1 97116519.X 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
2 97108322.3 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
3 98111996.4 一种磁光盘记录介质靶材制造方法
4 99113965.8 含混合稀土元素高阻溅射靶材
5 00129797.X 用于制备透明导电薄膜的锌铝氧化物靶材
6 00801709.3 铝合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法
7 00136711.0 高密度铟锡氧化物靶材及其制造方法
8 01128865.5 磁光记录靶材及其生产工艺
9 01134646.9 以气喷粉末制作铝合金溅镀靶材的方法
10 01104414.4 金属溅镀靶材的制造方法
11 02118135.7 铝系合金靶材的制造方法及用该方法得到的铝系合金靶材
12 02115767.7 氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法
13 02156898.7 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用
14 02146604.1 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
15 02116687.0 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极
16 03118371.9 铟锡氧化物靶材的制备方法
17 02800718.2 溅射靶材
18 03107912.1 Ag合金膜以及Ag合金膜形成用喷溅靶材
19 02801192.9 用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法
20 03148177.9 锌铝氧化物陶瓷靶材表面背铟方法
21 02128689.2 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
22 02132251.1 导电薄膜用的合金靶材及制作方法
23 02803266.7 铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材
24 03124711.3 从铟锡氧化物废靶材中回收铟的方法
25 200310111226.0 高密度ITO靶材及其制造方法
26 03107733.1 溅射靶材
27 200310108837.X 使用高电阻硅化物靶材生长硅化物的工艺
28 02818904.3 溅射靶材和透明导电薄膜
29 200410090068.X 光信息记录用铝合金反射膜及其形成用靶材、记录介质
30 200410090057.1 金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法
31 200410066585.3 合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法
32 200310105218.5 一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶
33 200310124552.5 一种用于制作磁性直流磁控溅射钴靶材的方法
34 200410083416.0 具有改进表面结构的溅射靶材
35 200510066653.0 氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
36 200510066665.3 半反射膜或反射膜，光学信息记录介质和溅射靶材
37 200410050877.8 溅射金刚石靶材及其制造方法
38 02293460.X 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
39 02293462.6 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
40 02293461.8 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
41 03211969.0 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
42 200420011041.2 溅射式镀膜机用靶材结构 ，