0140-0001、 等离子体内湍流式切割机割炬
摘要、 等离子体内湍流式切割机割炬，具有圆锥形的湍流回流电弧室、平端面或凹面阴极表面、具有中心突出的“凹”形阴极背后的水冷空唬涔ぷ鞯缪勾?0～120V提高到160～200V，本实用新型可使切割机整机电源效率大提高，阴极寿命从2小时延长至10小时，切割能力大增强，在同等条件下，如切割厚度与切割速度比目前国内外产品提高约30～50％。
0027-0002、 双阳极热等离子发生器
摘要、 本发明公开了一种双阳极热等离子发生器，属于金属及其氧化物或碳化物的喷涂设备。该等离子发生器，包括枪体、阴极和阳极，其特征在于枪体中设有圆锥形头部的棒状阴极，阴极前面沿轴向设置两个圆筒状阳极喷嘴，即内阳极和外阳极，中间用耐高温陶瓷环绝缘连接。直流电源的正极连接在外阳极上，负极则连接在阴极上，两阳极间用转移电弧开关连接。本发明提出的热等离子发生器具有电弧稳定性好，使用寿命长的特点，尤其适于内送粉的等离子喷涂。
0017-0003、 使匀速直线运动的电荷辐射大能量的装置
一种使匀速直线运动的电荷辐射大能量的装置包括壳体、加热灯丝、阴极、栅极、聚束极和阳极，壳体内为高真空，加热灯丝、阴极、栅极、聚束极和加速极依次呈直线排列设在壳体内，加热灯丝设在壳体的一端，阴极与其紧靠在一起，其它各极相间而置并与相应的电源连接，所述的阳极为圆环形并至少相间设置两个，所有阳极都与电源的正高压端连接；在壳体的另一端还设有电子收集电极电 子收集电极与电源的正低压端连接。具有输出功率大，设备成本低，容易实施等特点。
0120-0004、 多重微放电协同一体的放电装置
摘要、 本实用新型用一个交流高压电源给反应器提供电能，由附着栅状或面状电极的均匀质地和厚度的介质层构成反应器放电气隙，在气隙空间产生介质阻挡放电，在栅状电极附着的介质层表面产生沿面放电，即两种放电同时在同一放电区内发生。通过增加介质层、改变电极布局和电源连线，可以在放电装置反应器内形成多通道放电气隙，在每一气隙内均可产生上述协同一体的微放电，还可以在放电区内产生双重沿面放电。介质层可以为平板或圆筒结构。本实用新型提供的放电装置能够大幅提高能量利用率，并且具有加工简单、整体体积小、易于反应器冷却、和易于多路放电通道并联或扩大反应器规模等优点。
0006-0005、 等离子体发生系统
摘要、 本发明提供了一种等离子体发生系统。该等离子体发生系统包括：一个微波发生器，用于产生微波；一个折射器，它通过改变上述微波的传播方向以平面波的形式传送上述微波；一个电磁单元，用以对上述微波形成的等离子体施加磁场并使之产生电子回旋谐振。
0082-0006、 磁偏滤导管式阴极弧等离子体源
摘要、 本实用新型公开了一种金属蒸汽真空弧等离子体源，在源与靶室间设置了一个具有轴向磁场的弯曲磁导管，等离子体沿管内轴向磁力线进入靶室，而重杂质粒子由于惯性被滤除，为了提高滤除效果及防止溅射污染，在磁导管的两端加设了孔栏。本实用新型适用于材料表面改性及制备特种功能膜，能生成更纯净细腻的高质量膜。
0045-0007、 ECR等离子体源和ECR等离子体装置
摘要、 本发明的ECR等离子体源由在与等离子体流垂直的面内有大致矩形截面的等离子体生成室(10)；在与等离子体流垂直的面内卷绕成大致矩形的磁性线圈(20、21)；和端部为终端的直接导入方式或分支结合导入方式的导波管(30)或微波空洞共振器构成。将微波从设置在该导波管(30)或微波空洞共振器内部的与微波同相部相当的侧面上的多个开口部(34)，传送到等离子体生成室(10)内。另外，ECR等离子体装置中具有所述ECR等离子体源，还具有移动大型试料用的试料移动机构。
0124-0008、 等离子发生器
摘要、 本实用新型公开一种气相合成法制备纳米氮化硅陶瓷粉体的等离子发生器，它包括正阳极体设有以锥状间隙配合的阴极、阳极部件，靠近阴极、阳极部件的配合位置处设有能包附在离子弧周围并以气旋方式输入起弧、转弧气体的气旋装置本实用新型在结构上采用了旋转气流的方式压缩、阳极的机械结构压缩及冷却水压缩，使所产生的离子弧被有效的压缩集中，从而形成高速、稳定火焰的离子弧，为制备高质量的纳米氮化硅陶瓷粉体提供了可靠的能源保障。
0150-0009、 一种大功率等离子体弧电源
摘要、 本实用新型公开了一种大功率等离子体弧电源，由主电路、取样电路、反馈电路、电流调节电路、放大电路、触发电路及高频振荡器电路组成，特征是：主电路由三组串联的可控硅电路并联而成，其并联的阳极通过电抗器连接等离子体发生器的阴极，并联的阴极通过导线，一路连接该发生器的大阳极、第二阳极，另一路通过高频振荡器次级线圈连接该发生器的小阳极，每组可控硅中间抽头连到三相交流电源上，可控硅的控制极连到触发电路上；取样电路，由三组交流互感器电路并联组成，分别装在三相交流电源线上；优点是采用可控硅整流的恒流源，作为等离子体发生器的电源，其功率可调范围宽(在25KW～300KW)、工作稳定，能保障焚烧炉处理垃圾所需要的加热温度。
0034-0010、 等离子体处理装置与等离子体处理方法
摘要、 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV，cm的范围中。
0114-0011、 一种丝阵负载的定位与支撑装置
021-0012、 一种电子束的束流引导装置
111-0013、 智能溅散离子泵电源控制器
0031-0014、 高频电源及其控制方法、和等离子体处理装置
083-0015、 电弧等离子体发生器脉动进气装置
005-0016、 等离子体处理器装置和方法以及天线
0085-0017、 一种内孔淬火或熔凝硬化用等离子炬
0117-0018、 制备超硬薄膜的离子源装置的滤质器
0098-0019、 新型电子直线加速器
0153-0020、 一种等离子体驱动装置
102-0021、 生产核径迹膜的连续蚀刻装置
018-0022、 由光学钳的静态阵列实现流动粒子横向偏斜和分离的装置和方法
123-0023、 一种大功率空气等离子体发生器
0154-0024、 工业用电子加速器引出窗
0019-0025、 由冷却液体驱动的固体转动靶
0007-0026、 一种活性气体发生方法及其装置
044-0027、 凝胶和粉末的制备
0090-0028、 电容型常温等离子体发生片
0135-0029、 大角度弯转切割磁铁
0003-0030、 用来把在内燃机或燃气轮机中可用的燃料等离子体催化转换成一种合成气体的方法...
0010-0031、 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪
0041-0032、 低纵横比电感耦合等离子发生器
0105-0033、 空气等离子体负氧离子束流装置
089-0034、 陶瓷电容型等离子体发生片
0029-0035、 一种强电离放电非平衡等离子源及制备等离子的方法
036-0036、 微波等离子体源
0127-0037、 等离子喷焊枪内送粉缩放型喷嘴
0144-0038、 均匀大面积常压射频冷等离子体发生器
0053-0039、 等离子体产生设备及等离子体处理设备
0038-0040、 等离子体处理装置
001-0041、 等离子体处理容器内部件
0095-0042、 一种小型加速器辐照装置
079-0043、 水下等离子弧发生器
0081-0044、 用于金属表面强化的小尺寸等离子喷头
0076-0045、 微波等离子体炬
0094-0046、 一种新型的强流真空绝缘串列加速器
0054-0047、 在流体中形成的等离子体
0069-0048、 以全息光学陷阱制造、筛分和融合材料的装置和方法
092-0049、 加速器辐照装置
139-0050、 齿状等离子体反应器
0064-0051、 等离子天线
0062-0052、 等离子体处理装置
112-0053、 离子伯恩斯坦波天线
0077-0054、 一种等离子体发生装置
088-0055、 等离子弧粉末喷焊枪用内送粉组合喷嘴
0063-0056、 产生和控制光学阱以操纵小微粒的装置和方法
137-0057、 一种直线电子加速器
0068-0058、 等离子体喷涂设备
0009-0059、 等离子体喷灯
0152-0060、 直磁式电子加速器
0103-0061、 等离子法制取超细微粉的反应器
0065-0062、 用于微波感应的等离子体的等离子体焰炬
0129-0063、 大功率微波等离子体炬
0100-0064、 离子源脉冲束流调制器
0070-0065、 全吸收电子术快速阀门装置
115-0066、 平面结构射频电感耦合天线及真空耦合窗
0143-0067、 等离子切割机用电极中的等离子发射体
0091-0068、 医用电子回旋加速器
0087-0069、 一种磁控电弧等离子体加热金属件的装置
049-0070、 接触辉光放电等离子体发生装置
050-0071、 大气压等离子体组件
0133-0072、 常压射频圆筒形内射冷等离子体发生器
0008-0073、 开关型电荷放大器等离子避雷系统
0042-0074、 等离子体表面处理方法及设备
0128-0075、 喷射式微波电浆产生器
0030-0076、 粒子加速器的电子能量开关
0122-0077、 大型放电等离子体反应器脉冲供电的集散控制装置
039-0078、 等离子处理装置与基板表面处理装置
096-0079、 加速器束流阻挡板
131-0080、 常压射频和直流混合型冷等离子体发生器
0093-0081、 低温型等离子体发生片
0078-0082、 转移弧水冷金属等离子喷枪
0060-0083、 用于产生等离子的电源供应器及包括其的等离子设备
0125-0084、 常压射频冷等离子体发生器
0113-0085、 工业辐照加速器束流控制装置
024-0086、 一种磁控等离子体装置
136-0087、 高放电能量密度的电晕放电等离子体装置
013-0088、 感应耦合等离子体发生器天线结构
0026-0089、 等离子箱体
0016-0090、 净化空气用针孔型多极板等离子发生装置
051-0091、 离子发生装置
106-0092、 正高压直流流光放电等离子体源装置
107-0093、 等离子喷涂强化装置
015-0094、 电子直线加速器用电子枪
0022-0095、 电子加速器高压线圈的环氧浇注工艺
048-0096、 冲击压缩物质的装置和方法以及等离子体阴极
0119-0097、 一种Z－箍缩丝阵负载及辅助装置
058-0098、 等离子体辅助消除结晶
0148-0099、 一种阳极内冷式低功率空气等离子体发生器
0040-0100、 用于产生等离子体的天线和包括其的等离子体处理装置
141-0101、 等离子体切割机割炬的放电装置
151-0102、 一种空气等离子体发生器的长寿命阴极
0057-0103、 等离子体催化剂
074-0104、 等离子弧表面强化发生装置
052-0105、 相位（能量）开关-驻波电子直线加速器
0145-0106、 常压射频低温冷等离子体放电通道装置
130-0107、 线－板式脉冲放电等离子体发生装置
126-0108、 无损隔热等离子体谐振腔
0118-0109、 重离子加速器高频电压幅度稳定装置
142-0110、 一种脉冲高能量密度等离子体的发生装置
084-0111、 离子源控制器
0067-0112、 等离子割炬
0086-0113、 用于制膜设备的多用途等离子体喷枪
0028-0114、 等离子体谐振腔的动态设计方法和装置
108-0115、 微波离子源陶瓷自成靶强流中子管
0059-0116、 等离子体辅助连接
0109-0117、 一种用于喷涂工艺的等离子发生器
0073-0118、 偶合式表面波等离子体发生器
0080-0119、 网格式射频等离子体发生器
0056-0120、 等离子体辅助涂覆
0147-0121、 井下中子管调头式脉冲中子发生器
0061-0122、 速调管同时做为微波源和电子源的高效加速器
0012-0123、 用于产生等离子体的设备及离子化过程和其应用
0116-0124、 常压低温等离子体产生装置
101-0125、 一种高效离子发生器
0055-0126、 多个辐射源的等离子体产生和处理
0134-0127、 一种新型的常压射频冷等离子体发生器
0097-0128、 紧凑型加速器辐照装置
047-0129、 粒子加速器
0110-0130、 一种高气压微波等离子体激励装置
149-0131、 一种等离子体材料处理设备
0072-0132、 多功能日光灯电子镇流器
0071-0133、 驱波直流加速器“平行分离”式输入耦合器
0033-0134、 射频等离子发生器
0011-0135、 常压等离子体产生器
0075-0136、 液态金属冷却的旋转靶装置
004-0137、 用于调节从粒子加速器中提取的电子束的强度的装置和方法
032-0138、 感应式热等离子体焊炬
0066-0139、 放电电源、溅射电源、以及溅射装置
023-0140、 用于固态电源的多线圈感应等离子体火炬
0099-0141、 智能超高真空热阴极电离规控制器
0035-0142、 等离子体加工装置和处理装置
037-0143、 以双频射频源产生与控制等离子体
0138-0144、 丝状等离子体反应器
0104-0145、 热喷涂超声速电弧等离子喷枪
0046-0146、 粒子加速器
0043-0147、 保护涂料组合物
0132-0148、 常压射频圆筒形外射冷等离子体发生器
0121-0149、 一种原子束源系统
0014-0150、 等离子体装置及等离子体生成方法
025-0151、 产生等离子的等离子源线圈和使用等离子源的等离子腔
0002-0152、 感应耦合天线以及使用该天线的等离子体处理装置
020-0153、 判定辉光放电装置中电弧的方法及高频电弧放电抑制装置
146-0154、 改良的微波等离子产生器
0155-0155、 电子加速器加速管保护环装置BR
摘要、 等离子体内湍流式切割机割炬，具有圆锥形的湍流回流电弧室、平端面或凹面阴极表面、具有中心突出的“凹”形阴极背后的水冷空唬涔ぷ鞯缪勾?0～120V提高到160～200V，本实用新型可使切割机整机电源效率大提高，阴极寿命从2小时延长至10小时，切割能力大增强，在同等条件下，如切割厚度与切割速度比目前国内外产品提高约30～50％。
0027-0002、 双阳极热等离子发生器
摘要、 本发明公开了一种双阳极热等离子发生器，属于金属及其氧化物或碳化物的喷涂设备。该等离子发生器，包括枪体、阴极和阳极，其特征在于枪体中设有圆锥形头部的棒状阴极，阴极前面沿轴向设置两个圆筒状阳极喷嘴，即内阳极和外阳极，中间用耐高温陶瓷环绝缘连接。直流电源的正极连接在外阳极上，负极则连接在阴极上，两阳极间用转移电弧开关连接。本发明提出的热等离子发生器具有电弧稳定性好，使用寿命长的特点，尤其适于内送粉的等离子喷涂。
0017-0003、 使匀速直线运动的电荷辐射大能量的装置
一种使匀速直线运动的电荷辐射大能量的装置包括壳体、加热灯丝、阴极、栅极、聚束极和阳极，壳体内为高真空，加热灯丝、阴极、栅极、聚束极和加速极依次呈直线排列设在壳体内，加热灯丝设在壳体的一端，阴极与其紧靠在一起，其它各极相间而置并与相应的电源连接，所述的阳极为圆环形并至少相间设置两个，所有阳极都与电源的正高压端连接；在壳体的另一端还设有电子收集电极电 子收集电极与电源的正低压端连接。具有输出功率大，设备成本低，容易实施等特点。
0120-0004、 多重微放电协同一体的放电装置
摘要、 本实用新型用一个交流高压电源给反应器提供电能，由附着栅状或面状电极的均匀质地和厚度的介质层构成反应器放电气隙，在气隙空间产生介质阻挡放电，在栅状电极附着的介质层表面产生沿面放电，即两种放电同时在同一放电区内发生。通过增加介质层、改变电极布局和电源连线，可以在放电装置反应器内形成多通道放电气隙，在每一气隙内均可产生上述协同一体的微放电，还可以在放电区内产生双重沿面放电。介质层可以为平板或圆筒结构。本实用新型提供的放电装置能够大幅提高能量利用率，并且具有加工简单、整体体积小、易于反应器冷却、和易于多路放电通道并联或扩大反应器规模等优点。
0006-0005、 等离子体发生系统
摘要、 本发明提供了一种等离子体发生系统。该等离子体发生系统包括：一个微波发生器，用于产生微波；一个折射器，它通过改变上述微波的传播方向以平面波的形式传送上述微波；一个电磁单元，用以对上述微波形成的等离子体施加磁场并使之产生电子回旋谐振。
0082-0006、 磁偏滤导管式阴极弧等离子体源
摘要、 本实用新型公开了一种金属蒸汽真空弧等离子体源，在源与靶室间设置了一个具有轴向磁场的弯曲磁导管，等离子体沿管内轴向磁力线进入靶室，而重杂质粒子由于惯性被滤除，为了提高滤除效果及防止溅射污染，在磁导管的两端加设了孔栏。本实用新型适用于材料表面改性及制备特种功能膜，能生成更纯净细腻的高质量膜。
0045-0007、 ECR等离子体源和ECR等离子体装置
摘要、 本发明的ECR等离子体源由在与等离子体流垂直的面内有大致矩形截面的等离子体生成室(10)；在与等离子体流垂直的面内卷绕成大致矩形的磁性线圈(20、21)；和端部为终端的直接导入方式或分支结合导入方式的导波管(30)或微波空洞共振器构成。将微波从设置在该导波管(30)或微波空洞共振器内部的与微波同相部相当的侧面上的多个开口部(34)，传送到等离子体生成室(10)内。另外，ECR等离子体装置中具有所述ECR等离子体源，还具有移动大型试料用的试料移动机构。
0124-0008、 等离子发生器
摘要、 本实用新型公开一种气相合成法制备纳米氮化硅陶瓷粉体的等离子发生器，它包括正阳极体设有以锥状间隙配合的阴极、阳极部件，靠近阴极、阳极部件的配合位置处设有能包附在离子弧周围并以气旋方式输入起弧、转弧气体的气旋装置本实用新型在结构上采用了旋转气流的方式压缩、阳极的机械结构压缩及冷却水压缩，使所产生的离子弧被有效的压缩集中，从而形成高速、稳定火焰的离子弧，为制备高质量的纳米氮化硅陶瓷粉体提供了可靠的能源保障。
0150-0009、 一种大功率等离子体弧电源
摘要、 本实用新型公开了一种大功率等离子体弧电源，由主电路、取样电路、反馈电路、电流调节电路、放大电路、触发电路及高频振荡器电路组成，特征是：主电路由三组串联的可控硅电路并联而成，其并联的阳极通过电抗器连接等离子体发生器的阴极，并联的阴极通过导线，一路连接该发生器的大阳极、第二阳极，另一路通过高频振荡器次级线圈连接该发生器的小阳极，每组可控硅中间抽头连到三相交流电源上，可控硅的控制极连到触发电路上；取样电路，由三组交流互感器电路并联组成，分别装在三相交流电源线上；优点是采用可控硅整流的恒流源，作为等离子体发生器的电源，其功率可调范围宽(在25KW～300KW)、工作稳定，能保障焚烧炉处理垃圾所需要的加热温度。
0034-0010、 等离子体处理装置与等离子体处理方法
摘要、 一种等离子体处理装置与等离子体处理方法能够保持稳定的等离子体放电、实现充分的等离子体处理、降低等离子体温度。该等离子体处理装置包括多个电极，在多个电极之间形成一放电空间，并且一电介质材料设置于至少一个电极的放电空间一侧。一等离子体产生气体提供到放电空间中，且一电压作用于施加在电极之间，以在基本等于大气气压的气压下、在放电空间中产生放电，并且从放电空间提供由放电产生的等离子体。在该等离子体处理装置中，在电极之间施加的电压的波形是无静止期间的交流电压波形。该交流电压波形的上升和下降时间的至少一项为100μs或更短。重复频率在0.5至1000kHz的范围中。在电极之间施加的电场强度在0.5至200kV，cm的范围中。
0114-0011、 一种丝阵负载的定位与支撑装置
021-0012、 一种电子束的束流引导装置
111-0013、 智能溅散离子泵电源控制器
0031-0014、 高频电源及其控制方法、和等离子体处理装置
083-0015、 电弧等离子体发生器脉动进气装置
005-0016、 等离子体处理器装置和方法以及天线
0085-0017、 一种内孔淬火或熔凝硬化用等离子炬
0117-0018、 制备超硬薄膜的离子源装置的滤质器
0098-0019、 新型电子直线加速器
0153-0020、 一种等离子体驱动装置
102-0021、 生产核径迹膜的连续蚀刻装置
018-0022、 由光学钳的静态阵列实现流动粒子横向偏斜和分离的装置和方法
123-0023、 一种大功率空气等离子体发生器
0154-0024、 工业用电子加速器引出窗
0019-0025、 由冷却液体驱动的固体转动靶
0007-0026、 一种活性气体发生方法及其装置
044-0027、 凝胶和粉末的制备
0090-0028、 电容型常温等离子体发生片
0135-0029、 大角度弯转切割磁铁
0003-0030、 用来把在内燃机或燃气轮机中可用的燃料等离子体催化转换成一种合成气体的方法...
0010-0031、 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪
0041-0032、 低纵横比电感耦合等离子发生器
0105-0033、 空气等离子体负氧离子束流装置
089-0034、 陶瓷电容型等离子体发生片
0029-0035、 一种强电离放电非平衡等离子源及制备等离子的方法
036-0036、 微波等离子体源
0127-0037、 等离子喷焊枪内送粉缩放型喷嘴
0144-0038、 均匀大面积常压射频冷等离子体发生器
0053-0039、 等离子体产生设备及等离子体处理设备
0038-0040、 等离子体处理装置
001-0041、 等离子体处理容器内部件
0095-0042、 一种小型加速器辐照装置
079-0043、 水下等离子弧发生器
0081-0044、 用于金属表面强化的小尺寸等离子喷头
0076-0045、 微波等离子体炬
0094-0046、 一种新型的强流真空绝缘串列加速器
0054-0047、 在流体中形成的等离子体
0069-0048、 以全息光学陷阱制造、筛分和融合材料的装置和方法
092-0049、 加速器辐照装置
139-0050、 齿状等离子体反应器
0064-0051、 等离子天线
0062-0052、 等离子体处理装置
112-0053、 离子伯恩斯坦波天线
0077-0054、 一种等离子体发生装置
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