锈方法
SY5762-0074-0177、 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
SY5762-0210-0178、 热镀锌合金空腹钢结构门窗
SY5762-0005-0179、 监控光学镀膜厚度的双光束光学系统
SY5762-0086-0180、 用椭圆仪监控多层介质膜的方法
SY5762-0207-0181、 材料涂敷设备
SY5762-0014-0182、 石膏-金属铝的气体喷涂工艺
SY5762-0075-0183、 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备
SY5762-0058-0184、 金属磷化工艺
SY5762-0193-0185、 低热膨胀系数薄磁性金属层的制造方法
SY5762-0047-0186、 硼—稀土-硅三元共渗盐浴成份
SY5762-0141-0187、 分离磁体式平面磁控溅射源
SY5762-0132-0188、 等离子体加速器法离子镀膜装置
SY5762-0045-0189、 辉光放电阴极输电装置金属与非金属相接触的新结构
SY5762-0089-0190、 镀有金属的塑料制品及其制造方法
SY5762-0113-0191、 陶瓷玻璃常温化学镀铜、镍、钴
SY5762-0034-0192、 金刚石镀钛工艺
SY5762-0111-0193、 可作磨蚀涂层喷涂的多喷口等离子体喷涂设备和方法
SY5762-0029-0194、 光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
SY5762-0142-0195、 料浆法生产低碳钢渗铝锅工艺
SY5762-0201-0196、 熔锌表面覆盖物
SY5762-0100-0197、 耐久的金属合金氧化物溅射薄膜
SY5762-0197-0198、 钢铁表面强化处理方法
SY5762-0050-0199、 线材涂料
SY5762-0007-0200、 滤光片生产中用的掩膜
SY5762-0090-0201、 深层可控离子渗氮法
SY5762-0021-0202、 液体法硼铝共渗工艺
SY5762-0112-0203、 热浸镀铝的铬合金钢
SY5762-0082-0204、 改进的电弧汽相淀积方法及设备
SY5762-0110-0205、 溅射涂层设备用的靶中的阴极，接地屏蔽配置
SY5762-0154-0206、 大气常压下涂层的等离子喷涂工艺
SY5762-0150-0207、 枪磁控溅射源
SY5762-0177-0208、 在长零件上获得涂层的方法
SY5762-0212-0209、 电子元件的镀锡方法和装置
SY5762-0073-0210、 处理金属表面用的液态组合物
SY5762-0107-0211、 制造光电器件和其它半导体器件用的氢化非晶硅合金的沉积物原料和掺杂剂材料
SY5762-0174-0212、 钢铁快速钝化处理工艺
SY5762-0184-0213、 半导体活化材料化学镀铜镍技术
SY5762-0063-0214、 用于将铜、镍、钴及其合金进行化学沉积的一种碱液浴及其工艺过程
SY5762-0084-0215、 用于真空沉积镀层的方法和装置
SY5762-0187-0216、 稀土－铝合金热浸渗铝
SY5762-0217-0217、 铜或铜合金室温镀锡工艺
购买以上《镀膜,喷镀膜,镀膜采用,镀膜装置类技术资料》生产工艺技术资全套200元,含邮费,本市五大区可办理货到付款,咨询手机号也是微信号:15542181913 13889286189【点这进入购买帮助】
摘要、 最优扩散条件动态可控渗氮技术.本发明属黑色金属材料表面化学热处理可控渗氮新方法.解决可控渗氮所存在的渗氮速度慢和重现性差两个问题.本发明主要技术特征是在渗氮过程中使氮势跟踪最优扩散条件动态控制曲线由高而低地逐渐变化，既能控制渗氮层组织、降低渗氮层脆性，又能保持高的渗氮速度，重现性良好.本发明兼有普通渗氮和已有的可控渗氮的优点而克服了两者各自的缺点.用于38CrMoAl、3Cr2W8、Cr2、25Cr2MoV等钢种的渗氮处理.
SY5762-0159-0002、 阴极电弧源离子渗金属技术及设备
摘要、 本发明是一种利用低气压弧光等离子体对金属工件渗入特定元素，以优化工件表面性能的技术和设备。它采用阴极电弧蒸发器作为离子渗金属时的蒸发源、离化源和加热源，产生高密度的金属离子流，同时对工件施加高负偏压，以吸引金属离子流加速到达工件，将工件加热至高温，离子渗入其表面。如可获得钨、钼、镍、铬、钛、铝、锆、钽、铌等金属渗层以及它们与碳、氮、氧的合化物渗镀层，提高渗金属效率和质量。
SY5762-0043-0003、 金属表面处理方法
按照本发明的铬酸盐处理方法，让已浸在铬酸盐处理溶液中的金属材料在实质上无任何铬酸盐处理溶液中的组分的气氛中停留至少30秒钟，然后在干燥之前，用一种卤化碳或一种卤化碳和一种醇的混合物洗涤.按本发明程序，铬被均匀地附着在金属材料表面，其量可以由在所述气氛中停留的条件来控制.
SY5762-0117-0004、 化学镀铜及其镀浴
摘要、 一种化学镀铜镀浴，包括一种可溶性铜盐、*四乙酸、*甲硼烷、亚硫基二乙酸和*与炔属*的表面活性剂反应产物.
SY5762-0127-0005、 铝及铝合金渗氮法
摘要、 本工艺采用两种方法：一是气体渗氮时添加洁净剂*和活化剂稀土，使铝及铝合金渗氮；另一是离子渗氮时采用交流辉光放电使渗氮气氛电离，用直流电场使离子定向运动，解决了铅及铝合金的渗氮问题。$采用本工艺可在铝及铝合金上获得０．１到几毫米的渗氮层，渗氮层硬度纯铝ＨＶ６４，铝合金ＨＶ１７０，可提高铝制品的强度和耐磨性，扩大铝及铝合金的用途。
SY5762-0077-0006、 强光离子渗金属装制及其方法
摘要、 本发明公开了一种利用二次着火现象所设计的强光离子渗金属装置及其方法.渗层深度明显加深，渗钼层达285微米，渗入金属种类不受限制，阴极座上有一个用渗入金属做成的桶形靶，内放工件，工件周围放置渗入金属碎片.在适当条件下，桶形靶内电离产生“雪崩”，形成高能量强光离子区，完成强光离子渗金属过程，该区温度可达1700℃，也可以作为科学研究用新颖的高温能源.
SY5762-0067-0007、 钢的耐候性防锈膜快速形成法
摘要、 钢的耐候性防锈膜快速形成法，是在耐候钢、特殊钢或普通碳素钢的表面上快速形成耐候性防锈膜的方法.由于采用栲胶减少甚至取代现有技术中的工业丹宁酸，并用金属盐做促进?使本发明不仅象现有技术一样能使钢的表面形成一种结晶细化、致密、并有少量微孔的耐侯性防锈膜，使钢材在腐蚀性气氛具有较好的抗腐蚀性，同时，还扩大了原料资源，比现有技术降低成本40-50%，并且显著提高防锈膜对氯离子的抗腐蚀能力.
SY5762-0041-0008、 增压吸附式低温渗硼法
摘要、 本发明是属于一种化学热处理工艺方法.它是在已有渗硼技术基础上，实现了对精密零件在Ａ1点以下，特别是在560～620℃范围的低温渗硼.本发明的特点在于:用增加压力的方法延缓活化剂的较快分解.加入活性吸附剂，吸附储存活化剂所分解的催渗气体.然后通过逐步减压，促进尚末分解的活化剂进行持续分解，使被吸附的催渗气体进行逐渐脱析.保证了渗硼罐中始终存有不断流动的催渗气体，提高渗硼速度.
SY5762-0119-0009、 表面处理法及其处理材料
摘要、 一种通过将被处理制品浸入熔盐浴中， 而在其表面形成碳化物层或护散层的方法及其熔浴剂。所说（熔）盐浴包括硼砂，至少一种表面层形成元素的氧化物和铝，其中所说表面层的成元素的氧化剂选自由周期表第Ｖ族主族元素的氧化物和铬的氧化物所组成的这一组中的组分，其含量为９．５～２１．５％，而铝含量为４～７．５％（均以熔体总量为基准的重量百分数）。本发明的处理方法具有熔浴使用寿命长，附在被处理制品上的熔浴剂易于洗脱等优点。
SY5762-0106-0010、 气体渗碳渗液的控制方法和液体滴注器
摘要、 一种用于化学热处理中气体渗碳渗液的控制方法和液体滴注器，采用了一种专门设计的用于计算机或PID调节器，实现滴注式气体渗碳炉液体滴入量自动控制的滴注器.可根据渗碳炉内碳势大小的需要，调节步进式电机改变柱塞泵行程，实现精确控制液体注入量的目的.代替了传统的滴注式气体渗碳炉内控制碳势大小的方法，缩短了渗碳工艺时间，达到了炉内碳势控制精度高的效果，还提高了产品质量.
SY5762-0200-0011、 表面处理的方法和装置
SY5762-0134-0012、 化学汽相淀积装置
SY5762-0178-0013、 钢铁表面涂漆前处理液—一步磷化液
SY5762-0202-0014、 热镀锌助镀剂
SY5762-0185-0015、 双层辉光离子渗金属炉
SY5762-0016-0016、 高速钢表面硫氧碳氮硼共渗工艺
SY5762-0087-0017、 形成沉积膜的方法
SY5762-0092-0018、 在金属制件上制备硅扩散涂层的方法
SY5762-0181-0019、 无电镀银的改良还原剂及方法
SY5762-0188-0020、 低温电解渗硫盐浴不老化的方法
SY5762-0009-0021、 高温合金盐浴渗硼剂及其制备方法
SY5762-0108-0022、 钼或钼合金抗氧化涂层的渗制方法及其产品
SY5762-0030-0023、 铝锡合金电镀耐磨、减摩合金的预浸合金工艺
SY5762-0152-0024、 不烘烤防爆热镀锌
SY5762-0001-0025、 真空镀膜采用致冷器的冷却方法
SY5762-0138-0026、 活塞环表面强化等离子喷涂层材料
SY5762-0163-0027、 液体硼铝共渗法
SY5762-0026-0028、 固态气相渗硼
SY5762-0060-0029、 饮水防腐
SY5762-0017-0030、 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
SY5762-0148-0031、 一种直生式可控气氛渗碳工艺
SY5762-0129-0032、 一种在含有钒的钛合金制成的叶片上涂覆钴-铬-钨防护涂层的方法和一种有涂层...
SY5762-0131-0033、 溅射源用的充气器
SY5762-0123-0034、 表面处理的方法及其设备
SY5762-0160-0035、 微氮中温气体渗碳工艺
SY5762-0094-0036、 热镀锌碳化硅槽及附属设备
SY5762-0065-0037、 溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
SY5762-0096-0038、 热镀锌中间合金复合添加剂
SY5762-0006-0039、 绝缘瓷套低温自催化镀镍镀铜工艺
SY5762-0116-0040、 在钢铁产品表面形成保护性覆层的工艺方法
SY5762-0056-0041、 粒子尺寸减小之催化性金属
SY5762-0125-0042、 多室淀积系统
SY5762-0143-0043、 渗硼用胶膜
SY5762-0155-0044、 高温过程的低辐射薄膜
SY5762-0114-0045、 铜和铜合金表面钝化处理方法
SY5762-0004-0046、 一种除锈磷化液
SY5762-0126-0047、 熔盐电解渗稀土及稀士-硼共渗技术
SY5762-0037-0048、 向制品上镀敷金属的方法及设备
SY5762-0191-0049、 基片涂层设备
SY5762-0172-0050、 流延聚丙烯真空镀铝簿膜的方法
SY5762-0120-0051、 耐火材料模具表面喷焊耐磨涂层的工艺
SY5762-0208-0052、 石英玻璃管喷涂复合涂料的方法
SY5762-0169-0053、 机械零件中温锰基磷化
SY5762-0128-0054、 蜡的化学粗化处理溶液
SY5762-0189-0055、 长形金属浸锌工艺
SY5762-0013-0056、 金属喷涂层的普通加热炉重熔工艺
SY5762-0158-0057、 钢件活化催渗气体快速渗碳法
SY5762-0156-0058、 钢制品镀膜前净洗工艺
SY5762-0097-0059、 金属零件表面形成硫化物层的方法及设备
SY5762-0046-0060、 制备透明的无光雾的氧化锡涂层的方法
SY5762-0164-0061、 淀积碳的微波增强化学汽相淀积（ＣＶＤ）方法
SY5762-0035-0062、 高能级磁控溅射离子镀技术
SY5762-0083-0063、 无电浸镀金溶液
SY5762-0147-0064、 一种改善表面润湿性的工艺方法
SY5762-0068-0065、 真空化学反应设备
SY5762-0144-0066、 化合物薄膜形成装置
SY5762-0079-0067、 铁基材料的防腐蚀处理工艺
SY5762-0098-0068、 机械零件
SY5762-0211-0069、 锯切工具离子渗金属技术
SY5762-0165-0070、 汽相淀积金刚石的方法及装置
SY5762-0149-0071、 耐高温冲击磨损等离子喷焊镍基合金加碳化物复合粉末涂层材料
SY5762-0115-0072、 用于气相淀积的方法和装置
SY5762-0203-0073、 软磁合金薄带绝缘涂层的形成方法
SY5762-0192-0074、 多功能除锈防锈剂
SY5762-0059-0075、 高速钢材料表面化学热处理工艺方法
SY5762-0157-0076、 蒸镀用的氧化钇组成物及反射防止膜的制造方法
SY5762-0040-0077、 金属合金氧化物的溅射薄膜
SY5762-0062-0078、 铝稀土合金热浸镀层
SY5762-0048-0079、 非晶形的多金属合金涂料的制造方法
SY5762-0091-0080、 制备沉积膜的方法
SY5762-0105-0081、 材料的沉积
SY5762-0179-0082、 大分子物质为单体源的等离子体聚合
SY5762-0044-0083、 多层包涂硬质合金
SY5762-0051-0084、 具有与细长纤维状部件接触的抗磨表面的机器部件
SY5762-0085-0085、 低碳钢剪刀及其热处理工艺
SY5762-0135-0086、 金属平面高频加热膏剂渗硼法及装置
SY5762-0104-0087、 非铁金属机械零件
SY5762-0018-0088、 锡的蒸法镀敷
SY5762-0076-0089、 用于离子镀膜的冷U阴极装置
SY5762-0170-0090、 铋／锡氧化物喷镀膜
SY5762-0025-0091、 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
SY5762-0103-0092、 敷镀金属工艺
SY5762-0080-0093、 形成沉积薄膜的方法
SY5762-0036-0094、 一种钢的扩散渗铝工艺
SY5762-0182-0095、 用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法
SY5762-0213-0096、 一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
SY5762-0214-0097、 铝合金表面离子沉积(Ti， Al、N硬质膜的方法
SY5762-0206-0098、 聚氯乙烯塑料硬片镀铝方法
SY5762-0010-0099、 在工件上形成金属表面层的方法
SY5762-0168-0100、 用碳膜涂复塑料制品的微波增强CVD法及其产品
SY5762-0133-0101、 等离子体沉积保护膜的方法和装置
SY5762-0171-0102、 制造具有限定粗糙度的喷涂表面的一种方法及其应用
SY5762-0070-0103、 磷酸盐处理溶液和工艺
SY5762-0122-0104、 薄膜形成装置
SY5762-0118-0105、 镀金属的聚合物
SY5762-0196-0106、 含卤素的碳材料及其淀积方法
SY5762-0209-0107、 一种金属喷涂表面预处理方法
SY5762-0003-0108、 超塑性锌-铝合金工件化学镀镍工艺
SY5762-0186-0109、 低反射率赤褐色涂层
SY5762-0064-0110、 热压成型钢模具表面的离子束处理方法
SY5762-0136-0111、 用于锌或镉表面的含酸性铬的涂复液
SY5762-0093-0112、 利用磁场的微波增强型化学气相淀积系统和方法
SY5762-0033-0113、 复合硬质涂层材料
SY5762-0183-0114、 等离子体薄膜淀积过程的控制
SY5762-0194-0115、 钢制品的低温渗氮方法
SY5762-0053-0116、 一种含结晶水硼砂固体渗硼方法
SY5762-0176-0117、 金属零件的室温式低温硫化
SY5762-0198-0118、 具有保护料浆涂敷和中频感应加热的渗铝方法和设备
SY5762-0031-0119、 多束金属和气体粒子束发生装置
SY5762-0072-0120、 电弧点火装置
SY5762-0166-0121、 锗基片单层硫化锌高强度增透膜
SY5762-0008-0122、 锌钙系磷化液
SY5762-0167-0123、 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法
SY5762-0101-0124、 铁基粉末冶金制品烧结-渗硼一体化工艺
SY5762-0012-0125、 电介质，合金电 介质型透明导电膜
SY5762-0057-0126、 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
SY5762-0052-0127、 电子元器件引线热涂易焊合金
SY5762-0175-0128、 氮氧钛喷镀膜
SY5762-0088-0129、 金属料表面形成合金层的方法及设备
SY5762-0173-0130、 一种稀土、碳、氮共渗化学热处理渗剂
SY5762-0102-0131、 无外加热源真空离子渗碳
SY5762-0121-0132、 一种实现滴状冷凝的方法
SY5762-0020-0133、 生产掺氟氧化锡涂层的改进的化学蒸气沉积法
SY5762-0124-0134、 一种粉末法钢件表面硬化处理工艺
SY5762-0180-0135、 带金属涂层的木制品及其制造工艺
SY5762-0145-0136、 高硅铝合金无氢氟酸前处理的化学氧化法
SY5762-0011-0137、 制造择优，111，取向钨的方法
SY5762-0216-0138、 锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜
SY5762-0081-0139、 铝膜玻璃保温瓶瓶胆及其铝膜的制备
SY5762-0190-0140、 除油除锈磷化液
SY5762-0061-0141、 铝的锡焊表面处理方法
SY5762-0032-0142、 冷硬铸铁轧辊铸渗工艺
SY5762-0022-0143、 新型太阳能反光材料及制备技术
SY5762-0066-0144、 氮化处理的后处理方法
SY5762-0139-0145、 在不导电材料上刷镀金属的方法
SY5762-0205-0146、 多孔非金属材料表面真空镀膜的方法
SY5762-0071-0147、 端型多层干涉滤光器及其制作方法
SY5762-0023-0148、 稀土，碳，氮三元共渗，稀土，碳二元共渗化学渗剂及配方
SY5762-0055-0149、 冀形管热镀锌工艺和装置
SY5762-0153-0150、 多源型平面磁控溅射源
SY5762-0137-0151、 提高带涂层铜线钎焊性能的热涂法
SY5762-0042-0152、 化学蒸汽淀积
SY5762-0049-0153、 给核燃料芯块涂可燃吸收剂用的设备
SY5762-0195-0154、 金属钢管束内外壁防腐技术
SY5762-0054-0155、 超硬型高速钢刀具低温气体多元共渗
SY5762-0078-0156、 铝合金拉锁着色工艺
SY5762-0109-0157、 金属表面镀覆的工艺方法及所有的组合物
SY5762-0069-0158、 光学塑料镜片镀硬质膜工艺及用途
SY5762-0204-0159、 金属件煮黑防锈剂及其使用
SY5762-0019-0160、 自动沉积浴后清洗工艺
SY5762-0024-0161、 带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法
SY5762-0015-0162、 微薄层涂镀
SY5762-0039-0163、 处理导电型材的方法、实施该方法的设备及所得的处理过的型材
SY5762-0140-0164、 徽波增强式化学汽相淀积法及设备
SY5762-0161-0165、 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
SY5762-0199-0166、 一种用压力容器对渗后工件的清洗方法
SY5762-0099-0167、 沉积膜形成方法
SY5762-0151-0168、 普通玻璃真空镀铜合金制茶镜工艺
SY5762-0146-0169、 膏剂渗硼剂及其保护涂料
SY5762-0002-0170、 金刚石表面金属化的技术
SY5762-0027-0171、 长管内壁离子渗氮装置
SY5762-0038-0172、 在无机非导体表面产生金属结构物的方法
SY5762-0215-0173、 光磁记录介质、溅射用靶及溅射用靶的制造方法
SY5762-0095-0174、 一种用于快速化学热处理的自动通用设备
SY5762-0162-0175、 铝的粉末法可控渗镀
SY5762-0130-0176、 热轧簿钢板磷化除锈方法
SY5762-0074-0177、 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
SY5762-0210-0178、 热镀锌合金空腹钢结构门窗
SY5762-0005-0179、 监控光学镀膜厚度的双光束光学系统
SY5762-0086-0180、 用椭圆仪监控多层介质膜的方法
SY5762-0207-0181、 材料涂敷设备
SY5762-0014-0182、 石膏-金属铝的气体喷涂工艺
SY5762-0075-0183、 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备
SY5762-0058-0184、 金属磷化工艺
SY5762-0193-0185、 低热膨胀系数薄磁性金属层的制造方法
SY5762-0047-0186、 硼—稀土-硅三元共渗盐浴成份
SY5762-0141-0187、 分离磁体式平面磁控溅射源
SY5762-0132-0188、 等离子体加速器法离子镀膜装置
SY5762-0045-0189、 辉光放电阴极输电装置金属与非金属相接触的新结构
SY5762-0089-0190、 镀有金属的塑料制品及其制造方法
SY5762-0113-0191、 陶瓷玻璃常温化学镀铜、镍、钴
SY5762-0034-0192、 金刚石镀钛工艺
SY5762-0111-0193、 可作磨蚀涂层喷涂的多喷口等离子体喷涂设备和方法
SY5762-0029-0194、 光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
SY5762-0142-0195、 料浆法生产低碳钢渗铝锅工艺
SY5762-0201-0196、 熔锌表面覆盖物
SY5762-0100-0197、 耐久的金属合金氧化物溅射薄膜
SY5762-0197-0198、 钢铁表面强化处理方法
SY5762-0050-0199、 线材涂料
SY5762-0007-0200、 滤光片生产中用的掩膜
SY5762-0090-0201、 深层可控离子渗氮法
SY5762-0021-0202、 液体法硼铝共渗工艺
SY5762-0112-0203、 热浸镀铝的铬合金钢
SY5762-0082-0204、 改进的电弧汽相淀积方法及设备
SY5762-0110-0205、 溅射涂层设备用的靶中的阴极，接地屏蔽配置
SY5762-0154-0206、 大气常压下涂层的等离子喷涂工艺
SY5762-0150-0207、 枪磁控溅射源
SY5762-0177-0208、 在长零件上获得涂层的方法
SY5762-0212-0209、 电子元件的镀锡方法和装置
SY5762-0073-0210、 处理金属表面用的液态组合物
SY5762-0107-0211、 制造光电器件和其它半导体器件用的氢化非晶硅合金的沉积物原料和掺杂剂材料
SY5762-0174-0212、 钢铁快速钝化处理工艺
SY5762-0184-0213、 半导体活化材料化学镀铜镍技术
SY5762-0063-0214、 用于将铜、镍、钴及其合金进行化学沉积的一种碱液浴及其工艺过程
SY5762-0084-0215、 用于真空沉积镀层的方法和装置
SY5762-0187-0216、 稀土－铝合金热浸渗铝
SY5762-0217-0217、 铜或铜合金室温镀锡工艺
购买以上《镀膜,喷镀膜,镀膜采用,镀膜装置类技术资料》生产工艺技术资全套200元,含邮费,本市五大区可办理货到付款,咨询手机号也是微信号:15542181913 13889286189【点这进入购买帮助】
