涂层,涂层材料,涂层部件,涂层设备类技术资料
SY5760-0004-0001、 用于在一个基底上进行至少一种工艺作业的设备
摘要、 用于在一基底上进行至少一种工艺作业的设备，该设备设有至少一个工艺室(2、和一个真空栓(1、，用于将该基底从周围安置到一工艺室中而不会损失相应工艺室中的减低的压力，该真空栓包括一个由多个壁(5，6、界定并连接一真空泵(4、的真空室，而在一个壁中设置至少一个供给孔(7、，并为了每个工艺室在一个壁中设置一个属于一相应工艺室的工艺室孔，该至少一个供给孔在外部可以用一个外盖(10、封闭而从该真空室内可以用一个内盖(11、封闭。还公开了这样一种设备与一种用于将基底供给到该真空栓的一个供给孔中和将基底移走的输送装置的组件。
SY5760-0053-0002、 覆膜的形成方法及装置
摘要、 从基板2开始隔开规定的距离间隔配置蒸发源3，使基板2一边公转，一边将覆膜原料从蒸发源3涂敷到前述基板表面时，通过在其弹性范围内使前述基板2弯曲所得到的基板2的曲率半径在与前述基板2的公转半径一致的状态下，在基板表面形成覆膜，从而可以简便地改善在覆膜的形成方法中的基板的公转方向所产生的覆膜分布。
SY5760-0067-0003、 无机有机介电薄膜的沉积系统及方法
提供了一种在衬底表面上沉积介电膜的系统和方法所述系统具有一个带有用于支撑衬底的衬底支架的处理室和一个或多个用于将气体送入处理室的气体入口，提供了在所述处理室内确定第一个等离子体区的第一个等离子体源，而且，还提供了在所述处理室内确定第二个等离子体区的第二个等离子体源。气体分别在所述第一个和第二个等离子体区发生不同程度的离子化，而且，这些分别离子化的气体发生反应，在衬底表面上形成介电膜。
SY5760-0129-0004、 一种钝化颗粒镁及其制备方法
摘要、 本发明公开了一种钝化颗粒镁及其制备方法克服了以往使用镁基作为脱硫剂时，钝化镁的吸潮、阻燃时间不可控制、钝化层不均匀牢固、金属镁损失等缺陷。本发明的钝化颗粒镁是通过在颗粒状金属镁的表面裹覆细度为200目-500目的氧化镁或氟化*剂以形成抗氧化层，再由抗氧化层与钝化液反应生成钝化层后形成的，所述钝化液是氯化钠、氯化钾或氯化镁的水溶液制备成的。本发明的钝化颗粒镁可运用于钢铁冶金工业的铁、钢水预处理并满足钝化镁储运使用要求。
SY5760-0216-0005、 具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板
摘要、 一种具有一块钢板和至少在该钢板上面的两种涂层的涂层钢板该涂层钢板具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板该涂层钢板具有按JIS B0601-1994标准规定的，其值在约0.7至约1.5μm的范围内算术平均表面粗糙度Ra，和其值在约180至约250的范围内的每英寸峰值数PPI。
SY5760-0020-0006、 透明导电性薄膜及其制造方法和制造用烧结体靶及透明导电性基体材料或有机电发...
摘要、 本发明提供透明导电性薄膜、具有该透明导电性薄膜的显示屏用透明导电性基体材料及发光特性优良的有机电发光元件。透明导电性薄膜，通过使用烧结体靶的溅射喷镀等可以容易地形成，不需要腐蚀和研磨加工的后处理，具有低电阻，并且表面平滑性优良，在可见光领域的低波长侧透过率大。透明导电性薄膜是以氧化铟为主要成份含有硅的透明导电性薄膜，其构造实质上是非结晶质，而且硅的含量，对于铟和硅的合计量是0.5～13原子％；或者是以氧化铟为主要成份含有钨和锗的透明导电性薄膜，W，In的原子数比是0.003～0.047及Ge，In的原子数比是0.001～0.190。
SY5760-0061-0007、 连续地热浸涂金属带中保持熔化金属的装置和方法
摘要、 一种用来连续地热浸涂金属带的熔化金属保持装置包括：容器，该容器的横截面基本上是具有长侧和短侧的矩形，该容器在底表面上形成槽形开口，该容器装有熔化金属；辅助容器，它沿着容器上端的外圆周形成，并且用来暂时储存从容器上端溢出的熔化金属；一些室，它们沿着容器下端的长侧而向外地形成，这些室通过槽形分支开口与容器连通，这些分支开口向着容器以预定倾斜形成；多个辅助管，它们与这些辅助容器连通；及交流电磁铁，它包括芯和线圈，该芯被安装成邻近容器的外部侧表面并且位于辅助容器和这些室之间，而该线圈被缠绕在芯上，并且把交流供给到该线圈中。
SY5760-0102-0008、 用于薄膜制备的加热控温装置及方法
摘要、 本发明公开了一种用于薄膜制备的加热控温装置及方法。加热控温装置包括加热控制电路和石墨加热体(1、。石墨加热体(1、为扁平立方体块状石墨，其横断面等距离分布着若干个有若干个通孔的陶瓷管(2、，每两个孔可穿绕一根电阻丝(3、。加热控温装置的方法是根据所要制备薄膜的大小选择适当的基体—石墨加热体(1、，按照要求固定好陶瓷管(2、，按照设计温度要求穿入电阻丝(3、；将电阻丝(3、并联后接入加热电路，使电阻丝(3、一端接低电压大电流供端的负极电 阻丝(3、的另一端通过负载电阻(4、以及继电器(6、的常闭端触点接低电压大电流供端的正极；电路工作就可达到测温、控温目的，可使基体上温度分布均匀，提高薄膜的质量。
SY5760-0081-0009、 类金刚石薄膜对钛镍合金的表面改性技术
摘要、 本发明提供一种类金刚石薄膜对钛镍合金的表面改性技术钛镍合金是较好的人体生物功能材料，在牙科，整形外科等方面广泛应用。但作为植入人体的材料，又存在离子释放，污染组织，引发不良反应等问题。类金刚石薄膜硬度高有良好生物相容性及润湿性。本发明采用脉冲真空电弧离子源对钛镍合金基片镀制类金刚石薄膜，镀制前对合金基片进行预处理。首先用混合液、超声波以及氩离子源清洗、过滤电弧钛离子源高压加热和镀钛，然后在钛镍合金上镀制一定脉冲的类金刚石薄膜，在其表面制备出与基片结合牢固性好、摩擦系数小、耐磨损、硬度高的类金刚石薄膜。成功地解决了膜厚大于1μm，且结合牢固的问题，此表面改性技术工艺简单，成本低廉，是钛镍合金表面改性非常适用的表面改性技术。
SY5760-0200-0010、 低污染的等离子反应室部件及其制造方法
摘要、 用于等离子处理腔室内的多个部件设置有多个等离子裸露表面，这些表面具有可提高聚合物粘附性的表面粗糙度。这些粗糙表面是通过由等离子将一种涂层材料(32、例如陶瓷或高温聚合物喷涂到部件的表面上形成的。根据本发明，经等离子喷涂后的部件可用于等离子反应器上，其中等离子反应器设置有多个在处理过程中暴露于等离子作用下的表面。合适的部件包括腔壁、腔室内衬(30、、挡环、气体分配板(22、、等离子密封环(14、和内衬支架。通过提高聚合物的粘附性，经等离子喷涂过的部件就可以降低处理腔室内的颗粒污染水平，从而提高产量并减少清洗和，或更换腔室部件所需的停机时间。
SY5760-0050-0011、 等离子涂层方法
SY5760-0130-0012、 一种生物陶瓷涂层材料的制备方法
SY5760-0211-0013、 低蒸汽压化合物的等离子体增强化学沉积方法
SY5760-0077-0014、 制备溅射靶材料的方法
SY5760-0051-0015、 封隔涂层
SY5760-0008-0016、 硅薄膜的形成方法及硅薄膜太阳能电池
SY5760-0142-0017、 氮化铝单晶薄膜及其制备方法
SY5760-0177-0018、 冷沉积抗反射层的方法
SY5760-0179-0019、 钛或其合金的快速渗氧硬化方法
SY5760-0171-0020、 复合构成物及其制作方法
SY5760-0192-0021、 溅射装置及溅射成膜方法
SY5760-0131-0022、 加热坩埚和采用此加热坩埚的沉积装置
SY5760-0101-0023、 环保型多方式、快速节能铁系磷化液
SY5760-0133-0024、 光学薄膜厚度控制方法及装置绝缘多层薄膜及制造装置
SY5760-0040-0025、 圆筒状靶及其制造方法
SY5760-0095-0026、 覆碳膜部件及其制法
SY5760-0092-0027、 用于镀覆金属板的水性表面处理剂、表面处理金属板及其制造方法
SY5760-0159-0028、 用于对金属带-尤其是钢板带进行浸镀的工艺和设备
SY5760-0174-0029、 半导体工艺设备的氮化硼，氧化钇复合材料部件及其制造方法
SY5760-0146-0030、 在汽相中制备自组装单分子膜的方法及汽相组装仪
SY5760-0111-0031、 潜艇的表面防腐工艺方法
SY5760-0214-0032、 形成金属氧化物膜的方法和在气体放电管中形成二次电子发射膜的方法
SY5760-0060-0033、 减少最大扭矩用的组合物、使用该组合物的具有滑动部分的部件以及使用该组合物...
SY5760-0029-0034、 金属表面镀覆光亮和高耐蚀性合金层的镀液和方法
SY5760-0182-0035、 一种玻璃镀膜用混合气体及其制备方法
SY5760-0106-0036、 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
SY5760-0115-0037、 SiC，TiN超硬纳米多层膜及其制作工艺
SY5760-0201-0038、 钢铁部件在改进耐腐蚀性的盐浴中的氮化
SY5760-0100-0039、 镁合金无铬化学转化膜制备方法及所用成膜溶液
SY5760-0122-0040、 无电金属电镀的方法
SY5760-0180-0041、 电弧喷镀方法
SY5760-0007-0042、 低压渗碳方法
SY5760-0090-0043、 铁金属基底的化学镀铜
SY5760-0150-0044、 耐高温等离子体谐振腔
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SY5760-0037-0046、 一种回收催化金属的方法
SY5760-0154-0047、 浸锌层阳极氧化法彩化工艺及其处理溶液配方
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SY5760-0024-0049、 用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法
SY5760-0143-0050、 一种金刚石／碳或氮化物纳米混相梯度复合薄膜的制备方法
SY5760-0064-0051、 有绝缘涂层的电磁钢板及绝缘涂层
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SY5760-0094-0054、 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
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SY5760-0145-0057、 不锈钢酸洗钝化剂
SY5760-0118-0058、 热浸渍镀锌用的熔剂和方法
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SY5760-0183-0060、 胶液镀金镜的配方及工艺方法
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SY5760-0153-0062、 中央多弧源式离子镀方法
SY5760-0034-0063、 蒸镀方法及显示装置的制造方法
SY5760-0003-0064、 溅射设备
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SY5760-0035-0066、 金属有机化合物汽相沉积装置
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SY5760-0026-0071、 一种刚玉－莫来石复相陶瓷涂层的制备方法
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SY5760-0019-0075、 轻型车发动机正时齿轮的加工工艺
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SY5760-0078-0209、 复合构造物及其制作方法和制作装置
SY5760-0059-0210、 薄膜沉积法
SY5760-0087-0211、 叠层薄膜以及淀积方法
SY5760-0023-0212、 蒸镀方法及显示装置的制造方法
SY5760-0140-0213、 水乳型除锈防锈液及其制造方法
SY5760-0189-0214、 等离子体分解法制备类金刚石薄膜的方法及其装置
SY5760-0164-0215、 薄膜形成方法及薄膜形成装置
SY5760-0136-0216、 提高溅镀靶使用率的预溅镀方法
SY5760-0217-0217、 薄膜成膜装置和薄膜成膜方法
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摘要、 用于在一基底上进行至少一种工艺作业的设备，该设备设有至少一个工艺室(2、和一个真空栓(1、，用于将该基底从周围安置到一工艺室中而不会损失相应工艺室中的减低的压力，该真空栓包括一个由多个壁(5，6、界定并连接一真空泵(4、的真空室，而在一个壁中设置至少一个供给孔(7、，并为了每个工艺室在一个壁中设置一个属于一相应工艺室的工艺室孔，该至少一个供给孔在外部可以用一个外盖(10、封闭而从该真空室内可以用一个内盖(11、封闭。还公开了这样一种设备与一种用于将基底供给到该真空栓的一个供给孔中和将基底移走的输送装置的组件。
SY5760-0053-0002、 覆膜的形成方法及装置
摘要、 从基板2开始隔开规定的距离间隔配置蒸发源3，使基板2一边公转，一边将覆膜原料从蒸发源3涂敷到前述基板表面时，通过在其弹性范围内使前述基板2弯曲所得到的基板2的曲率半径在与前述基板2的公转半径一致的状态下，在基板表面形成覆膜，从而可以简便地改善在覆膜的形成方法中的基板的公转方向所产生的覆膜分布。
SY5760-0067-0003、 无机有机介电薄膜的沉积系统及方法
提供了一种在衬底表面上沉积介电膜的系统和方法所述系统具有一个带有用于支撑衬底的衬底支架的处理室和一个或多个用于将气体送入处理室的气体入口，提供了在所述处理室内确定第一个等离子体区的第一个等离子体源，而且，还提供了在所述处理室内确定第二个等离子体区的第二个等离子体源。气体分别在所述第一个和第二个等离子体区发生不同程度的离子化，而且，这些分别离子化的气体发生反应，在衬底表面上形成介电膜。
SY5760-0129-0004、 一种钝化颗粒镁及其制备方法
摘要、 本发明公开了一种钝化颗粒镁及其制备方法克服了以往使用镁基作为脱硫剂时，钝化镁的吸潮、阻燃时间不可控制、钝化层不均匀牢固、金属镁损失等缺陷。本发明的钝化颗粒镁是通过在颗粒状金属镁的表面裹覆细度为200目-500目的氧化镁或氟化*剂以形成抗氧化层，再由抗氧化层与钝化液反应生成钝化层后形成的，所述钝化液是氯化钠、氯化钾或氯化镁的水溶液制备成的。本发明的钝化颗粒镁可运用于钢铁冶金工业的铁、钢水预处理并满足钝化镁储运使用要求。
SY5760-0216-0005、 具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板
摘要、 一种具有一块钢板和至少在该钢板上面的两种涂层的涂层钢板该涂层钢板具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板该涂层钢板具有按JIS B0601-1994标准规定的，其值在约0.7至约1.5μm的范围内算术平均表面粗糙度Ra，和其值在约180至约250的范围内的每英寸峰值数PPI。
SY5760-0020-0006、 透明导电性薄膜及其制造方法和制造用烧结体靶及透明导电性基体材料或有机电发...
摘要、 本发明提供透明导电性薄膜、具有该透明导电性薄膜的显示屏用透明导电性基体材料及发光特性优良的有机电发光元件。透明导电性薄膜，通过使用烧结体靶的溅射喷镀等可以容易地形成，不需要腐蚀和研磨加工的后处理，具有低电阻，并且表面平滑性优良，在可见光领域的低波长侧透过率大。透明导电性薄膜是以氧化铟为主要成份含有硅的透明导电性薄膜，其构造实质上是非结晶质，而且硅的含量，对于铟和硅的合计量是0.5～13原子％；或者是以氧化铟为主要成份含有钨和锗的透明导电性薄膜，W，In的原子数比是0.003～0.047及Ge，In的原子数比是0.001～0.190。
SY5760-0061-0007、 连续地热浸涂金属带中保持熔化金属的装置和方法
摘要、 一种用来连续地热浸涂金属带的熔化金属保持装置包括：容器，该容器的横截面基本上是具有长侧和短侧的矩形，该容器在底表面上形成槽形开口，该容器装有熔化金属；辅助容器，它沿着容器上端的外圆周形成，并且用来暂时储存从容器上端溢出的熔化金属；一些室，它们沿着容器下端的长侧而向外地形成，这些室通过槽形分支开口与容器连通，这些分支开口向着容器以预定倾斜形成；多个辅助管，它们与这些辅助容器连通；及交流电磁铁，它包括芯和线圈，该芯被安装成邻近容器的外部侧表面并且位于辅助容器和这些室之间，而该线圈被缠绕在芯上，并且把交流供给到该线圈中。
SY5760-0102-0008、 用于薄膜制备的加热控温装置及方法
摘要、 本发明公开了一种用于薄膜制备的加热控温装置及方法。加热控温装置包括加热控制电路和石墨加热体(1、。石墨加热体(1、为扁平立方体块状石墨，其横断面等距离分布着若干个有若干个通孔的陶瓷管(2、，每两个孔可穿绕一根电阻丝(3、。加热控温装置的方法是根据所要制备薄膜的大小选择适当的基体—石墨加热体(1、，按照要求固定好陶瓷管(2、，按照设计温度要求穿入电阻丝(3、；将电阻丝(3、并联后接入加热电路，使电阻丝(3、一端接低电压大电流供端的负极电 阻丝(3、的另一端通过负载电阻(4、以及继电器(6、的常闭端触点接低电压大电流供端的正极；电路工作就可达到测温、控温目的，可使基体上温度分布均匀，提高薄膜的质量。
SY5760-0081-0009、 类金刚石薄膜对钛镍合金的表面改性技术
摘要、 本发明提供一种类金刚石薄膜对钛镍合金的表面改性技术钛镍合金是较好的人体生物功能材料，在牙科，整形外科等方面广泛应用。但作为植入人体的材料，又存在离子释放，污染组织，引发不良反应等问题。类金刚石薄膜硬度高有良好生物相容性及润湿性。本发明采用脉冲真空电弧离子源对钛镍合金基片镀制类金刚石薄膜，镀制前对合金基片进行预处理。首先用混合液、超声波以及氩离子源清洗、过滤电弧钛离子源高压加热和镀钛，然后在钛镍合金上镀制一定脉冲的类金刚石薄膜，在其表面制备出与基片结合牢固性好、摩擦系数小、耐磨损、硬度高的类金刚石薄膜。成功地解决了膜厚大于1μm，且结合牢固的问题，此表面改性技术工艺简单，成本低廉，是钛镍合金表面改性非常适用的表面改性技术。
SY5760-0200-0010、 低污染的等离子反应室部件及其制造方法
摘要、 用于等离子处理腔室内的多个部件设置有多个等离子裸露表面，这些表面具有可提高聚合物粘附性的表面粗糙度。这些粗糙表面是通过由等离子将一种涂层材料(32、例如陶瓷或高温聚合物喷涂到部件的表面上形成的。根据本发明，经等离子喷涂后的部件可用于等离子反应器上，其中等离子反应器设置有多个在处理过程中暴露于等离子作用下的表面。合适的部件包括腔壁、腔室内衬(30、、挡环、气体分配板(22、、等离子密封环(14、和内衬支架。通过提高聚合物的粘附性，经等离子喷涂过的部件就可以降低处理腔室内的颗粒污染水平，从而提高产量并减少清洗和，或更换腔室部件所需的停机时间。
SY5760-0050-0011、 等离子涂层方法
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