等离子体、等离子体发生器、微波等离子体、产生等离子体及生产工艺技术
0096-0001、 改变从加速器中引出的粒子束的能量的装置
摘要、 本发明涉及一种改变从粒子加速器中引出的粒子束的能量的装置其特征在于它包括一降能器，该降能器实质由物质块组成的，该物质块的厚度(E1+E2)以一定的梯级不连续地变化，梯级的能量的间隔是可变化的并且是确定的，以使粒子束的强度的变化在两个连续梯级之间的边界上达到在所考虑的两个相邻的梯级的每个梯级的出口处获得的最大强度的最大15％，优选最大10％。
0102-0002、 使用毛细管电极放电等离子体簇射的等离子体处理装置
摘要、 本发明公开了一种用于工件的等离子体处理装置包括：鹗舻缂?11)；具有第一和第二侧并通过第一侧与金属电极结合的毛细管介电电极(12)，其中毛细管介电电极具有至少一个毛细管；包围金属电极和毛细管介电电极第一侧的屏蔽体(13)，其中，屏蔽体具有第一和第二端部；以及向金属电极(11)提供气体的气体供给装置(14)。
0011-0003、 大区域微波等离子装置
适宜在较大区域上维持一个基本均匀的等离子区的微波能量装置。本发明最主要的结构是绕微波施加器设置有一隔离窗，所述隔离窗是由一种微波能通过它从施加器发射到等离子反应容器中的材料构成，该隔离窗的形状能最佳地承受压力，这种方式能使隔离窗的厚度最小，以便快速冷却，从而可达到高功率而不破坏隔离窗。
0016-0004、 微波等离子体的产生方法和装置
摘要、 微波等离子体的产生方法和装置。涉及到微波产生低温等离子体的技术适用于薄膜加工和材料处理等。本发明在等离子体反应室和谐振腔外设置一对稀土永磁铁，在等离子体区形成横向“磁瓶”场，对带电粒子形成三维封闭约束，并产生电子回旋共振所需的磁场区域。由磁控管产生的微波能量直接耦合到谐振腔中使反应室中的气体离化形成等离子体。对多种气体包括反应气体，能在一个大气压到２×１０，sup，-4，sup，Torr气压下产生微波等离子体。
0045-0005、 离子束角度可调整的离子注入机
摘要、 一种离子束角度可调整的离子注入机，它包括将注入的气体分解为等离子状态的离子源；对所需离子进行分离的磁分析器；对分选出的注入离子加速的加速器；为在晶片整个面上均匀地注入加速的离子的扫描器；位于扫描器与晶片之间的法拉第盒，其与用于测量注入晶片的离子注入量的电流计连接，并包括用于调整通过法拉第盒的离子束角度的装置可望减少ＬＤＤ工艺时间和节约原材料，并能改善元件的电性能。
0074-0006、 高加速梯度直立式双射线医用驻波加速管
摘要、 本发明属于医疗仪器技术领域，包括驻波加速管本体，封接在该本体两端的电子枪与钛窗，与该本体侧壁相连的馈能矩形波导；其特征在于，该驻波加速管本体内有７—９个孔径为４—５ｍｍ的驻波加速腔形成的腔链。本发明具有长度较短，能直立在照射头上，而加速梯度又足够高，除提供６ＭＶ的ｘ线还，还能提供中能档下限的电子线的特点。
0058-0007、 用于离子源的旁热式阴极的端帽
摘要、 离子注入机用的离子源，包括限定气体电离区的导电室壁的气封室，其出口允许离子射出。基板使气封室对着将射出的离子形成离子束的结构配置。阴极一部分伸入气封室的开口中。阴极包括置有灯丝的内部区域的阴极体。阴极体包括内管件、同轴的外管件和端帽。端帽具有带径向延伸凸缘的横截面减小的主体部分。端帽压入内管件。给灯丝供电以加热该端帽，使其发射电子至电离区。该灯丝受阴极体保护，可免受气体电离区中激发等离子体的影响。
0145-0008、 微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法
摘要、 通过等离子体处理装置中的导波管(26)向处理室中导入微波，产生等离子体。通过反射监测器(40)和功率监测器(42)监测被在处理室内产生的等离子体反射的反射波的功率。此外，通过入射监测器(36)和频率监测器(48)监测由磁控管(24)产生的微波的频率。根据监测的反射波功率和频率控制供给到磁控管的功率。通过这种方法来控制等离子体密度使其恒定。
0152-0009、 层流电弧等离子体射流的材料表面处理方法
摘要、 本发明属于材料表面处理工艺涉及层流电弧等离子体射流的材料表面处理方法。本发明方法以直流非转移式层流等离子体射流发生器为热源，发生器与工件间无电的联接，各自完全独立，改变层流等离子体射流的能量、发生器出口与工件间的距离，发生器与工件间的空间夹角和相对移动速度，对各种导电材料的工件表面进行急冷急热的相变、熔敷、熔凝强化或改性处理。本发明方法具有较好的稳定性和可重复性，获得材料性能波动小、高硬度的表面强化层。
0054-0010、 动态束流传输线及其在术中放疗中的应用
摘要、 本发明提出一种动态的束流传输线及其在术中放疗中的应用。这种动态束流传输线，包括多个治疗臂，相邻两个治疗臂之间的联接即是一个关节，在每一个关节处有一对９０°偏转磁铁对接，两个９０°偏转磁铁均可绕其束流孔的中轴线旋转。将加速器产生的电子线引入所述动态束流传输线中，通过各个治疗臂的多维转动即可任意调节束流方向，在手术室中使用非常便利。采用该治疗臂系统的加速器装置重量轻、体积小、自屏蔽无需特殊防护。
0114-0011、 在电弧炉内便于再触发电弧的设备和方法
017-0012、 传递电弧的等离子燃烧器
0154-0013、 等离子体处理装置
122-0014、 利用射频加速电子的方法
062-0015、 回旋加速器显示器
0088-0016、 一种高气压微波等离子体激励装置
090-0017、 具有双离子源的处理系统
0084-0018、 纳米复合W－氧化物电极材料及其制备工艺
101-0019、 毛细管等离子发生器
0053-0020、 等离子电弧焊炬用电极
0034-0021、 流体射流的层流防护层
0056-0022、 等离子显示面板装置及其亮度控制方法
144-0023、 包含有曲折线圈天线的感应耦合等离子体发生设备
0029-0024、 利用磁场的微波增强型CVD系统和方法
027-0025、 利用磁场的微波增强型CVD系统和方法
077-0026、 等离子体处理装置及用这种装置进行等离子体处理的方法
087-0027、 微波等离子体源
0098-0028、 等离子体发生装置
070-0029、 大跨度回旋加速器
0143-0030、 辐射源、光刻设备和器件制造方法
035-0031、 螺旋波等离子处理方法及装置
012-0032、 用于喷镀狭槽的等离子喷枪延伸部
0123-0033、 用于在等离子聚合装置中固定电极的装置
067-0034、 混合型摆动器
0075-0035、 等离子体源
0134-0036、 等离子体处理装置和等离子体处理方法
064-0037、 用于等离子体处理粒子控制的等离子体净化方法
080-0038、 微波等离子体处理装置及其处理方法
121-0039、 具有甚高频并联谐振天线的等离子体处理设备
0150-0040、 节料型原子束发生器
0019-0041、 发生和点燃等离子体的方法和装置
057-0042、 高通量中性原子束流的制备技术
021-0043、 具有水冷却陶瓷密封管的高效感应等离子炬
0135-0044、 产生单中子微束的方法和装置
061-0045、 等离子体发生器电极、包括这种电极的等离子体发生器以及正在凝固的液态金属的...
0128-0046、 电感耦合等离子体处理装置
125-0047、 在低能模式中操作高能加速器的方法及装置
049-0048、 离子注入器中产生离子的方法和装置
153-0049、 等离子体处理装置
046-0050、 等离子体源
0006-0051、 具有可调径向和切向等离子气体流比的改进的等离子焰喷射枪的方法及装置
020-0052、 超导加速管及其制造方法
100-0053、 用于离子束照射装置的离子产生装置
023-0054、 触发点燃CVD-等离子体的方法及装置
052-0055、 等离子体处理装置和方法
037-0056、 低温等离子体发生器
0094-0057、 射频等离子发生器
0085-0058、 等离子体加速器装置
148-0059、 电磁感应加速器
0063-0060、 轴耦合驻波加速管的能量开关
0132-0061、 多重等离子体发生装置
111-0062、 直线加速器
0103-0063、 等离子区的异常放电检测装置及其检测方法
131-0064、 能量可调电子直线加速器
0028-0065、 一种等离子炬
0073-0066、 磁驱动高压非平衡等离子体产生方法及装置
136-0067、 用空气等离子对导电性材料进行处理的方法及装置
104-0068、 直线加速器
0126-0069、 气体自激电离能量发生器及应用方法和产品
0040-0070、 等离子体工艺设备的腔体腐蚀
0025-0071、 一种用于化学过程的炬装置
115-0072、 等离子体加速器装置
118-0073、 高频等离子体源
0060-0074、 电弧转变电路
0120-0075、 高频匹配网络
0139-0076、 一种驻波电子直线加速器
0005-0077、 高频感应耦合等离子分析方法
130-0078、 强离子加速器
0069-0079、 射频等离子体发生器的比值自动调谐算法
095-0080、 应用粒子束处理目标体积的方法和实施这种方法的装置
097-0081、 等离子体真空泵
0091-0082、 一种大气压放电表面等离子体源
0108-0083、 原子束发生器
0018-0084、 电源
0039-0085、 等离子体发生器的起弧增强电路
0059-0086、 脉冲阳极等离子体浸没注入
0001-0087、 在液态稳定等离子发生器中半转移电弧及其应用方法
036-0088、 微波等离子吹管及产生等离子体的方法
033-0089、 能够产生高能等离子体束的等离子体束产生方法及其装置
083-0090、 真空等离子体避雷方法和装置
099-0091、 一种加速器噪声故障诊断方法
109-0092、 高能加速器用脉冲电源
0078-0093、 用于产生等离子体的电极、使用该电极的等离子体处理设备以及利用该设备的等离...
0002-0094、 耦合腔无检测孔的驻波加速管的调试方法
042-0095、 射频加速系统和安置有该系统的环形加速器
0022-0096、 材料等离子处理的方法和装置
137-0097、 组合有双层线圈型天线的感应耦合式等离子发生设备
0076-0098、 直线加速器
0082-0099、 产生长弧等离子体射流的装置及方法
146-0100、 场反向配置中的等离子体的磁和静电约束
0071-0101、 离子束集中器及配有该集中器的等离子体推进器
0089-0102、 边缘聚焦非线性阻尼储存环
0129-0103、 静电加速器及其离子注入设备
0117-0104、 双等离子体喷管装置
055-0105、 一种等离子体蚀刻装置及其方法
110-0106、 低温等离子发生器
0024-0107、 一种用于化学过程的炬装置
026-0108、 化学加工用炬装置
113-0109、 大气压介质阻挡放电等离子体枪
0140-0110、 施加光梯度力的设备
0010-0111、 等离子体的产生方法和装置
105-0112、 用强激光产生飞秒兆伏能量电子束的方法
004-0113、 等离子喷枪的喷嘴装置
093-0114、 微型中子管及其制作方法
013-0115、 高效双弧等离子喷枪
0065-0116、 用于等离子体工艺的工艺检测系统
0149-0117、 大功率微波等离子体炬
0051-0118、 一种磁控电弧等离子体加热金属件的方法及装置
107-0119、 用于等离子体诊断的复合探针
0079-0120、 基底电极等离子体发生装置及使用该装置处理物质和材料的方法
141-0121、 常压射频冷等离子体系统及其喷枪
0081-0122、 等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法
003-0123、 产生具有加热并展宽等离子喷射的等离子流的方法及装置
050-0124、 一种提高离子源束流强度的方法
106-0125、 一种自适应式Z－箍缩丝阵负载及制备方法
124-0126、 等离子体加工系统和方法
112-0127、 微波电子回旋共振等离子体均匀化方法及装置
147-0128、 场反转配置中的受控聚变和直接能量转换
0031-0129、 一种专用于等离子体发生器的电源
0066-0130、 负离子回旋加速器的调能引出方法
092-0131、 等离子体处理设备和等离子体处理方法
116-0132、 感应耦合等离子体发射装置用的天线电极
0138-0133、 等离子发生器
0038-0134、 等离子焰炬焊枪
0015-0135、 改进的等离子弧起弧方法
127-0136、 等离子体处理方法及装置
133-0137、 产生单粒子纳米束的方法和装置
044-0138、 触发点燃CVD－等离子体的方法及装置
048-0139、 陶瓷材料的微波－等离子分步烧结技术
151-0140、 非哈密顿力学系反刘维定理强阻尼带电粒子储存环
0008-0141、 用于等离子体枪的气体分配环
0119-0142、 用于扼制基底电荷累积的离子速辐照装置和方法
043-0143、 冷却电子束加速器窗口叶片的方法和装置
032-0144、 微波加热激发低温等离子体方法
041-0145、 微波传播和吸收区分开的等离子体装置
030-0146、 电气放电处理粒料用的反应器和方法
068-0147、 等离子腐蚀反应器及用于新出现的膜的方法
009-0148、 具有可调阴极的电弧设备
0047-0149、 表面放电元件及其制造方法
072-0150、 分离作用射频四极场加速方法与装置
142-0151、 用于在大气压下产生低温等离子体的装置
007-0152、 可调节阴极的等离子枪
0014-0153、 等离子体收缩系统及其使用方法
086-0154、 等离子发生器的长寿命阳极
0155-0155、 利用光钳操纵材料用的设备
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摘要、 本发明涉及一种改变从粒子加速器中引出的粒子束的能量的装置其特征在于它包括一降能器，该降能器实质由物质块组成的，该物质块的厚度(E1+E2)以一定的梯级不连续地变化，梯级的能量的间隔是可变化的并且是确定的，以使粒子束的强度的变化在两个连续梯级之间的边界上达到在所考虑的两个相邻的梯级的每个梯级的出口处获得的最大强度的最大15％，优选最大10％。
0102-0002、 使用毛细管电极放电等离子体簇射的等离子体处理装置
摘要、 本发明公开了一种用于工件的等离子体处理装置包括：鹗舻缂?11)；具有第一和第二侧并通过第一侧与金属电极结合的毛细管介电电极(12)，其中毛细管介电电极具有至少一个毛细管；包围金属电极和毛细管介电电极第一侧的屏蔽体(13)，其中，屏蔽体具有第一和第二端部；以及向金属电极(11)提供气体的气体供给装置(14)。
0011-0003、 大区域微波等离子装置
适宜在较大区域上维持一个基本均匀的等离子区的微波能量装置。本发明最主要的结构是绕微波施加器设置有一隔离窗，所述隔离窗是由一种微波能通过它从施加器发射到等离子反应容器中的材料构成，该隔离窗的形状能最佳地承受压力，这种方式能使隔离窗的厚度最小，以便快速冷却，从而可达到高功率而不破坏隔离窗。
0016-0004、 微波等离子体的产生方法和装置
摘要、 微波等离子体的产生方法和装置。涉及到微波产生低温等离子体的技术适用于薄膜加工和材料处理等。本发明在等离子体反应室和谐振腔外设置一对稀土永磁铁，在等离子体区形成横向“磁瓶”场，对带电粒子形成三维封闭约束，并产生电子回旋共振所需的磁场区域。由磁控管产生的微波能量直接耦合到谐振腔中使反应室中的气体离化形成等离子体。对多种气体包括反应气体，能在一个大气压到２×１０，sup，-4，sup，Torr气压下产生微波等离子体。
0045-0005、 离子束角度可调整的离子注入机
摘要、 一种离子束角度可调整的离子注入机，它包括将注入的气体分解为等离子状态的离子源；对所需离子进行分离的磁分析器；对分选出的注入离子加速的加速器；为在晶片整个面上均匀地注入加速的离子的扫描器；位于扫描器与晶片之间的法拉第盒，其与用于测量注入晶片的离子注入量的电流计连接，并包括用于调整通过法拉第盒的离子束角度的装置可望减少ＬＤＤ工艺时间和节约原材料，并能改善元件的电性能。
0074-0006、 高加速梯度直立式双射线医用驻波加速管
摘要、 本发明属于医疗仪器技术领域，包括驻波加速管本体，封接在该本体两端的电子枪与钛窗，与该本体侧壁相连的馈能矩形波导；其特征在于，该驻波加速管本体内有７—９个孔径为４—５ｍｍ的驻波加速腔形成的腔链。本发明具有长度较短，能直立在照射头上，而加速梯度又足够高，除提供６ＭＶ的ｘ线还，还能提供中能档下限的电子线的特点。
0058-0007、 用于离子源的旁热式阴极的端帽
摘要、 离子注入机用的离子源，包括限定气体电离区的导电室壁的气封室，其出口允许离子射出。基板使气封室对着将射出的离子形成离子束的结构配置。阴极一部分伸入气封室的开口中。阴极包括置有灯丝的内部区域的阴极体。阴极体包括内管件、同轴的外管件和端帽。端帽具有带径向延伸凸缘的横截面减小的主体部分。端帽压入内管件。给灯丝供电以加热该端帽，使其发射电子至电离区。该灯丝受阴极体保护，可免受气体电离区中激发等离子体的影响。
0145-0008、 微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法
摘要、 通过等离子体处理装置中的导波管(26)向处理室中导入微波，产生等离子体。通过反射监测器(40)和功率监测器(42)监测被在处理室内产生的等离子体反射的反射波的功率。此外，通过入射监测器(36)和频率监测器(48)监测由磁控管(24)产生的微波的频率。根据监测的反射波功率和频率控制供给到磁控管的功率。通过这种方法来控制等离子体密度使其恒定。
0152-0009、 层流电弧等离子体射流的材料表面处理方法
摘要、 本发明属于材料表面处理工艺涉及层流电弧等离子体射流的材料表面处理方法。本发明方法以直流非转移式层流等离子体射流发生器为热源，发生器与工件间无电的联接，各自完全独立，改变层流等离子体射流的能量、发生器出口与工件间的距离，发生器与工件间的空间夹角和相对移动速度，对各种导电材料的工件表面进行急冷急热的相变、熔敷、熔凝强化或改性处理。本发明方法具有较好的稳定性和可重复性，获得材料性能波动小、高硬度的表面强化层。
0054-0010、 动态束流传输线及其在术中放疗中的应用
摘要、 本发明提出一种动态的束流传输线及其在术中放疗中的应用。这种动态束流传输线，包括多个治疗臂，相邻两个治疗臂之间的联接即是一个关节，在每一个关节处有一对９０°偏转磁铁对接，两个９０°偏转磁铁均可绕其束流孔的中轴线旋转。将加速器产生的电子线引入所述动态束流传输线中，通过各个治疗臂的多维转动即可任意调节束流方向，在手术室中使用非常便利。采用该治疗臂系统的加速器装置重量轻、体积小、自屏蔽无需特殊防护。
0114-0011、 在电弧炉内便于再触发电弧的设备和方法
017-0012、 传递电弧的等离子燃烧器
0154-0013、 等离子体处理装置
122-0014、 利用射频加速电子的方法
062-0015、 回旋加速器显示器
0088-0016、 一种高气压微波等离子体激励装置
090-0017、 具有双离子源的处理系统
0084-0018、 纳米复合W－氧化物电极材料及其制备工艺
101-0019、 毛细管等离子发生器
0053-0020、 等离子电弧焊炬用电极
0034-0021、 流体射流的层流防护层
0056-0022、 等离子显示面板装置及其亮度控制方法
144-0023、 包含有曲折线圈天线的感应耦合等离子体发生设备
0029-0024、 利用磁场的微波增强型CVD系统和方法
027-0025、 利用磁场的微波增强型CVD系统和方法
077-0026、 等离子体处理装置及用这种装置进行等离子体处理的方法
087-0027、 微波等离子体源
0098-0028、 等离子体发生装置
070-0029、 大跨度回旋加速器
0143-0030、 辐射源、光刻设备和器件制造方法
035-0031、 螺旋波等离子处理方法及装置
012-0032、 用于喷镀狭槽的等离子喷枪延伸部
0123-0033、 用于在等离子聚合装置中固定电极的装置
067-0034、 混合型摆动器
0075-0035、 等离子体源
0134-0036、 等离子体处理装置和等离子体处理方法
064-0037、 用于等离子体处理粒子控制的等离子体净化方法
080-0038、 微波等离子体处理装置及其处理方法
121-0039、 具有甚高频并联谐振天线的等离子体处理设备
0150-0040、 节料型原子束发生器
0019-0041、 发生和点燃等离子体的方法和装置
057-0042、 高通量中性原子束流的制备技术
021-0043、 具有水冷却陶瓷密封管的高效感应等离子炬
0135-0044、 产生单中子微束的方法和装置
061-0045、 等离子体发生器电极、包括这种电极的等离子体发生器以及正在凝固的液态金属的...
0128-0046、 电感耦合等离子体处理装置
125-0047、 在低能模式中操作高能加速器的方法及装置
049-0048、 离子注入器中产生离子的方法和装置
153-0049、 等离子体处理装置
046-0050、 等离子体源
0006-0051、 具有可调径向和切向等离子气体流比的改进的等离子焰喷射枪的方法及装置
020-0052、 超导加速管及其制造方法
100-0053、 用于离子束照射装置的离子产生装置
023-0054、 触发点燃CVD-等离子体的方法及装置
052-0055、 等离子体处理装置和方法
037-0056、 低温等离子体发生器
0094-0057、 射频等离子发生器
0085-0058、 等离子体加速器装置
148-0059、 电磁感应加速器
0063-0060、 轴耦合驻波加速管的能量开关
0132-0061、 多重等离子体发生装置
111-0062、 直线加速器
0103-0063、 等离子区的异常放电检测装置及其检测方法
131-0064、 能量可调电子直线加速器
0028-0065、 一种等离子炬
0073-0066、 磁驱动高压非平衡等离子体产生方法及装置
136-0067、 用空气等离子对导电性材料进行处理的方法及装置
104-0068、 直线加速器
0126-0069、 气体自激电离能量发生器及应用方法和产品
0040-0070、 等离子体工艺设备的腔体腐蚀
0025-0071、 一种用于化学过程的炬装置
115-0072、 等离子体加速器装置
118-0073、 高频等离子体源
0060-0074、 电弧转变电路
0120-0075、 高频匹配网络
0139-0076、 一种驻波电子直线加速器
0005-0077、 高频感应耦合等离子分析方法
130-0078、 强离子加速器
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