1 02130235.9 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
2 03104233.3 氮化镓类化合物半导体等的干法刻蚀方法
3 02104120.2 H+离子刻蚀金刚石核制备(001、高取向金刚石薄膜的方法
4 03113481.5 天然大理石彩色蚀刻画及其制作方法
5 96107160.5 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
6 97110135.3 一种在大理石上影雕蚀刻图像的方法
7 86107183 大理石、汉白玉化学腐蚀雕刻法
8 87103172 花岗石上蚀刻字画的化学溶解液及方法
9 92100113.4 大理石和玻璃上蚀刻字画的工艺
10 93104848.6 玻璃表面蚀刻字画的方法
11 93102049.2 大理石和花岗石图文刻蚀工艺
12 92107793.9 大理石碑刻——蚀刻工艺
13 93114477.9 精确刻蚀和去除薄膜的新装置和方法
14 93108871.2 天然大理石快速保真蚀刻方法
15 93121415.7 玉石无毒蚀刻工艺
16 95107187.4 在宝石上蚀刻铭文的方法
17 97103587.3 在花岗岩材质上影雕蚀刻图像的方法
18 96194282.7 为光刻产生的石英晶体坯片单一分割的刻蚀法
19 98122855.0 反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺
20 97116255.7 汽车玻璃防盗标识蚀刻剂
21 99124562.8 稀土化合物浆料及金刚石厚膜的表面刻蚀方法
22 01127541.3 金属蚀刻装饰板及其制造方法
23 01125660.5 金属蚀刻装饰条及其制造方法
24 02267105.6 感应耦合等离子体深层刻蚀机
25 02803144.X 蚀刻液组合物
26 200410005084.4 用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层
27 200410017063.4 高密度矩形深刻蚀石英光栅
28 200410052908.3 高密度矩形深刻蚀石英透射光栅
29 200610024950.3 532纳米波长的高密度深刻蚀石英透射偏振分束光栅
30 200510075587.3 干蚀刻后的洗涤液组合物及半导体装置的制造方法
31 200510095619.6 一种酸性蚀刻废液的高效环保处理方法
32 200510126337.8 等离子体刻蚀装置
33 200510126390.8 一种半导体刻蚀装置
34 200610050018.8 微波等离子体装置及制备金刚石薄膜和刻蚀碳膜的方法
35 200510126272.7 一种气体温度可控的等离子体刻蚀装置
36 200510126293.9 一种提高刻蚀均匀性等离子体刻蚀装置
37 200620102055.4 制备金刚石薄膜和刻蚀碳膜的微波等离子体装置

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