清洗半导体工艺生产工艺及应用
(20680-0024-0001)半导体器件清洗装置和清洗半导体器件的方法
(20680-0059-0002)半导体晶片清洗系统以及清洗方法
(20680-0067-0003)半导体元件清洗用组合物
(20680-0072-0004)半导体芯片化学机械研磨后清洗液
(20680-0054-0005)半导体扩散炉管清洗机的炉管传动结构
(20680-0107-0006)用于将半导体晶片清洗、干燥和亲水化的方法
(20680-0028-0007)制造半导体器件的清洗组合物和用其制备该器件的方法
(20680-0012-0008)多孔表面和半导体表面的清洗方法
(20680-0087-0009)半导体晶片的新型清洗方法
(20680-0049-0010)一种半导体晶圆蚀刻灰化后的清洗方法
(20680-0053-0011)用于半导体基底的清洗组合物
(20680-0095-0012)半导体晶圆片的清洗方法及其清洗设备
(20680-0046-0013)清洗半导体晶片的方法及其所采用的清洗系统
(20680-0055-0014)半导体封装产品的清洗装置
(20680-0017-0015)半导体工业用清洗剂
(20680-0011-0016)半导体晶片清洗装置
(20680-0078-0017)半导体器件的清洗液和制造方法
(20680-0003-0018)半导体晶片的清洗方法
(20680-0051-0019)一种半导体刻蚀设备腔室的清洗方法
(20680-0100-0020)半导体晶片的清洗溶液及内连线结构的形成方法
(20680-0004-0021)在制造半导体器件过程中清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法
(20680-0020-0022)用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品
(20680-0043-0023)半导体晶片的清洗方法与系统
(20680-0093-0024)半导体制造工艺中更换清洗剂的方法
(20680-0034-0025)半导体衬底的清洗方法
(20680-0089-0026)氮化物系化合物半导体和化合物半导体的清洗方法、这些半导体的制造方法及基板
(20680-0040-0027)清洗半导体晶片的方法和装置
(20680-0070-0028)清洗用组合物和半导体基板的清洗方法及半导体装置的制造方法
(20680-0025-0029)用于半导体衬底的清洗水溶液
(20680-0069-0030)高效能臭氧水清洗半导体晶圆的系统及其方法
(20680-0110-0031)一种半导体晶片与吸盘表面清洗打磨装置
(20680-0076-0032)制造半导体器件的方法和用于清洗衬底的设备
(20680-0097-0033)用于半导体晶片清洗的缓蚀剂体系
(20680-0077-0034)为了改进的焊剂清洗在外壳容器和小硅片之间有较大间隙的高压半导体装置壳体
(20680-0029-0035)改进的清洗和干燥半导体晶片的装置及方法
(20680-0101-0036)半导体激光线阵及迭阵的微通道热沉化学清洗装置
(20680-0086-0037)半导体元件的清洗方法
(20680-0084-0038)清洗溶液和使用该溶液清洗半导体器件的方法
(20680-0022-0039)半导体清洗液以及使用其制造半导体器件的方法
(20680-0092-0040)一种去除半导体材料表面蜡和有机物的清洗液及其清洗方法
(20680-0064-0041)衬底表面清洗方法、薄膜制造方法、半导体装置及其制法
(20680-0009-0042)半导体晶片清洗装置
(20680-0082-0043)采用臭氧清洗半导体晶片表面的装置和方法
(20680-0080-0044)半导体部件清洗用组合物及半导体装置的制造方法
(20680-0035-0045)半导体装置用清洗剂和半导体装置的制造方法
(20680-0116-0046)半导体硅片的清洗装置
(20680-0117-0047)一种半导体闭管扩散用石英管的清洗装置
(20680-0112-0048)半导体基底的清洗方法
(20680-0030-0049)半导体器件接触器、采用它的检测装置和方法及清洗方法
(20680-0098-0050)半导体硅片的清洗装置及清洗方法
(20680-0111-0051)半导体铜加工用水相清洗组合物
(20680-0036-0052)用于清洗半导体晶片的装置和方法
(20680-0106-0053)湿法清洗工艺及使用此清洗工艺的半导体元件的制造方法
(20680-0032-0054)特超声清洗半导体晶片中的去离子水温控去气
(20680-0007-0055)半导体基片的清洗方法、清洗系统和制造清洗液的方法
(20680-0001-0056)清洗用双流体喷嘴清洗装置及用其的半导体装置的制法
(20680-0002-0057)半导体器件制造方法、制造装置及其清洗方法和制造系统
(20680-0060-0058)半导体晶片的清洗液及清洗方法
(20680-0006-0059)半导体圆片清洗设备
(20680-0047-0060)半导体晶片的清洗方法
(20680-0114-0061)半导体器件生产清洗用阶梯式冲水槽
(20680-0113-0062)半导体元件清洗机
(20680-0075-0063)含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物
(20680-0109-0064)半导体的清洗方法
(20680-0048-0065)含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物
(20680-0103-0066)用于半导体工业中等离子刻蚀残留物的清洗液组合物
(20680-0063-0067)清洗方法、半导体器件的制造方法及显示器件的制造方法
(20680-0083-0068)清洗半导体装置的磷酸组合物水溶液
(20680-0044-0069)使用组合化学品原位清洗半导体制造装置的方法和系统
(20680-0019-0070)半导体器件的清洗装置
(20680-0050-0071)清洗半导体器件的方法
(20680-0090-0072)一种半导体刻蚀设备的腔室清洗方法
(20680-0056-0073)半导体设备的面板清洗装置
(20680-0102-0074)一种半导体材料表面颗粒去除的清洗液及其清洗方法
(20680-0079-0075)用于半导体衬底上的金属层和图形的腐蚀-抑制清洗组合物
(20680-0014-0076)一种半导体硅表面清洗方法
(20680-0061-0077)半导体的清洗方法
(20680-0038-0078)半导体晶片清洗装置和方法
(20680-0085-0079)湿浸式光刻系统中用于清洗半导体衬底的方法和设备
(20680-0016-0080)半导体晶片清洗剂及其清洗方法
(20680-0057-0081)半导体晶片的清洗方法和清洗装置
(20680-0099-0082)半导体管芯总成去杂质离子的清洗方法
(20680-0091-0083)用于清洗半导体器件的组合物及利用该组合物清洗半导体器件的方法
(20680-0081-0084)清洗剂组合物、半导体晶片的清洗和制造方法、以及半导体晶片
(20680-0068-0085)清洗半导体基板的PH缓冲组合物
(20680-0104-0086)用于半导体制程中的金属防腐蚀清洗液
(20680-0118-0087)半导体激光清洗机
(20680-0010-0088)半导体晶片清洗装置
(20680-0088-0089)用于半导体铜制程的水相清洗组合物
(20680-0008-0090)用于清洗半导体晶片的装置和方法
(20680-0021-0091)半导体材料的清洗装置
(20680-0037-0092)用于在半导体处理反应器中各次清洗之间增大晶片处理量的装置和方法
(20680-0058-0093)用于清洗半导体基质上无机残渣含有铜特效腐蚀抑制剂的含水清洗组合物
(20680-0027-0094)半导体器件的生产工艺和其中使用的清洗装置
(20680-0062-0095)半导体器件的制造方法及用于剥离抗蚀剂的清洗装置
(20680-0071-0096)采用含水和低温清洗技术组合的半导体晶圆表面的后-CMP清洗
(20680-0042-0097)半导体晶片兆赫声波清洗用去离子水的控温充气
(20680-0005-0098)用于制造半导体器件的强声波清洗设备
(20680-0013-0099)清洗半导体圆片的方法和设备
(20680-0045-0100)化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
(20680-0031-0101)清洗液及使用该清洗液的半导体装置的制造方法
(20680-0108-0102)衬底表面清洗方法、薄膜制造方法、半导体装置及其制法
(20680-0026-0103)用于半导体器件的清洗/干燥台和生产线
(20680-0094-0104)间隙壁的制造方法及其蚀刻后的清洗方法与半导体元件
(20680-0065-0105)半导体晶片的清洗方法
(20680-0096-0106)半导体制造用药液供给装置的清洗液
(20680-0105-0107)半导体硅片化学机械抛光用清洗液
(20680-0015-0108)清洗半导体器件的方法及其清洗半导体器件的设备
(20680-0074-0109)半导体制造过程的清洗装置及海绵辊子
(20680-0073-0110)半导体晶圆的清洗方法
(20680-0033-0111)外延晶片、其制造方法和化合物半导体衬底的表面清洗方法
(20680-0115-0112)半导体器件生产清洗用喷淋式预冲槽
(20680-0041-0113)清洗方法、半导体器件的制造方法及有源矩阵型显示器件的制造方法
(20680-0039-0114)防止金属腐蚀的半导体工艺的清洗方法
(20680-0023-0115)半导体清洗装置
(20680-0066-0116)半导体器件用基板的清洗液及清洗方法
(20680-0052-0117)半导体激光清洗机
(20680-0018-0118)半导体衬底清洗方法与半导体器件制造方法
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(20680-0072-0004)半导体芯片化学机械研磨后清洗液
(20680-0054-0005)半导体扩散炉管清洗机的炉管传动结构
(20680-0107-0006)用于将半导体晶片清洗、干燥和亲水化的方法
(20680-0028-0007)制造半导体器件的清洗组合物和用其制备该器件的方法
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(20680-0087-0009)半导体晶片的新型清洗方法
(20680-0049-0010)一种半导体晶圆蚀刻灰化后的清洗方法
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(20680-0011-0016)半导体晶片清洗装置
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(20680-0003-0018)半导体晶片的清洗方法
(20680-0051-0019)一种半导体刻蚀设备腔室的清洗方法
(20680-0100-0020)半导体晶片的清洗溶液及内连线结构的形成方法
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(20680-0020-0022)用于在制造半导体过程中清洗光刻胶的清洗剂制品
(20680-0043-0023)半导体晶片的清洗方法与系统
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(20680-0080-0044)半导体部件清洗用组合物及半导体装置的制造方法
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(20680-0030-0049)半导体器件接触器、采用它的检测装置和方法及清洗方法
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(20680-0036-0052)用于清洗半导体晶片的装置和方法
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(20680-0032-0054)特超声清洗半导体晶片中的去离子水温控去气
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(20680-0001-0056)清洗用双流体喷嘴清洗装置及用其的半导体装置的制法
(20680-0002-0057)半导体器件制造方法、制造装置及其清洗方法和制造系统
(20680-0060-0058)半导体晶片的清洗液及清洗方法
(20680-0006-0059)半导体圆片清洗设备
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