等离子、等离子显示器、等离子区、等离子弧焊及生产工艺技术
0011-0001、 其电极具有大量均匀边沿的等离子聚合设备
摘要、 本发明涉及等离子聚合设备包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。
0199-0002、 汽车等离子弧高能点火器
摘要、 一种汽车等离子弧高能电火器，由大功率信号电源、高频、高压、脉冲发生电路与等离子弧发生器(电弧塞)等分别构成，由点火信号电压使大功率管T1，导通经整流后供给高频、高压、脉冲发生器所需电源由桥式分压电阻R1，至R4分别与双场效应管T2、T3的栅极连接，T2、T3的漏极分别接脉冲变压器B的两初极端，该初极端并连有电容C，脉冲变压器的次极线圈Ns接分火盘F通过旋转式分火盘依次将分配各缸的与等离子弧发生器(电弧塞)RL连接。本装置的优点是：利用等离子体产生的高温电弧实现高能点火，使汽缸内燃料更加充分燃烧，提高发动机功率，节油，降低尾气排放，低温启动性好，并杜绝了火花塞被淹湿所造成发动机启动困难。本装置成本造价低，上述效果明显。
0182-0003、 等离子显示装置
公开一种结构，其中框架可以以低成本成功地固定到等离子显示器上。该等离子显示器包括一等离子显示板电路基片，该电路基片含有驱动等离子显示板的驱动电路，一主框架，用于安装这些电路基片粘性带，用于把该等离子显示板固定到主框架上，在主框架的粘性带固定其上的部分提供小孔，以便它们可以预置的间隔规律地排列。当固定粘性带和主框架时，在粘性带和主框架之间无空气泡形成，因为在主框架的粘性带固定其上的部分提供多个小孔。
0024-0004、 等离子处理装置
摘要、 本发明为实现小型化和简单化的等离子处理装置从真空容器（１）壁向真空容器内突设基板置放台（１０），在设于该基板置放台上的凹部（１０ａ）内配置安装基板（５）的回转支座（８）的同时以密封其外周的状态回转自如地加以支承，在该回转支座的内部设置叶片（９），并将流体的供给口（１１）和排出口（１２）在基板置放台上形成为对于叶片施加回转力状，由于从供给口供给流体，使基板在回转的同时冷却。
0091-0005、 等离子弧汽相反应炉
摘要、 一种主要由汽相反应室、炉体、阳极、阴极和侧气嘴套等构成的等离子弧汽化反应炉，运用等离子弧使金属液迅速汽化并同时与氧瞬间化合制备纳米级金属氧化物。它克服了液相法的产品纯度低、粒度大、比表面积小、工艺繁杂、耗能大、占地多、成本高、有污染等不足可取代液相法的近十道工序。本发明可适用于汽化点3000k以下的纳米级金属氧化物制备推广应用价值大，社会经济效益显著，市场前景可观。
0149-0006、 半导体器件的制备方法
摘要、 一种半导体器件的制备方法包括：在半导体元件表面上形成一层有机聚合物树脂层，对形成的层进行图案形成和固化处理，用已形成了图案并固化了的层作为掩模而对元件进行蚀刻以暴露出位于开放部分的导电层，在100℃或更高的温度下用氧等离子体处理元件并清洗位于开放部分的导电层。当通过氧等离子处理来清洗开放部分的导电层时有机保护层上的裂纹形成得到抑制有机保护层与密封树脂间的粘结性得到提高。
0029-0007、 标记金刚石的方法
摘要、 为了在金刚宝石的表面上形成一种用眼看不见的信息标记，在宝石的整个露出的表面上施加一种等离子抗蚀剂，在要形成标记的区域的表面上施加一层金，利用紫外激光烧蚀方式烧蚀所选择区域的金属层和抗蚀剂层，以便在表面上形成掩模，对金属层提供电连接，通过掩模对该表面进行等离子蚀刻，以施加适当深度的标记，顺序地除去抗蚀剂层和金属层。
0146-0008、 由固体碳和水生产氢气的方法和系统
摘要、 公开了一种由固体碳物质和进料水产生氢气的方法和系统，包括电弧等离子体反应器(APR)，该电弧等离子体反应器具有电弧放电缂妥霸诘壤胱臃从ζ髦械墓烫逄嘉镏市纬傻男矶嘞感〉牡缁⊥ǖ?35)。在等离子反应器中将进料水转变成水蒸气，并将水蒸气通入细小的电弧通道，在这些电弧通道中在电弧等离子体存在下水蒸气与固体碳物质反应生成富氢气体。
0184-0009、 等离子增强真空干燥
摘要、 公开一种等离子增强真空干燥方法。它特别有益地用于等离子灭菌工艺，并对一般抽真空干燥方法表现出明显改进。待灭菌物品放置在密封舱室内并将舱室抽真空。在舱室开始抽空步骤期间产生剩余气体物质的等离子。这样，促进了物品的干燥，并有益地使获得所要求的压力比不用等离子情况要快捷。向舱室注入灭菌气体，并产生第二等离子体激活灭菌气体等离子，从而使舱室内物品灭菌。
0072-0010、 多孔钛生物涂层骨植入体及其制造方法
摘要、 本发明涉及多孔钛生物涂层骨植入体的制造，以钛、钛合金或不锈钢为基材的多孔钛生物涂层骨植入体，与基材结合强度是２５ＭPａ—４５ＭPａ，制备方法是：在氩气保护下，用氧－*火焰或等离子将钛－铝混合粉或钛合金－铝混合粉喷涂于基材表面，３０—４０％的碱液浸泡水清洗，在摄氏４００—６００度下，氩气保护或真空干燥２—１０小时即可，本发明强度高，性能稳定，制造方法操作简单，成本低。本发明用于制造多孔钛生物涂层的人工关节、椎弓钉、髓内钉、接骨板、螺钉、齿根等多种矫形材料可与骨组织形成优良的骨性结合，从而达到永久性或半永久性生物内固定。
0052-0011、 对具有电离作用的交变显示板的控制方法
0179-0012、 改善等离子平面显示器上色纯度及色温的补偿方法
0188-0013、 降低等离子损害的导流电路及半导体制造方法
0110-0014、 焊缝对称型钢板制对焊弯头及其制造工艺
0191-0015、 用于气体的等离子处理的反应器
0006-0016、 冷却板
0040-0017、 等离子显示装置面板的排气密封方法
0203-0018、 用于显示装置的反射偏光器
0121-0019、 绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法
0155-0020、 刻花辊及其加工方法
0158-0021、 显示设备的功率电平控制方法及实现该方法的装置
0150-0022、 智能多功能逆变式焊接/切割电源
0170-0023、 等离子显示面板组件的包装方法
0059-0024、 铝合金制件上产生硬质防护涂层的方法
0084-0025、 稀土类磁铁废屑的熔炼方法和熔炼装置以及稀土类磁铁废屑的一次熔炼合金
0112-0026、 蜂窝制造方法
0028-0027、 基底的真空镀层方法和设备
0079-0028、 激发等离子体屏的方法
0076-0029、 平板型等离子放电显示装置及其驱动方法
0137-0030、 等离子显示器的前板与后板构造
0153-0031、 预清室的微粒污染防止方法
0165-0032、 碳素薄膜的蚀刻方法和蚀刻设备
0094-0033、 斜拉悬梁支撑膜结构的微机械热电堆红外探测器阵列
0194-0034、 于一半导体晶片表面上沉积一薄膜的方法
0047-0035、 刀片的非晶态金刚石涂层
0018-0036、 等离子体显示板驱动方法及以高发光效率显示高质图象的等离子体显示板装置
0160-0037、 放电等离子烧结法制备氮化铝透明陶瓷
0088-0038、 利用透明电极宽度来控制色温的等离子显示器
0098-0039、 等离子显示装置
0178-0040、 改善等离子平面显示器上色温及色偏差的补偿方法
0085-0041、 显示装置及其驱动方法
0104-0042、 通过冷加工和表面退火生产金属产品例如片材的方法
0157-0043、 等离子显示器的不对称阻隔壁结构的制作方法
0141-0044、 等离子显示屏
0073-0045、 具有外阻气涂层的塑料容器
0128-0046、 具有荧光层的等离子荧光屏
0025-0047、 铝/铜金属连线上反应离子蚀刻后聚合物的清除方法
0027-0048、 驱动等离子显示面板的方法
0131-0049、 不含氮化物的凹槽隔离物的制造方法
0168-0050、 用于显示设备的数据处理方法及装置
0012-0051、 具有三价铽活化磷光体的等离子图象显示屏
0120-0052、 叠层体、叠层体的制备方法及半导体元件
0204-0053、 用于在等离子聚合装置中固定电极的装置
0127-0054、 等离子加工设备
0021-0055、 改善了光效率的双基底等离子面板
0090-0056、 用电解锰作原料直接熔炼高品位块状金属锰的方法
0196-0057、 活塞环的表面喷钼处理
0089-0058、 射频等离子发生器
0134-0059、 适用于显示器的等离子显示板及其制造方法
0109-0060、 等离子显示面板及其驱动方法和装置
0186-0061、 一种自清洁合成纤维的制法
0115-0062、 半导体集成电路系统
0004-0063、 等离子显示屏和用于制造等离子显示屏的隔离物的方法
0142-0064、 等离子区的异常放电检测装置及其检测方法
0187-0065、 一种广义的绝缘体上半导体薄膜材料及制备方法
0005-0066、 钢工件表面钝化处理的方法
0197-0067、 在去光阻制程中避免低介电常数介电层劣化的方法
0037-0068、 特别是滑动轴承的热喷涂方法
0099-0069、 超细碳－氮－硅复合材料气相合成新工艺
0161-0070、 半导体器件的制造方法
0192-0071、 封入氧化物玻璃微粒子及其制造方法
0200-0072、 彩色显示装置
0032-0073、 带一层薄的滑动轴承涂层的连杆
0116-0074、 包括中间碳涂层和接枝聚合的硅氧烷医疗器件的表面处理
0060-0075、 用特殊调振射频电磁场发生器的物体等离子云切割方法
0175-0076、 使用选择性转换寻址方法驱动等离子显示板的方法
0183-0077、 除去氮化硅膜的方法
0102-0078、 等离子焚烧处理有机卤化物的方法及工业装置
0126-0079、 一种利用放电等离子烧结制备稀土永磁材料的方法
0008-0080、 绝缘子
0039-0081、 平板显示器
0205-0082、 一种处理残留在农产品上化学物质的方法及所用的装置
0113-0083、 用等离子体沉积法生产光纤预型件的方法和装置
0093-0084、 控制显示期内矩阵显示光发射的方法及实现该方法的装置
0096-0085、 半导体集成电路器件及其制造方法
0086-0086、 混合粉末热喷射方法
0111-0087、 减轻显示不良的等离子显示装置
0054-0088、 用于沉积薄膜的双频等离子激发
0074-0089、 一种生产超细三氧化二锑的方法及设备
0107-0090、 金属和非金属元素等离子共渗工艺
0173-0091、 等离子体显示板及图象显示装置
0068-0092、 制造半导体器件的方法
0066-0093、 开关装置及其制造方法
0136-0094、 一种碳化硼/铜涂层功能梯度材料及制备方法
0092-0095、 一种铸铁柴油机气缸套的生产方法
0122-0096、 液晶显示装置的后照明用直流式等离子显示面板
0078-0097、 一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法
0189-0098、 等离子平面显示器上定址电极驱动晶片的散热控制方法
0083-0099、 隔离器和电极，特别是阴极或阳极的粘合方法以及电池
0015-0100、 有机膜的腐蚀方法、半导体器件制造方法及图形形成方法
0009-0101、 基于分开的偶数行和奇数行寻址对等离子屏幕寻址的方法
0139-0102、 用于透明绝缘膜的糊料和其制造方法、等离子显示板和其制造方法
0081-0103、 微晶畴石墨材料及其生产方法
0172-0104、 硅酸二钙涂层－钛合金承载骨替换材料及制备方法
0135-0105、 高效远红外涂料及其制备方法
0095-0106、 用于半导体处理室的室衬
0152-0107、 城市垃圾固液气三相资源化处理方法
0198-0108、 灰化装置灰化方法及用于制造半导体器件的方法
0124-0109、 用于离子束照射装置的离子产生装置
0123-0110、 液晶显示装置的后照明用交流式等离子显示面板
0061-0111、 负压吸力洗衣机
0062-0112、 水油混合燃料蒸汽式内燃机
0180-0113、 延长等离子平面显示器使用寿命的方法
0014-0114、 混合电弧/激光焊接工艺，特别用来焊接管子或汽车构件
0051-0115、 脉冲气体激光发生装置
0167-0116、 外科器械的刀片
0010-0117、 通过微波微结构电极放电产生局部等离子区的装置及方法
0129-0118、 提供旋转电场的电感无电极灯
0022-0119、 提高计价秤称重传感器稳定性的方法
0075-0120、 采用等离子外部汽相沉积法制造用于光纤生产的管状件的方法
0140-0121、 等离子显示屏用电极基板及其制造方法
0077-0122、 一种令原子核发生K电子俘获型核反应的方法
0065-0123、 半导体器件
0048-0124、 水热合成纳米羟基磷灰石生物涂层的复合制备工艺
0130-0125、 低温等离子体处理种子的方法及低温等离子体种子处理机
0114-0126、 等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法
0003-0127、 交流电流驱动型等离子显示器
0147-0128、 金属表面喷涂自反应复合粉合成金属/陶瓷复合涂层
0185-0129、 改善人工心脏瓣叶材料血液相容性和使用安全性的方法
0007-0130、 含有特别调谐射频电磁场发生器的等离子切割物质的装置
0195-0131、 微管状碳化钛基纤维及其制备方法
0035-0132、 带有一个复合轴承的连杆
0097-0133、 选择性半球形硅晶粒制作工艺
0101-0134、 处理部件表面的方法和装置
0190-0135、 对输入等离子平面显示器的图像灰阶分段反补偿方法
0201-0136、 提高等离子显示器图象清晰度电视的方法
0031-0137、 真空涂层形成装置
0133-0138、 适用于显示器的等离子显示板及其制造方法
0049-0139、 射频清洗工艺
0169-0140、 多区电阻加热器
0034-0141、 带一层紧配合的滑动轴承涂层的连杆
0156-0142、 氢气发动机、动力驱动系统及所驱动的车辆
0176-0143、 生产纳米金属粉装置
0046-0144、 圈卷产色链霉菌变株及其培养方法和应用
0069-0145、 一种弧光传感等离子弧焊小孔行为的方法及其装置
0042-0146、 电磁粉末淀积的方法及设备
0163-0147、 合成天然气的产生系统和有关方法
0145-0148、 脉冲等离子体处理方法及其设备
0148-0149、 无轨行走单道全熔透弧焊装置和方法
0138-0150、 树脂成型体
0162-0151、 微束等离子焊机
0082-0152、 高密度等离子体化学气相沉积制造介电防反射涂层的方法
0058-0153、 调整等离子体密度分布的装置和方法
0100-0154、 一种钢基表面耐磨复合涂层的涂复方法
0020-0155、 电介质阻挡层放电灯光源装置及其供电装置
0117-0156、 一种用电弧激发超声波的方法
0030-0157、 工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积工模具表面强化设备
0070-0158、 金属叶片等离子淬火系统及淬火方法
0103-0159、 用于紫外线灯系统的反射器
0108-0160、 一种具有不同宽度分割壁的等离子显示屏
0063-0161、 用于单模纤维的大的MCVD预型件及其制造方法
0193-0162、 石英光纤芯棒的制备方法
0067-0163、 曝气法啤酒酿造水处理工艺
0016-0164、 等离子显示板及其制造方法
0154-0165、 预清室的硅化物清除方法
0132-0166、 具有高角度分辨率和快响应时间的表面等离子体共振检测
0057-0167、 柴油机中同时降低氧化氮及碳黑微粒排放的清洁燃烧方法
0171-0168、 由固体碳和水生产重质烃的方法和系统
0119-0169、 等离子显示板和驱动它的方法
0064-0170、 控制等离子显示面板的亮度的方法和系统
0151-0171、 用直流电等离子聚合在金属表面连续形成聚合物的设备
0206-0172、 等离子显示板
0105-0173、 交流等离子显示板的能量回收保持电路
0087-0174、 等离子显示器
0044-0175、 多层印刷电路板用的绝缘树脂组合物
0017-0176、 制作粘着性表面覆层的方法
0118-0177、 带有可弯曲电路板和连接器的等离子显示器件
0013-0178、 具有三价铽活化磷光体的等离子图象显示屏
0045-0179、 形成透明导电膜的方法以及采用该方法形成的透明导电膜
0125-0180、 电子食品保鲜柜
0038-0181、 等离子焊接熔池小孔尺寸的电弧检测方法及信号采集系统
0106-0182、 等离子体显示屏
0043-0183、 交流型等离子显示面板
0055-0184、 灯头安装方法
0181-0185、 改善等离子平面显示器上色彩饱和度及图像品质的补偿方法
0159-0186、 微束等离子焊机的数字信号控制系统
0143-0187、 驱动等离子显示屏的方法
0056-0188、 管球的制造方法
0177-0189、 Ti/HA复合材料及其制备方法
0166-0190、 具有钌或氧化钌的半导体器件的制造方法
0026-0191、 等离子焊接熔池穿孔状态的电弧电压传感方法及其系统
0080-0192、 等离子枪消毒灭菌方法
0019-0193、 薄膜成形设备
0033-0194、 带一轴承合金的连杆
0023-0195、 低压溅镀的方法与装置
0050-0196、 扬声器用振动板、其制造方法和使用它的扬声器
0053-0197、 用等离子体聚合反应来改善制冷和空调用金属的表面
0174-0198、 ZnO薄膜生长用MOCVD设备及其工艺
0002-0199、 活塞环表覆钛基纳米陶瓷及其方法
0001-0200、 硅基有机微光机声压传感器芯片制备方法
0041-0201、 等离子弧焊熔池穿孔状态的声音信号传感方法及其系统
0144-0202、 具有荧光层的等离子图像屏幕
0071-0203、 检测伪轮廓线的检测器及使用其的显示设备
0202-0204、 等离子显示屏
0036-0205、 气体净化装置
0164-0206、 交流表面放电等离子显示屏及其驱动方法
0207-0207、 碳氟化合物原料的处理
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摘要、 本发明涉及等离子聚合设备包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。
0199-0002、 汽车等离子弧高能点火器
摘要、 一种汽车等离子弧高能电火器，由大功率信号电源、高频、高压、脉冲发生电路与等离子弧发生器(电弧塞)等分别构成，由点火信号电压使大功率管T1，导通经整流后供给高频、高压、脉冲发生器所需电源由桥式分压电阻R1，至R4分别与双场效应管T2、T3的栅极连接，T2、T3的漏极分别接脉冲变压器B的两初极端，该初极端并连有电容C，脉冲变压器的次极线圈Ns接分火盘F通过旋转式分火盘依次将分配各缸的与等离子弧发生器(电弧塞)RL连接。本装置的优点是：利用等离子体产生的高温电弧实现高能点火，使汽缸内燃料更加充分燃烧，提高发动机功率，节油，降低尾气排放，低温启动性好，并杜绝了火花塞被淹湿所造成发动机启动困难。本装置成本造价低，上述效果明显。
0182-0003、 等离子显示装置
公开一种结构，其中框架可以以低成本成功地固定到等离子显示器上。该等离子显示器包括一等离子显示板电路基片，该电路基片含有驱动等离子显示板的驱动电路，一主框架，用于安装这些电路基片粘性带，用于把该等离子显示板固定到主框架上，在主框架的粘性带固定其上的部分提供小孔，以便它们可以预置的间隔规律地排列。当固定粘性带和主框架时，在粘性带和主框架之间无空气泡形成，因为在主框架的粘性带固定其上的部分提供多个小孔。
0024-0004、 等离子处理装置
摘要、 本发明为实现小型化和简单化的等离子处理装置从真空容器（１）壁向真空容器内突设基板置放台（１０），在设于该基板置放台上的凹部（１０ａ）内配置安装基板（５）的回转支座（８）的同时以密封其外周的状态回转自如地加以支承，在该回转支座的内部设置叶片（９），并将流体的供给口（１１）和排出口（１２）在基板置放台上形成为对于叶片施加回转力状，由于从供给口供给流体，使基板在回转的同时冷却。
0091-0005、 等离子弧汽相反应炉
摘要、 一种主要由汽相反应室、炉体、阳极、阴极和侧气嘴套等构成的等离子弧汽化反应炉，运用等离子弧使金属液迅速汽化并同时与氧瞬间化合制备纳米级金属氧化物。它克服了液相法的产品纯度低、粒度大、比表面积小、工艺繁杂、耗能大、占地多、成本高、有污染等不足可取代液相法的近十道工序。本发明可适用于汽化点3000k以下的纳米级金属氧化物制备推广应用价值大，社会经济效益显著，市场前景可观。
0149-0006、 半导体器件的制备方法
摘要、 一种半导体器件的制备方法包括：在半导体元件表面上形成一层有机聚合物树脂层，对形成的层进行图案形成和固化处理，用已形成了图案并固化了的层作为掩模而对元件进行蚀刻以暴露出位于开放部分的导电层，在100℃或更高的温度下用氧等离子体处理元件并清洗位于开放部分的导电层。当通过氧等离子处理来清洗开放部分的导电层时有机保护层上的裂纹形成得到抑制有机保护层与密封树脂间的粘结性得到提高。
0029-0007、 标记金刚石的方法
摘要、 为了在金刚宝石的表面上形成一种用眼看不见的信息标记，在宝石的整个露出的表面上施加一种等离子抗蚀剂，在要形成标记的区域的表面上施加一层金，利用紫外激光烧蚀方式烧蚀所选择区域的金属层和抗蚀剂层，以便在表面上形成掩模，对金属层提供电连接，通过掩模对该表面进行等离子蚀刻，以施加适当深度的标记，顺序地除去抗蚀剂层和金属层。
0146-0008、 由固体碳和水生产氢气的方法和系统
摘要、 公开了一种由固体碳物质和进料水产生氢气的方法和系统，包括电弧等离子体反应器(APR)，该电弧等离子体反应器具有电弧放电缂妥霸诘壤胱臃从ζ髦械墓烫逄嘉镏市纬傻男矶嘞感〉牡缁⊥ǖ?35)。在等离子反应器中将进料水转变成水蒸气，并将水蒸气通入细小的电弧通道，在这些电弧通道中在电弧等离子体存在下水蒸气与固体碳物质反应生成富氢气体。
0184-0009、 等离子增强真空干燥
摘要、 公开一种等离子增强真空干燥方法。它特别有益地用于等离子灭菌工艺，并对一般抽真空干燥方法表现出明显改进。待灭菌物品放置在密封舱室内并将舱室抽真空。在舱室开始抽空步骤期间产生剩余气体物质的等离子。这样，促进了物品的干燥，并有益地使获得所要求的压力比不用等离子情况要快捷。向舱室注入灭菌气体，并产生第二等离子体激活灭菌气体等离子，从而使舱室内物品灭菌。
0072-0010、 多孔钛生物涂层骨植入体及其制造方法
摘要、 本发明涉及多孔钛生物涂层骨植入体的制造，以钛、钛合金或不锈钢为基材的多孔钛生物涂层骨植入体，与基材结合强度是２５ＭPａ—４５ＭPａ，制备方法是：在氩气保护下，用氧－*火焰或等离子将钛－铝混合粉或钛合金－铝混合粉喷涂于基材表面，３０—４０％的碱液浸泡水清洗，在摄氏４００—６００度下，氩气保护或真空干燥２—１０小时即可，本发明强度高，性能稳定，制造方法操作简单，成本低。本发明用于制造多孔钛生物涂层的人工关节、椎弓钉、髓内钉、接骨板、螺钉、齿根等多种矫形材料可与骨组织形成优良的骨性结合，从而达到永久性或半永久性生物内固定。
0052-0011、 对具有电离作用的交变显示板的控制方法
0179-0012、 改善等离子平面显示器上色纯度及色温的补偿方法
0188-0013、 降低等离子损害的导流电路及半导体制造方法
0110-0014、 焊缝对称型钢板制对焊弯头及其制造工艺
0191-0015、 用于气体的等离子处理的反应器
0006-0016、 冷却板
0040-0017、 等离子显示装置面板的排气密封方法
0203-0018、 用于显示装置的反射偏光器
0121-0019、 绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法
0155-0020、 刻花辊及其加工方法
0158-0021、 显示设备的功率电平控制方法及实现该方法的装置
0150-0022、 智能多功能逆变式焊接/切割电源
0170-0023、 等离子显示面板组件的包装方法
0059-0024、 铝合金制件上产生硬质防护涂层的方法
0084-0025、 稀土类磁铁废屑的熔炼方法和熔炼装置以及稀土类磁铁废屑的一次熔炼合金
0112-0026、 蜂窝制造方法
0028-0027、 基底的真空镀层方法和设备
0079-0028、 激发等离子体屏的方法
0076-0029、 平板型等离子放电显示装置及其驱动方法
0137-0030、 等离子显示器的前板与后板构造
0153-0031、 预清室的微粒污染防止方法
0165-0032、 碳素薄膜的蚀刻方法和蚀刻设备
0094-0033、 斜拉悬梁支撑膜结构的微机械热电堆红外探测器阵列
0194-0034、 于一半导体晶片表面上沉积一薄膜的方法
0047-0035、 刀片的非晶态金刚石涂层
0018-0036、 等离子体显示板驱动方法及以高发光效率显示高质图象的等离子体显示板装置
0160-0037、 放电等离子烧结法制备氮化铝透明陶瓷
0088-0038、 利用透明电极宽度来控制色温的等离子显示器
0098-0039、 等离子显示装置
0178-0040、 改善等离子平面显示器上色温及色偏差的补偿方法
0085-0041、 显示装置及其驱动方法
0104-0042、 通过冷加工和表面退火生产金属产品例如片材的方法
0157-0043、 等离子显示器的不对称阻隔壁结构的制作方法
0141-0044、 等离子显示屏
0073-0045、 具有外阻气涂层的塑料容器
0128-0046、 具有荧光层的等离子荧光屏
0025-0047、 铝/铜金属连线上反应离子蚀刻后聚合物的清除方法
0027-0048、 驱动等离子显示面板的方法
0131-0049、 不含氮化物的凹槽隔离物的制造方法
0168-0050、 用于显示设备的数据处理方法及装置
0012-0051、 具有三价铽活化磷光体的等离子图象显示屏
0120-0052、 叠层体、叠层体的制备方法及半导体元件
0204-0053、 用于在等离子聚合装置中固定电极的装置
0127-0054、 等离子加工设备
0021-0055、 改善了光效率的双基底等离子面板
0090-0056、 用电解锰作原料直接熔炼高品位块状金属锰的方法
0196-0057、 活塞环的表面喷钼处理
0089-0058、 射频等离子发生器
0134-0059、 适用于显示器的等离子显示板及其制造方法
0109-0060、 等离子显示面板及其驱动方法和装置
0186-0061、 一种自清洁合成纤维的制法
0115-0062、 半导体集成电路系统
0004-0063、 等离子显示屏和用于制造等离子显示屏的隔离物的方法
0142-0064、 等离子区的异常放电检测装置及其检测方法
0187-0065、 一种广义的绝缘体上半导体薄膜材料及制备方法
0005-0066、 钢工件表面钝化处理的方法
0197-0067、 在去光阻制程中避免低介电常数介电层劣化的方法
0037-0068、 特别是滑动轴承的热喷涂方法
0099-0069、 超细碳－氮－硅复合材料气相合成新工艺
0161-0070、 半导体器件的制造方法
0192-0071、 封入氧化物玻璃微粒子及其制造方法
0200-0072、 彩色显示装置
0032-0073、 带一层薄的滑动轴承涂层的连杆
0116-0074、 包括中间碳涂层和接枝聚合的硅氧烷医疗器件的表面处理
0060-0075、 用特殊调振射频电磁场发生器的物体等离子云切割方法
0175-0076、 使用选择性转换寻址方法驱动等离子显示板的方法
0183-0077、 除去氮化硅膜的方法
0102-0078、 等离子焚烧处理有机卤化物的方法及工业装置
0126-0079、 一种利用放电等离子烧结制备稀土永磁材料的方法
0008-0080、 绝缘子
0039-0081、 平板显示器
0205-0082、 一种处理残留在农产品上化学物质的方法及所用的装置
0113-0083、 用等离子体沉积法生产光纤预型件的方法和装置
0093-0084、 控制显示期内矩阵显示光发射的方法及实现该方法的装置
0096-0085、 半导体集成电路器件及其制造方法
0086-0086、 混合粉末热喷射方法
0111-0087、 减轻显示不良的等离子显示装置
0054-0088、 用于沉积薄膜的双频等离子激发
0074-0089、 一种生产超细三氧化二锑的方法及设备
0107-0090、 金属和非金属元素等离子共渗工艺
0173-0091、 等离子体显示板及图象显示装置
0068-0092、 制造半导体器件的方法
0066-0093、 开关装置及其制造方法
0136-0094、 一种碳化硼/铜涂层功能梯度材料及制备方法
0092-0095、 一种铸铁柴油机气缸套的生产方法
0122-0096、 液晶显示装置的后照明用直流式等离子显示面板
0078-0097、 一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法
0189-0098、 等离子平面显示器上定址电极驱动晶片的散热控制方法
0083-0099、 隔离器和电极，特别是阴极或阳极的粘合方法以及电池
0015-0100、 有机膜的腐蚀方法、半导体器件制造方法及图形形成方法
0009-0101、 基于分开的偶数行和奇数行寻址对等离子屏幕寻址的方法
0139-0102、 用于透明绝缘膜的糊料和其制造方法、等离子显示板和其制造方法
0081-0103、 微晶畴石墨材料及其生产方法
0172-0104、 硅酸二钙涂层－钛合金承载骨替换材料及制备方法
0135-0105、 高效远红外涂料及其制备方法
0095-0106、 用于半导体处理室的室衬
0152-0107、 城市垃圾固液气三相资源化处理方法
0198-0108、 灰化装置灰化方法及用于制造半导体器件的方法
0124-0109、 用于离子束照射装置的离子产生装置
0123-0110、 液晶显示装置的后照明用交流式等离子显示面板
0061-0111、 负压吸力洗衣机
0062-0112、 水油混合燃料蒸汽式内燃机
0180-0113、 延长等离子平面显示器使用寿命的方法
0014-0114、 混合电弧/激光焊接工艺，特别用来焊接管子或汽车构件
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0167-0116、 外科器械的刀片
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0129-0118、 提供旋转电场的电感无电极灯
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0075-0120、 采用等离子外部汽相沉积法制造用于光纤生产的管状件的方法
0140-0121、 等离子显示屏用电极基板及其制造方法
0077-0122、 一种令原子核发生K电子俘获型核反应的方法
0065-0123、 半导体器件
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0114-0126、 等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法
0003-0127、 交流电流驱动型等离子显示器
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0195-0131、 微管状碳化钛基纤维及其制备方法
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0169-0140、 多区电阻加热器
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