1、 应用于约束等离子体反应室的半导体双镶嵌蚀刻制作过程
2、 在双重镶嵌方法中的低介电常数的阻蚀刻层
3、 双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻
4、 使用于双镶嵌蚀刻方法的双层金属硬屏蔽
5、 形成半导体镶嵌结构的蚀刻制程
6、 改善双镶嵌蚀刻轮廓的方法
7、 蚀刻介电层形成接触窗和介层窗的方法以及镶嵌工艺
8、 形成无蚀刻停止层的双镶嵌结构的方法
9、 用于在双镶嵌应用中蚀刻底部抗反射涂覆层的方法
10、 水晶玻璃镶嵌金属蚀刻画
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