1 集成电极的复合混沌混合芯片的快速制备及表征　　 　　
2 ITO透明导电薄膜的制备工艺技术　　 　　
3 柔性有机电致发光器件导电基板的工艺性能　　 　　
4 3-氨基苯硼酸-*共聚物薄膜对pH的光学响应　　 　　
5 直接电沉积金纳米粒子修饰氧化铟锡电极测定亚*根　　 　　
6 AR／EMI显示窗口的模拟设计　　 　　
7 3-氨基苯硼酸-*在ITO玻璃上的电聚合及对维生素C的光学响应　　 　　
8 射频等离子体改性工艺与氧化铟锡薄膜性能研究　　
9 阿霉素在氧化铟锡电极上的电化学行为及其应用　　 　　
10 磁控溅射ITO薄膜的退火处理　　 　　
11 水基溶胶凝胶法制备纳米氧化铟锡粉末　　 　　
12 基于玻璃基底的细胞培养芯片研究　　 　　
13 ITO玻璃电致化学发光微流控芯片的低温键合　　 　　
15 透明导电玻璃（ITO）基材自加热传感静态芯片聚合酶链反应（PCR）　　 　　
16 聚乙烯醇缩丁醛纳米透明隔热涂料的研制　　 　　
17 低真空下射频磁控溅射法制备ITO薄膜　　 　　
18 TFT—LCD制程中ITO残留的产生与控制　　 　　
19 高密度氧化铟锡（ITO）靶材的制备研究　　 　　
20 ITO表面改性对有机电致发光器件性能的影响　　 　　
21 透明纳米线　　 　　
24 以水溶液法制备氧化铟锡粉末的方法　　
27 HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能　　 　　
28 纳米氧化铟锡在乙醇相中的分散稳定性研究　　 　　
29 导电高分子聚合物在电阻式触摸屏技术中的发展　　 　　
30 未来5年铟原料供应不会出现短缺　　
34 胶原-氧化铟锡复合红外低发射率涂料的制备及性能研究　　 　　
35 磁控溅射低阻ITO薄膜的气体参数优化　　 　　
36 直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究　　 　　
37 纳米级氧化铟锡复合粉体的制备及其性能　　
38 辅助材料　　 　　
39 氧化铟锡薄膜制备工艺参数的正交优化设计　　 　　
40 水蒸气分压强对ITO薄膜均匀性和光电性能的影响　　 　　
41 氧化铟锡（ITO）薄膜的透明吸波特性研究　　
42 制造ITO新技术　　
43 一种在弱酸性介质中有电化学发光性能的鲁米诺衍生物　　 　　
44 COG液晶显示模块电极腐蚀问题研究　　
45 多孔硅制备条件对其电致发光特性的影响　　
46 科技简讯　　
47 共沸蒸馏干燥法制备氧化铟锡纳米粉体及其性能表征　　
49 低阻ITO玻璃的制造工艺　　 　　
50 株冶ITO靶材国标通过审定　　
51 沉淀法制备氧化铟锡超细材料的研究进展　　
52 液相共沉淀法制备氧化铟锡超细粉体材料的研究进展　　
53 空气气氛中Pt和TiO2间强相互作用的STS和XPS研究　　
54 日本东曹公司开发出可替代ITO的氧化锌系靶材　　
55 鲁米诺在氧化铟锡玻璃上的电聚合及电化学发光性能研究　　
56 ITO靶材市场将不断扩大　　
57 n-羟基苯甲酸（n=p，m，o）在一种新的活性基底上的SERS研究　　
58 水性聚氨酯的纳米改性　　
59 纳米氧化铟锡表面改性研究　　
60 LCD制程中热处理对ITO膜电学和光学性质的影响　　
61 单分散纳米氧化铟锡粉末的水热合成　　
63 可鉴别室内有害气体的铟锡氧化物薄膜气敏特性研究　　
64 ITO纳米粉末爆炸压实烧结致密化陶瓷靶材研究　　
65 纳米氧化铟锡透明隔热涂料的制备及性能表征　　
66 基底温度对ITO薄膜红外发射特性的影响　　
68 氧化铟锡薄膜隔热效果的计算与分析　　
69 纳米氧化铟锡掺杂的有机玻璃电导率及复介电常数的研究　　
70 空穴注入型CuPc二氧化氮气体传感器研究　　
71 SiO2热控涂层的制备　　
72 磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究　　
73 氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用　　
74 ITO薄膜的光电发射效应　　
75 热处理对制备纳米氧化铟锡（ITO）粉末的影响　　
76 高透射性能的触摸屏　　
77 ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究　　
78 日本藤仓公司开发新的透明导电玻璃　　
79 工艺参数对射频磁控管溅射ITO薄膜结构性能和电性能的影响　　
80 平面磁控溅射氧化铟锡卷绕镀膜设备　　
81 ITO阻值的精确计算及影响因素　　
82 工艺参数对氧化铟锡薄膜光电性能的影响　　
83 光学太阳反射镜抗静电薄膜的设计原则　　
84 使用透明氧化物的紫外发光二极管　　
86 氧化铟锡靶与铟的润湿性研究　　
87 ITO玻璃在线等离子体清洗的研究　　
88 氧等离子体处理对氧化铟锡表面化学状态影响的ADXPS研究　　
89 几种功能薄膜及其产业化应用现状与前景　　
90 ITO薄膜载流子浓度的理论上限　　
91 用磁控管溅射技术控制氧化铟锡薄膜的特性　　
92 ITO膜溅射成膜装置　　
93 制备ITO薄膜的磁控反应溅射镀膜设备的研制　　
94 ITO薄膜产业化进程概述　　
95 ITO导电玻璃生产线真空室结构设计与制造　　
96 ITO透明导电膜玻璃的工业化生产　　
97 氧化铟锡透明导电玻璃可见光透射率的研究　　
98 光谱法控制ITO膜沉积速率　　
99 在有机玻璃基底上制备ITO透明导电膜　　
100 在塑料基底上低温沉积ITO透明导电膜　　
101 原子层外延法生产氧化铟锡薄膜　　
102 透明导电氧化铟锡薄膜的特殊应用　　
103 氧化铟锡薄膜材料开发现状与前景　　
105 反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析　　
106 退火对溅射沉积ITO膜电学性能的影响　　
107 氧化铟锡（ITO）膜的光学及电学性能　　
108 淀积参数对ITO膜电阻率的影响　　
109 氧化铟锡薄膜的气敏特性研究　　
110 直流三极偏压溅射氧化铟锡薄膜　　
111 衬底偏压对膜表面层成分的影响　
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