镀膜,镀膜设备,镀膜机,镀膜工艺类技术资料
SY5753-0107-0001、 钢管热镀锌用压缩空气插入式内吹装置
摘要、 本实用新型提供一种钢管热镀锌用压缩空气插入式内吹装置它由支架、大梁、导轨、滑块、齿条、吹气管、吹气头、吹气管行走装置和管接头组成，大梁倾斜固定于支架上，其斜度与热镀锌锅的磁力输送辊子组相同导轨和齿条平衡安置于整条大梁上，由底板以及电机、链传动机构和齿轮连接组成的吹气管行走装置以其底面与置于导轨上的滑块连接在一起，其齿轮与齿条啮合，吹气管的上端通过一块联接板与底板连接，并与导轨平衡，吹气头安装于吹气管的下端头，管接头的下接头固定于底板上，并与吹气管连通，其上接头固定于导轨下端的大梁上，并与压缩气源连接。采用该装置清除管内积锌可获得噪音低、无污染、减少粉尘、不需要蒸汽、节省能耗和产品质量好等有益效果。
SY5753-0193-0002、 免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构
摘要、 本实用新型属于光学设备辅助装置技术领域，是一种免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构。该机构的主要特点是：在筒体上端面的圆周端口处固定有基板挂装组件，外圆周上排列设置有用于安装镀膜工件的基板基板的上部通过挂装孔与基板挂装组件连接，下部通过插装槽孔与筒体下部的定位件连接。该装卸机构采用直接装卡的固定方式，可大大缩短基板的装卸时间，由于不再使用工具装卸基板因而避免了膜料飞扬而产生的玻璃零件表面缺膜、点子等疵品有效的提高了产品的质量。与现有技术相比，该机构具有结构设计合理、安装方便、固定牢靠等优点。
SY5753-0052-0003、 投影管蒸铝加热装置
本实用新型公开了一种投影管蒸铝加热装置包括加热线圈，加热线圈通过加热线圈固定螺钉与加热电极相联接，加热电极固定在加热支架圆盘档板上，在加热支架圆盘档板上还设置有套筒，套筒将加热电极包在其中，在加热支架圆盘档板上设置有加热支架排气孔，在套筒上与加热线圈固定螺钉相对应处设置有调整加热线圈固定螺钉的小孔。采用本实用新型能够解决因蒸铝时造成的管颈内壁划伤而引起的炸裂和寄生打火不良等现象。
SY5753-0028-0004、 液相沉积生产装置
摘要、 本实用新型系有关于一种液相沉积(LPD、生产装置其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备，及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。废液回收处理设备包含两只以上的废液储存槽。其中并搭配相关管路阀体控制组件。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温液相沉积，可使饱和反应液过滤、循环、加热使用，达到良好的沉积薄膜可靠度。
SY5753-0206-0005、 含有楔形均流坝的气刀
摘要、 本实用新型涉及用于涂镀、表面处理的气刀，尤其涉及含有均匀气流的气刀。一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，其特征是气刀体内含有楔形均流坝，楔形均流坝置于进气口前方，出气口位于楔形均流坝后方。楔形均流坝面对进气口侧的楔面斜角小于出气口侧的楔面斜角。楔形均流坝为多块，沿气刀体内气流方向排列。本实用新型提高了气刀出气口气流或压力的均匀性，气刀结构简单，加工容易，成本低。
SY5753-0119-0006、 高频电火花涂覆装置
摘要、 本装置属于一种高频电火花涂覆装置该装置由脉冲电源、可编程序控制器及其输入输出部件、振动头组成，其中脉冲电源由CMOS集成电路主振级、V-MOS场效应管V58推动级、8个V-MOS大功率管功率级组成，其中正极接石墨电极，负极接工件，其联接是前面为主振级，由CMOS集成电路构成，其输出联接推动级，推动级电路由场效应管V58组成，推动级的输出与功率级相接，功率级由大功率场效应管V50组成，且为8路并联输出，功率级输出联接电极电 极直接与加工机件接触。优点：结构简单，采用大功率均效应管，放电频率高，单个脉冲能量小，激光涂覆加工件表面质量高，是一种较为理想的涂覆机供电设备。
SY5753-0157-0007、 一种塑料薄膜镀铝真空腔
摘要、 一种塑料薄膜镀铝真空腔涉及塑料制品金属镀膜技术领域，它由真空腔体、塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟组成，塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟固定安装在真空腔体内，薄膜拉张鼓与冷却镀鼓平行安装相邻有间隔，蒸发舟位于冷却镀鼓与薄膜拉张鼓间的正下方。本实用新型工作时，蒸发舟发出的铝蒸汽对被冷却镀鼓以及薄膜拉张鼓拉开的塑料薄膜镀铝，解决了镀铝过程塑料薄膜易皱折的技术问题，被镀铝的塑料薄膜镀铝层厚薄均匀、表面平整。
SY5753-0159-0008、 真空离子镀膜机
摘要、 本实用新型涉及一种可对大面积板材进行真空离子镀膜的设备，包括真空镀膜室，传动装置密封门，真空机组，真空镀膜室包括第一镀膜区和设置在第一镀膜区左右两端并与第一镀膜区相通的左传动区和右传动区，在第一镀膜区内有多个离子发射源，传动装置设置在左传动区和右传动区内。本实用新型一次抽真空可完成一次镀膜作业，且作业时间缩短，成品颜色丰富且一致性好，可对大面积板材进行镀膜作业，解决了背景技术中真空离子镀膜机彩板尺寸小、作业效率低、成品颜色一致性差的技术问题。
SY5753-0110-0009、 一种可控气体渗氮设备
摘要、 本实用新型公开了一种可控气体渗氮设备，包括氨气供给系统分别接渗氮炉和经电动阀、电动调节器接检测电路中的微机，渗氮炉分别与U型管、氨分解率自动测定仪、热电偶接检测电路中的微机。采用将氨分解率自动测定仪的水位转变为电信号，通过微机对电信号进行测定、记录，并将该信号与设定值进入对比，从而实现对氮分解率(氮势、的控制。
SY5753-0132-0010、 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
摘要、 本实用新型涉及一种电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统，属于薄膜材料制备设备领域。该系统包括真空子系统(1、、溅射子系统(2、、气体混合及输入子系统(3、、等离子体辅助子系统(4、、电磁场约束子系统(5、、衬底加热及控温子系统(6、和衬底偏压子系统(7、组成；该系统能针对不同的薄膜材料体系、结构性能和应用目标，灵活又经济地改变或切换成膜技术和操作模式进行各种试验。
SY5753-0067-0011、 光学薄膜厚度在线实时监控仪
SY5753-0037-0012、 绝热式等离子体金属表面处理装置
SY5753-0069-0013、 一种金刚石镀膜刀具装置
SY5753-0199-0014、 低辐射膜玻璃生产的磁控溅射设备
SY5753-0031-0015、 一种用于器件内壁涂层的台座
SY5753-0027-0016、 炉体回转式粉末渗锌设备
SY5753-0097-0017、 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
SY5753-0114-0018、 用于有机电致发光镀膜机的坩锅式蒸发源
SY5753-0127-0019、 中频感应渗碳炉
SY5753-0089-0020、 蒸镀装置
SY5753-0196-0021、 自动化潜入式内部回流装置
SY5753-0039-0022、 一种电感耦合射频等离子体辅助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置
SY5753-0007-0023、 晶体振荡器探头支撑结构
SY5753-0164-0024、 滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置
SY5753-0084-0025、 镀膜设备
SY5753-0095-0026、 卧式多层陶瓷薄膜气相沉积装置
SY5753-0183-0027、 辉光离子氮化炉真空炉体压力闭环自动控制装置
SY5753-0096-0028、 一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置
SY5753-0118-0029、 一种化学汽相沉积装置
SY5753-0176-0030、 一种可调控蒸气浓度的液体蒸发器
SY5753-0219-0031、 真空镀膜机用多路阀
SY5753-0083-0032、 真空镀膜机循环装片装置
SY5753-0145-0033、 真空用磁流体密封传动送片机构
SY5753-0087-0034、 真空井式无罐离子渗碳多用炉体
SY5753-0029-0035、 碳钢渗铝件
SY5753-0149-0036、 一种制备无机化合物薄膜的装置
SY5753-0018-0037、 一种用于制备大面积薄膜的自动旋转加热装置
SY5753-0013-0038、 快速制备大面积均匀纳米功能膜的装置
SY5753-0138-0039、 双室真空镀膜装置
SY5753-0056-0040、 分立双室离子镀膜机
SY5753-0134-0041、 镀膜设备及镀膜设备用的遮板单元
SY5753-0070-0042、 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理装置
SY5753-0088-0043、 植化膜层金属板
SY5753-0201-0044、 一种化学气相共沉积与渗透尾气处理装置
SY5753-0090-0045、 真空镀膜系统中真空室观察窗的转动档板
SY5753-0141-0046、 带钢连续热浸镀线用的气刀装置
SY5753-0113-0047、 锌铝真空蒸发镀膜机
SY5753-0190-0048、 孔式同轴激光熔覆喷嘴
SY5753-0178-0049、 铁路轴承套圈渗碳用套装支架
SY5753-0049-0050、 多节立式开合真空溅射离子镀炉
SY5753-0148-0051、 射频电源导入装置
SY5753-0024-0052、 一种沉积高质量薄膜低温等离子体装置
SY5753-0216-0053、 双室真空镀膜机
SY5753-0202-0054、 化学气相共沉积与渗透先驱体自动供给装置
SY5753-0023-0055、 化学镀镍液的再生处理装置
SY5753-0101-0056、 一种程控电脉冲型多功能离子轰击炉
SY5753-0166-0057、 双层介质阻挡放电等离子体反应器
SY5753-0033-0058、 具有粉末渗锌层的型钢
SY5753-0204-0059、 热浸镀锌的浸镀作业装置
SY5753-0017-0060、 一种用于沉积制备薄膜的装置
SY5753-0123-0061、 自动镀膜多弧离子镀膜机
SY5753-0100-0062、 高精度自动翻转移动对准机构
SY5753-0002-0063、 高真空卷绕镀膜磁粉离合器自动张力控制装置
SY5753-0009-0064、 一种热浸镀锌锅
SY5753-0153-0065、 以铜代银的保温瓶胆
SY5753-0012-0066、 用于渗硫工艺的活性硫离子发生器
SY5753-0042-0067、 激光熔覆同轴送粉喷嘴
SY5753-0073-0068、 多功能热浸镀模拟装置
SY5753-0030-0069、 制备泡沫导电膜的卷绕式真空镀膜机
SY5753-0167-0070、 扫描聚焦磁控溅射靶
SY5753-0203-0071、 热浸镀模拟试验装置用清渣装置
SY5753-0205-0072、 热浸镀锌的镀件毛边分离装置
SY5753-0194-0073、 一种表面抗菌、耐磨的不锈钢制品
SY5753-0217-0074、 双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备
SY5753-0093-0075、 有机发光组件的沉积设备
SY5753-0125-0076、 用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
SY5753-0155-0077、 一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源
SY5753-0061-0078、 异型陶瓷内衬钢管制造设备
SY5753-0117-0079、 新型磁场旋转外圆柱靶
SY5753-0115-0080、 双盘连接基片装置
SY5753-0181-0081、 配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置
SY5753-0195-0082、 高真空薄膜沉积室用的外热式高温电加热炉
SY5753-0211-0083、 镀膜机的真空反应室
SY5753-0172-0084、 偏电压赋能装置
SY5753-0057-0085、 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
SY5753-0124-0086、 新型的大型工业化合成等离子渗硫炉
SY5753-0085-0087、 热处理装置
SY5753-0021-0088、 一种金属线材热镀层的抹拭模具
SY5753-0169-0089、 表面催化剂精确施加装置
SY5753-0177-0090、 铁路轴承套圈渗碳用组合架
SY5753-0045-0091、 一种高温下不变形钨丝加热装置及专用的钨丝绕制支架
SY5753-0163-0092、 加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
SY5753-0185-0093、 一种多点式气体注入装置
SY5753-0020-0094、 多功能组合式纳米材料发生装置
SY5753-0006-0095、 多靶磁控溅射卷绕镀膜机
SY5753-0154-0096、 纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
SY5753-0215-0097、 太阳选择性吸收涂层连续镀膜装置
SY5753-0099-0098、 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
SY5753-0102-0099、 选择性镀膜装置
SY5753-0218-0100、 滑块往复式对靶溅射加热传动装置
SY5753-0036-0101、 一种具有前后稳压排气装置的网带式连续渗碳炉
SY5753-0079-0102、 光化学气相沉积设备
SY5753-0207-0103、 大尺寸柱状中空溅射阴极
SY5753-0064-0104、 氧化锌薄膜生长用金属有机化合物汽相淀积设备
SY5753-0197-0105、 双面一次成膜真空离子溅镀机
SY5753-0076-0106、 柱型封闭式钼舟
SY5753-0152-0107、 旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备
SY5753-0047-0108、 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备
SY5753-0156-0109、 双磁辅助式管状工件内表面改性装置
SY5753-0208-0110、 一种生产高阻隔真空镀铝薄膜的设备
SY5753-0174-0111、 真空辐射式加热器
SY5753-0040-0112、 化学喷镀镍专用装置
SY5753-0182-0113、 立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
SY5753-0060-0114、 陶瓷内衬弯头制造设备
SY5753-0214-0115、 溅射式镀膜机用靶材结构
SY5753-0041-0116、 激光熔覆送粉装置的自动控制机构
SY5753-0063-0117、 真空电弧自动引弧装置
SY5753-0050-0118、 真空腔的密闭装置
SY5753-0055-0119、 一种热处理装置
SY5753-0129-0120、 矩形平面多弧靶
SY5753-0186-0121、 光学镀膜装置
SY5753-0001-0122、 油管抗蚀氮化防腐处理装置
SY5753-0008-0123、 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
SY5753-0053-0124、 化学汽相沉积前质体的汽化器
SY5753-0143-0125、 旋转式磁控溅射靶
SY5753-0128-0126、 真空镀膜的线状掩膜具
SY5753-0034-0127、 网带式连续渗碳炉进料口密封装置
SY5753-0044-0128、 螺纹联接式硬脆合金靶
SY5753-0173-0129、 一种磁控溅射靶
SY5753-0200-0130、 高效式真空镀膜旋转支架
SY5753-0071-0131、 一种适用于真空微蒸发镀的装置
SY5753-0104-0132、 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品
SY5753-0059-0133、 中心架调节式离心制管机
SY5753-0184-0134、 一种高效除碳装置
SY5753-0161-0135、 一种离心式余锌清除机
SY5753-0165-0136、 用于制备薄膜的热催化器
SY5753-0151-0137、 化学液相沉积装置
SY5753-0179-0138、 隧道式超真空镀膜机
SY5753-0116-0139、 井式气体渗碳炉
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SY5753-0171-0141、 平面离子源增强沉积镀膜机
SY5753-0025-0142、 一种列管式热镀锌锅
SY5753-0135-0143、 镀膜设备用的基板承载座
SY5753-0133-0144、 超高真空化学气相沉积装置
SY5753-0212-0145、 滑轨往复式对靶溅射加热传动装置
SY5753-0150-0146、 制造飞机炭刹车盘的外热梯度气相沉积炉
SY5753-0170-0147、 热镀铝锌合金钢板
SY5753-0130-0148、 多功能卷绕镀膜机
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SY5753-0137-0150、 一种金属线材的热镀设备
SY5753-0062-0151、 钢丝镀层抹制器
SY5753-0051-0152、 镀锌炉
SY5753-0191-0153、 真空镀膜机加热装置
SY5753-0131-0154、 等离子体源增强沉积设备
SY5753-0011-0155、 螺栓热浸镀锌余锌甩除自动离心机
SY5753-0189-0156、 环式同轴激光熔覆喷嘴
SY5753-0139-0157、 带导轨的镀膜架
SY5753-0220-0158、 高温超导薄膜双面蒸镀装置
SY5753-0035-0159、 一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置
SY5753-0175-0160、 一种制备氧化锌晶须阵列材料的装置
SY5753-0168-0161、 沉积环及应用此沉积环的支撑装置
SY5753-0108-0162、 热处理装置
SY5753-0106-0163、 防腐涂层
SY5753-0016-0164、 溅镀装置
SY5753-0065-0165、 一种多功能的等离子体和激光束联合处理材料的装置
SY5753-0098-0166、 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
SY5753-0005-0167、 多元合金多功能镀膜
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SY5753-0188-0173、 双面溅射真空卷绕连续镀膜设备
SY5753-0158-0174、 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器
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SY5753-0038-0200、 永磁式平面磁控溅射靶
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SY5753-0210-0222、 内壁镀膜介电管的真空镀膜设备
SY5753-0223-0223、 一种立体超硬复合片坯料
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摘要、 本实用新型提供一种钢管热镀锌用压缩空气插入式内吹装置它由支架、大梁、导轨、滑块、齿条、吹气管、吹气头、吹气管行走装置和管接头组成，大梁倾斜固定于支架上，其斜度与热镀锌锅的磁力输送辊子组相同导轨和齿条平衡安置于整条大梁上，由底板以及电机、链传动机构和齿轮连接组成的吹气管行走装置以其底面与置于导轨上的滑块连接在一起，其齿轮与齿条啮合，吹气管的上端通过一块联接板与底板连接，并与导轨平衡，吹气头安装于吹气管的下端头，管接头的下接头固定于底板上，并与吹气管连通，其上接头固定于导轨下端的大梁上，并与压缩气源连接。采用该装置清除管内积锌可获得噪音低、无污染、减少粉尘、不需要蒸汽、节省能耗和产品质量好等有益效果。
SY5753-0193-0002、 免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构
摘要、 本实用新型属于光学设备辅助装置技术领域，是一种免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构。该机构的主要特点是：在筒体上端面的圆周端口处固定有基板挂装组件，外圆周上排列设置有用于安装镀膜工件的基板基板的上部通过挂装孔与基板挂装组件连接，下部通过插装槽孔与筒体下部的定位件连接。该装卸机构采用直接装卡的固定方式，可大大缩短基板的装卸时间，由于不再使用工具装卸基板因而避免了膜料飞扬而产生的玻璃零件表面缺膜、点子等疵品有效的提高了产品的质量。与现有技术相比，该机构具有结构设计合理、安装方便、固定牢靠等优点。
SY5753-0052-0003、 投影管蒸铝加热装置
本实用新型公开了一种投影管蒸铝加热装置包括加热线圈，加热线圈通过加热线圈固定螺钉与加热电极相联接，加热电极固定在加热支架圆盘档板上，在加热支架圆盘档板上还设置有套筒，套筒将加热电极包在其中，在加热支架圆盘档板上设置有加热支架排气孔，在套筒上与加热线圈固定螺钉相对应处设置有调整加热线圈固定螺钉的小孔。采用本实用新型能够解决因蒸铝时造成的管颈内壁划伤而引起的炸裂和寄生打火不良等现象。
SY5753-0028-0004、 液相沉积生产装置
摘要、 本实用新型系有关于一种液相沉积(LPD、生产装置其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备，及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。废液回收处理设备包含两只以上的废液储存槽。其中并搭配相关管路阀体控制组件。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温液相沉积，可使饱和反应液过滤、循环、加热使用，达到良好的沉积薄膜可靠度。
SY5753-0206-0005、 含有楔形均流坝的气刀
摘要、 本实用新型涉及用于涂镀、表面处理的气刀，尤其涉及含有均匀气流的气刀。一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，其特征是气刀体内含有楔形均流坝，楔形均流坝置于进气口前方，出气口位于楔形均流坝后方。楔形均流坝面对进气口侧的楔面斜角小于出气口侧的楔面斜角。楔形均流坝为多块，沿气刀体内气流方向排列。本实用新型提高了气刀出气口气流或压力的均匀性，气刀结构简单，加工容易，成本低。
SY5753-0119-0006、 高频电火花涂覆装置
摘要、 本装置属于一种高频电火花涂覆装置该装置由脉冲电源、可编程序控制器及其输入输出部件、振动头组成，其中脉冲电源由CMOS集成电路主振级、V-MOS场效应管V58推动级、8个V-MOS大功率管功率级组成，其中正极接石墨电极，负极接工件，其联接是前面为主振级，由CMOS集成电路构成，其输出联接推动级，推动级电路由场效应管V58组成，推动级的输出与功率级相接，功率级由大功率场效应管V50组成，且为8路并联输出，功率级输出联接电极电 极直接与加工机件接触。优点：结构简单，采用大功率均效应管，放电频率高，单个脉冲能量小，激光涂覆加工件表面质量高，是一种较为理想的涂覆机供电设备。
SY5753-0157-0007、 一种塑料薄膜镀铝真空腔
摘要、 一种塑料薄膜镀铝真空腔涉及塑料制品金属镀膜技术领域，它由真空腔体、塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟组成，塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟固定安装在真空腔体内，薄膜拉张鼓与冷却镀鼓平行安装相邻有间隔，蒸发舟位于冷却镀鼓与薄膜拉张鼓间的正下方。本实用新型工作时，蒸发舟发出的铝蒸汽对被冷却镀鼓以及薄膜拉张鼓拉开的塑料薄膜镀铝，解决了镀铝过程塑料薄膜易皱折的技术问题，被镀铝的塑料薄膜镀铝层厚薄均匀、表面平整。
SY5753-0159-0008、 真空离子镀膜机
摘要、 本实用新型涉及一种可对大面积板材进行真空离子镀膜的设备，包括真空镀膜室，传动装置密封门，真空机组，真空镀膜室包括第一镀膜区和设置在第一镀膜区左右两端并与第一镀膜区相通的左传动区和右传动区，在第一镀膜区内有多个离子发射源，传动装置设置在左传动区和右传动区内。本实用新型一次抽真空可完成一次镀膜作业，且作业时间缩短，成品颜色丰富且一致性好，可对大面积板材进行镀膜作业，解决了背景技术中真空离子镀膜机彩板尺寸小、作业效率低、成品颜色一致性差的技术问题。
SY5753-0110-0009、 一种可控气体渗氮设备
摘要、 本实用新型公开了一种可控气体渗氮设备，包括氨气供给系统分别接渗氮炉和经电动阀、电动调节器接检测电路中的微机，渗氮炉分别与U型管、氨分解率自动测定仪、热电偶接检测电路中的微机。采用将氨分解率自动测定仪的水位转变为电信号，通过微机对电信号进行测定、记录，并将该信号与设定值进入对比，从而实现对氮分解率(氮势、的控制。
SY5753-0132-0010、 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
摘要、 本实用新型涉及一种电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统，属于薄膜材料制备设备领域。该系统包括真空子系统(1、、溅射子系统(2、、气体混合及输入子系统(3、、等离子体辅助子系统(4、、电磁场约束子系统(5、、衬底加热及控温子系统(6、和衬底偏压子系统(7、组成；该系统能针对不同的薄膜材料体系、结构性能和应用目标，灵活又经济地改变或切换成膜技术和操作模式进行各种试验。
SY5753-0067-0011、 光学薄膜厚度在线实时监控仪
SY5753-0037-0012、 绝热式等离子体金属表面处理装置
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